JPH03161969A - イメージセンサおよびその製造方法 - Google Patents
イメージセンサおよびその製造方法Info
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- JPH03161969A JPH03161969A JP1301714A JP30171489A JPH03161969A JP H03161969 A JPH03161969 A JP H03161969A JP 1301714 A JP1301714 A JP 1301714A JP 30171489 A JP30171489 A JP 30171489A JP H03161969 A JPH03161969 A JP H03161969A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ファクシミリ、デジタル複写機等の入力部に
むいて、原稿情報を高解像度で読み取るための、長尺状
イメージセンサとその製造方法に関する。
むいて、原稿情報を高解像度で読み取るための、長尺状
イメージセンサとその製造方法に関する。
従来の技術
近年、イメージセンサはインテリジェントなOA化、F
A化に伴い、ファクシミリ、デジタルコビー コンピュ
ータへの画像入力装置等とじて開発が進められている。
A化に伴い、ファクシミリ、デジタルコビー コンピュ
ータへの画像入力装置等とじて開発が進められている。
特に、画像の高品位な読み取りに対する要望は、非常に
強まっている。このためにはイメージセンサの材料とし
て、単結晶シリコンを用いるのが性能的に優位である。
強まっている。このためにはイメージセンサの材料とし
て、単結晶シリコンを用いるのが性能的に優位である。
一方、密着型イメージセンサは、原稿サイズに等しい長
さの読み取り幅が必要であるのに対し、1チップの取み
取り幅は、シリコンのウエノ1サイズで規制されるため
、複数個のイメージセンサチップを連続的に配置しなけ
ればならない。その一例を第12図に示す。21は基板
であり、22はイメージセンサチップ群である。ここで
、これらのイメージセンサチップ22を、主走査方向に
一列にいかに高精度に位置決めを行うかが高品位な読み
取りの必要条件である。このために、イメージセンサチ
ップ220両端を各両端の受光部と最小限の間隔を残し
て高精度ダイシングを行い、そのチップ群を主走査方向
に一列にチップ端がちょうど接触するような機械精度で
位置合わせを行う製造方法が開発されている。
さの読み取り幅が必要であるのに対し、1チップの取み
取り幅は、シリコンのウエノ1サイズで規制されるため
、複数個のイメージセンサチップを連続的に配置しなけ
ればならない。その一例を第12図に示す。21は基板
であり、22はイメージセンサチップ群である。ここで
、これらのイメージセンサチップ22を、主走査方向に
一列にいかに高精度に位置決めを行うかが高品位な読み
取りの必要条件である。このために、イメージセンサチ
ップ220両端を各両端の受光部と最小限の間隔を残し
て高精度ダイシングを行い、そのチップ群を主走査方向
に一列にチップ端がちょうど接触するような機械精度で
位置合わせを行う製造方法が開発されている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記のように、イメージセンサチップ2
2の位置決めを機械的精度で行う製造方法では第13図
aのようなイメージセンサチップ22間での位置ずれに
よる読み取りラインの急激な空間的とび23、1たは第
13図bのようなイメージセンサチップ22の直線性か
らのずれによる読み取りラインの漸近的なゆがみ24等
が生じるため、読み取り品位を著しく劣化させるという
問題点を有していた。
2の位置決めを機械的精度で行う製造方法では第13図
aのようなイメージセンサチップ22間での位置ずれに
よる読み取りラインの急激な空間的とび23、1たは第
13図bのようなイメージセンサチップ22の直線性か
らのずれによる読み取りラインの漸近的なゆがみ24等
