JPH03157383A - イミダゾール誘導体 - Google Patents

イミダゾール誘導体

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JPH03157383A
JPH03157383A JP1298297A JP29829789A JPH03157383A JP H03157383 A JPH03157383 A JP H03157383A JP 1298297 A JP1298297 A JP 1298297A JP 29829789 A JP29829789 A JP 29829789A JP H03157383 A JPH03157383 A JP H03157383A
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Yoshinari Yoshikawa
吉川 賢成
Hideji Saito
秀次 齋藤
Yutaka Ouchi
裕 大内
Katsuo Hatayama
畑山 勝男
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、イミダゾール誘導体及びその酸付加塩に関し
、更に詳しくは抗炎症、鎮痛、解熱剤として有用なイミ
ダゾール誘導体及びその酸付加塩に関