が生じるため、読み取り品位を著しく劣化させるという
問題点を有していた。
本発明は、上記問題点に鑑み、イメージセンサチップの
位置決めを高精度にかつ簡便に行うことを可能にしたイ
メージセンサおよびその製造方法を提供するものである
。
位置決めを高精度にかつ簡便に行うことを可能にしたイ
メージセンサおよびその製造方法を提供するものである
。
課題を解決するための手段
上記目的を達或するために、本発明のイメージセンサは
、透明基板上の主走査方向にほぼ連続して一列に配置し
た複数個のイメージセンサチップの透明基板側に受光部
および互いに所定の間隔だけ離れた位置に複数個の位置
合わせ用受光部を設け、透明基板のイメージセンサチッ
プ配置部側には位置合わせ用受光部に対応した位置に受
光部用遮光部とその周囲に受光部用透光部を有する受光
部用位置合わせマークを設けたものである。
、透明基板上の主走査方向にほぼ連続して一列に配置し
た複数個のイメージセンサチップの透明基板側に受光部
および互いに所定の間隔だけ離れた位置に複数個の位置
合わせ用受光部を設け、透明基板のイメージセンサチッ
プ配置部側には位置合わせ用受光部に対応した位置に受
光部用遮光部とその周囲に受光部用透光部を有する受光
部用位置合わせマークを設けたものである。
作用
本発明は上記の構成により、透明基板の遮光部とは反対
側から入射した光を位置合わせ用受光部で検出し、この
検出レベルをもとにイメージセンサチップを可動させる
ことにより位置合わせを光学的精度で行うことが可能と
なる。
側から入射した光を位置合わせ用受光部で検出し、この
検出レベルをもとにイメージセンサチップを可動させる
ことにより位置合わせを光学的精度で行うことが可能と
なる。
実施例
以下、本発明の一実施例のイメージセンサについて図面
を参照しながら説明する。第1図は、本発明の第1の実
施例におけるイメージセンサチップの平面図であり、第
2図は透明基板の平面図である。1はイメージセンサチ
ップ、2は受光部、3は位置合わせ用受光部である。筐
た4は透明基板、6は受光部用位置合わせマーク、6は
導体層である。受光部2は原稿の情報を光電変換する読
み取り用である。位置合わせ用受光部3は互いに所定の
間隔離れた位置に複数個設ければよいが、位置精度を向
上させるにはできるだけ間隔をあけ、例えば第1図のよ
うに、イメージセンサチップ1の端近くに設けるとよD
よい。1た位置合わせ用受光部3の大きさぱあ普り小さ
いと、感度が低くなり、精度悪化の原因となるので、読
み取り用受光部の1つと同じ程度の大きさにするのが望
1しい。
を参照しながら説明する。第1図は、本発明の第1の実
施例におけるイメージセンサチップの平面図であり、第
2図は透明基板の平面図である。1はイメージセンサチ
ップ、2は受光部、3は位置合わせ用受光部である。筐
た4は透明基板、6は受光部用位置合わせマーク、6は
導体層である。受光部2は原稿の情報を光電変換する読
み取り用である。位置合わせ用受光部3は互いに所定の
間隔離れた位置に複数個設ければよいが、位置精度を向
上させるにはできるだけ間隔をあけ、例えば第1図のよ
うに、イメージセンサチップ1の端近くに設けるとよD
よい。1た位置合わせ用受光部3の大きさぱあ普り小さ
いと、感度が低くなり、精度悪化の原因となるので、読
み取り用受光部の1つと同じ程度の大きさにするのが望
1しい。
一方、透明基板4上には、導体層6と位置合わせマーク
6を形戒している。
6を形戒している。
第3図に位置合わせマークの拡大図を示す。7は受光部
用遮光部、8は受光部用透光部である。
用遮光部、8は受光部用透光部である。
受光部用遮光部7はイメージセンサチップ1の位置合わ
せ用受光部3に対応した位置にあり、その周囲には受光
部用透光部8を設ける。受光部用遮光部7は位置合わせ
用受光部3とほぼ同じ形であればよいが、製造方法のよ
り簡略化のためには、受光部2に平行な方向および垂直
な方向に対称線をもつ長方形もしくは正方形が望鵞しい
。1た受光部用遮光部7の大きさは位置合わせ用受光部
3と同じ大きさもしくは最大でも位置合わせ許容誤差分
だけ大きいものである必要がある。
せ用受光部3に対応した位置にあり、その周囲には受光
部用透光部8を設ける。受光部用遮光部7は位置合わせ
用受光部3とほぼ同じ形であればよいが、製造方法のよ
り簡略化のためには、受光部2に平行な方向および垂直
な方向に対称線をもつ長方形もしくは正方形が望鵞しい
。1た受光部用遮光部7の大きさは位置合わせ用受光部
3と同じ大きさもしくは最大でも位置合わせ許容誤差分
だけ大きいものである必要がある。
つぎに第4図にイメージセンサチップ1と透明基板4と
の高精度の位置合わせの方法を示している。筐ず、イメ
ージセンサチップ1の受光部2および位置合わせ用受光
部3を作り込んでいる面と透明基板4の導体層6および
位置合わせマーク5の受光部用遮光部7を作り込んでい
る面を向かい合わせ、大1かな位置合わせを行う。これ
はイメージセンサチップ1のボンディングパッド9と導
体層6が電気的に接続できる程度の位置合わせ精度でよ
い。次に、電気的接続がとれる1で、イメージセンサチ
ップ1を加圧する。この電気的接続がとれると、位置合
わせ用受光部3の信号出力を検出することができる。そ
こで、透明基板4の受光部用遮光部7とは反対の側から
位置検出用入射光10を位置合わせ用受光部3に入射さ
せる。この入射光は透明基板40面に垂直に近い平行九
線が高い位置精度を得るためには望ましい。
の高精度の位置合わせの方法を示している。筐ず、イメ
ージセンサチップ1の受光部2および位置合わせ用受光
部3を作り込んでいる面と透明基板4の導体層6および
位置合わせマーク5の受光部用遮光部7を作り込んでい
る面を向かい合わせ、大1かな位置合わせを行う。これ
はイメージセンサチップ1のボンディングパッド9と導
体層6が電気的に接続できる程度の位置合わせ精度でよ
い。次に、電気的接続がとれる1で、イメージセンサチ
ップ1を加圧する。この電気的接続がとれると、位置合
わせ用受光部3の信号出力を検出することができる。そ
こで、透明基板4の受光部用遮光部7とは反対の側から
位置検出用入射光10を位置合わせ用受光部3に入射さ
せる。この入射光は透明基板40面に垂直に近い平行九
線が高い位置精度を得るためには望ましい。
第5図では、位置合わせ用受光部3と受光部用遮光部7
との相対位置JXに対してその検知出ヵ電圧Vの関係を
示している。例えば大壕かな位置合わせにより一例とし
て第6図aのようにJX2だけずれた位置壕で位置が合
ったとする。この時、位置合わせ用受光部3の出力はv
2だけ出力される。つぎにJ!,だけずれた位置にもっ
てくると出力はv,−1で小さくなる。最後に第6図C
のように、相対位置が0に近づくと、入射光10は受光
部用遮光部7でさえぎられ、位置合わせ用受光部3の出
力も小さくなう、最小値V。に近づく。したがって位置
合わせ用受光部3の検知出力を最小にする方向にイメー
ジセンサチップ1を動かすことによシ、光学精度で透明
基板4との位置合わせを行うことができる。その後、さ
らにイメージセンサチップ1を透明基板4に加圧して、
十分な電気的接続をとればよい。このように順次、全て
のイメージセンサチップ1で位置合わせを行い、電気的
接続をとることにより、高精度に実装された、読み取り
品位の高いイメージセンサを得ることができる。
との相対位置JXに対してその検知出ヵ電圧Vの関係を
示している。例えば大壕かな位置合わせにより一例とし
て第6図aのようにJX2だけずれた位置壕で位置が合
ったとする。この時、位置合わせ用受光部3の出力はv
2だけ出力される。つぎにJ!,だけずれた位置にもっ
てくると出力はv,−1で小さくなる。最後に第6図C
のように、相対位置が0に近づくと、入射光10は受光
部用遮光部7でさえぎられ、位置合わせ用受光部3の出
力も小さくなう、最小値V。に近づく。したがって位置
合わせ用受光部3の検知出力を最小にする方向にイメー
ジセンサチップ1を動かすことによシ、光学精度で透明
基板4との位置合わせを行うことができる。その後、さ
らにイメージセンサチップ1を透明基板4に加圧して、
十分な電気的接続をとればよい。このように順次、全て
のイメージセンサチップ1で位置合わせを行い、電気的
接続をとることにより、高精度に実装された、読み取り
品位の高いイメージセンサを得ることができる。
つぎに本発明の第2の実施例について説明する。
1 0
第7図は本発明の第2の実施例におけるイメージセンサ
チップの平面図であう、第8図は透明基板の平面図であ
る。同図において、第1図,第2図と同等部分には同一
番号を付し説明を省略する。
チップの平面図であう、第8図は透明基板の平面図であ
る。同図において、第1図,第2図と同等部分には同一
番号を付し説明を省略する。
11は位置合わせ用反射部、12は反射部用位置合わせ
マークである。位置合わせ用反射部11は反射率の高い
物質でイメージセンサチップ1上に作り込んだものであ
る。例えば、アルミニウムで形戒すると簡単に作り込む
ことができる。1たこの位置合わせ用反射部11を設け
る位置、大きさ等は、位置合わせ用受光部3と同様とす
るのが望1しい。
マークである。位置合わせ用反射部11は反射率の高い
物質でイメージセンサチップ1上に作り込んだものであ
る。例えば、アルミニウムで形戒すると簡単に作り込む
ことができる。1たこの位置合わせ用反射部11を設け
る位置、大きさ等は、位置合わせ用受光部3と同様とす
るのが望1しい。
一方、反射部用位置合わ妊マーク12の拡大図を第9図
に示す。13は反射部用透光部、14は反射部用遮光部
である。反射部用透光部13はイメージセンサチップ1
の位置合わせ用反射部11に対応した位置にあり、その
周囲には反射部用遮光部14を設ける。反射部用透光部
13は位置合わせ反射部11とほぼ同じ形であればよい
。しかし、製造方法の簡略化のためには、受光部2に平
11 行な方向むよび垂直な方向に対称線をもつ、長方形1た
は正方形が望1しい。1た反射部用透光部13の大きさ
は位置合わせ用反射部11と同じ大きさ筐たは最小でも
、位置合わせ許容誤差分だけ小さいものが必要である。
に示す。13は反射部用透光部、14は反射部用遮光部
である。反射部用透光部13はイメージセンサチップ1
の位置合わせ用反射部11に対応した位置にあり、その
周囲には反射部用遮光部14を設ける。反射部用透光部
13は位置合わせ反射部11とほぼ同じ形であればよい
。しかし、製造方法の簡略化のためには、受光部2に平
11 行な方向むよび垂直な方向に対称線をもつ、長方形1た
は正方形が望1しい。1た反射部用透光部13の大きさ
は位置合わせ用反射部11と同じ大きさ筐たは最小でも
、位置合わせ許容誤差分だけ小さいものが必要である。
つぎに第10図にイメージセンサチップ1と透明基板4
との高精度の位置合わせの方法を示す。
との高精度の位置合わせの方法を示す。
第4図と異なる所は以下の点である。すなわち、既述と
同様の犬1かな位置合わせを行った後、透明基板4上の
イメージセンサチップ配置部側と反対側から位置検出用
入射光16を入射させる。反射部用透光部13を通った
光が位置合わせ用反射部11にあたり、その反射光16
が再び反射部用透光部13を通って、透明基板外に出射
される。
同様の犬1かな位置合わせを行った後、透明基板4上の
イメージセンサチップ配置部側と反対側から位置検出用
入射光16を入射させる。反射部用透光部13を通った
光が位置合わせ用反射部11にあたり、その反射光16
が再び反射部用透光部13を通って、透明基板外に出射
される。
これを外部光検知器1了に釦いて、検知する。
第11図に位置合わせ用反射部11と反射部用透光部1
3との相対位置に対する、検知出力の関係を示す。第6
図と異なり、相対位置が0に近づくと、検知出力も大き
くなり最大値に近づく。したがって位置合わせ用反射部
11からの反射光16の検知出力を最犬にする方向にイ
メージセンサチップ1を動かすことにより、高精度な位
置合わせを行うことができる。そのあとイメージセンサ
チップ1を透明基板4に加圧して十分な電気的接続をと
ればよい。このように、順次全てのイメージセンサチッ
プ1で位置合わせを行い、電気的接続をとることにより
、高精度な実装が可能となる。
3との相対位置に対する、検知出力の関係を示す。第6
図と異なり、相対位置が0に近づくと、検知出力も大き
くなり最大値に近づく。したがって位置合わせ用反射部
11からの反射光16の検知出力を最犬にする方向にイ
メージセンサチップ1を動かすことにより、高精度な位
置合わせを行うことができる。そのあとイメージセンサ
チップ1を透明基板4に加圧して十分な電気的接続をと
ればよい。このように、順次全てのイメージセンサチッ
プ1で位置合わせを行い、電気的接続をとることにより
、高精度な実装が可能となる。
発明の効果
J,l上のように本発明は、透明基板上の主走査方向に
ほぼ連続して一列に配置した複数個のイメージセンサチ
ップの透明基板側に受光部および互いに所定の間隔離れ
た位置に複数個の位置合わせ用受光部を設け、透明基板
のイメージセンサチップ配置部側には位置合わせ用受光
部に対応した位置に受光部用遮光部とその周囲に受光部
用透光部を有する受光部用位置合わせマークを設けるこ
とにより、高精度に実装された読み取9品位の高いイメ
ージセンサを得ることができる。
ほぼ連続して一列に配置した複数個のイメージセンサチ
ップの透明基板側に受光部および互いに所定の間隔離れ
た位置に複数個の位置合わせ用受光部を設け、透明基板
のイメージセンサチップ配置部側には位置合わせ用受光
部に対応した位置に受光部用遮光部とその周囲に受光部
用透光部を有する受光部用位置合わせマークを設けるこ
とにより、高精度に実装された読み取9品位の高いイメ
ージセンサを得ることができる。
1 3
第1図は本発明の第1の実施例に釦けるイメージセンサ
チップの平面図、第2図はそのイメージセンサチップを
配置する透明基板の平面図、第3図は第2図の受光部用
位置合わせマークの拡大平面図、第4図は本発明の第1
の実施例にむけるイメージセンサの製造方法を説明する
ための図、第6図は位置合わせ誤差に対する位置合わせ
用受光部の検知出力電圧の特性図、第6図a,b,Oは
第6図の代表的な位置にかける位置合わせ誤差を説明す
るための図、第7図は本発明の第2の実施例に訟けるイ
メージセンサチップの平面図、第8図はそのイメージセ
ンサチップを配置する透明基板の平面図、第9図は第8
図の位置合わせマークの拡大平面図、第10図は本発明
の第2の実施例におけるイメージセンザの製造方法を説
明するための図、第11図は位置合わせ誤差に対する位
置合わせ用反射部からの反射光の検知出力電圧の特性図
、第12図は従来のイメージセンサの斜視図、第13図
a,bは従来のイメージセンサの位置ずれに伴う読み取
りラインの歪を示す図である。 1 4 1・・・・・・イメージセンサチップ、2・・・・・・
受光部、3・・・・・・位置合わせ用受光部、4・・・
・・・透明基板、5・・゜・・・受光部用位置合わせマ
ーク、6・・・・・・導体層、7・・・・・・受光部用
遮光部、8・・・・・・受光部用透光部、9・・・・・
・ボンディングパッド、1o・・・・・・位置検出用入
射光、11・・・・・・位置合わせ用反射部、12・・
・・・・反射部用位置合わせマーク、13・・・・・・
反射部用透光部、14・・・・・・反射部用遮光部、1
6・・・・・・位置検出用入射光、16・・・・・・位
置検出用反射光、17・・・・・・外部光検知器。
チップの平面図、第2図はそのイメージセンサチップを
配置する透明基板の平面図、第3図は第2図の受光部用
位置合わせマークの拡大平面図、第4図は本発明の第1
の実施例にむけるイメージセンサの製造方法を説明する
ための図、第6図は位置合わせ誤差に対する位置合わせ
用受光部の検知出力電圧の特性図、第6図a,b,Oは
第6図の代表的な位置にかける位置合わせ誤差を説明す
るための図、第7図は本発明の第2の実施例に訟けるイ
メージセンサチップの平面図、第8図はそのイメージセ
ンサチップを配置する透明基板の平面図、第9図は第8
図の位置合わせマークの拡大平面図、第10図は本発明
の第2の実施例におけるイメージセンザの製造方法を説
明するための図、第11図は位置合わせ誤差に対する位
置合わせ用反射部からの反射光の検知出力電圧の特性図
、第12図は従来のイメージセンサの斜視図、第13図
a,bは従来のイメージセンサの位置ずれに伴う読み取
りラインの歪を示す図である。 1 4 1・・・・・・イメージセンサチップ、2・・・・・・
受光部、3・・・・・・位置合わせ用受光部、4・・・
・・・透明基板、5・・゜・・・受光部用位置合わせマ
ーク、6・・・・・・導体層、7・・・・・・受光部用
遮光部、8・・・・・・受光部用透光部、9・・・・・
・ボンディングパッド、1o・・・・・・位置検出用入
射光、11・・・・・・位置合わせ用反射部、12・・
・・・・反射部用位置合わせマーク、13・・・・・・
反射部用透光部、14・・・・・・反射部用遮光部、1
6・・・・・・位置検出用入射光、16・・・・・・位
置検出用反射光、17・・・・・・外部光検知器。
Claims (6)
- (1)透明基板と、その透明基板上の主走査方向に一列
に配置した複数個のイメージセンサチップを備え、前記
イメージセンサチップの前記透明基板側に受光部および
互いに所定間隔はなれた位置に複数個の位置合わせ用受
光部を設け、前記透明基板のイメージセンサチップ配置
部側には前記位置合わせ用受光部に対応した位置に受光
部用遮光部とその周囲に受光部用透光部を有する受光部
用位置合わせマークを設けたイメージセンサ。 - (2)受光部用遮光部が位置合わせ用受光部とほぼ同じ
形で同じ大きさまたは最大でも位置合わせ許容誤差分だ
け大きくした請求項1記載のイメージセンサ。 - (3)請求項1または2記載のイメージセンサの透明基
板上のイメージセンサチップ配置部側と反対の側から光
を入射させ、透明基板上に形成された受光部用遮光部に
て減光した入射光をイメージセンサチップ上に形成され
た位置合わせ用受光部で検出し、この検出レベルをもと
にイメージセンサチップを可動させてイメージセンサチ
ップの位置合わせをするイメージセンサの製造方法。 - (4)透明基板と、その透明基板上の主走査方向に一列
に配置した複数個のイメージセンサチップを備え、前記
イメージセンサチップの前記透明基板側に受光部および
互いに所定の間隔はなれた位置に複数個の位置合わせ用
反射部を設け、前記透明基板のイメージセンサチップ配
置部側には前記位置合わせ用反射部に対応した位置に反
射部用透光部とその周囲に反射部用遮光部を有する反射
部用位置合わせマークを設けたイメージセンサ。 - (5)反射部用透光部が位置合わせ用反射部とほぼ同じ
形で同じ大きさまたは最小でも位置合わせ許容誤差分だ
け小さくした請求項4記載のイメージセンサ。 - (6)請求項4または5記載のイメージセンサの透明基
板上のイメージセンサチップ配置部側と反対の側から光
を入射させて前記イメージセンサチップの位置合わせ用
反射部にあて、この反射部からの反射光を再び反射部用
透光部を通して透明基板外に出射させ、その出射光を検
出してこの検出レベルをもとにイメージセンサチップを
可動させてイメージセンサチップの位置合わせをするイ
メージセンサの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1301714A JP2754803B2 (ja) | 1989-11-20 | 1989-11-20 | イメージセンサおよびその製造方法 |
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JPH03161969A true JPH03161969A (ja) | 1991-07-11 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1989
- 1989-11-20 JP JP1301714A patent/JP2754803B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2011182302A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-09-15 | Mitsubishi Electric Corp | イメージセンサ用基板 |
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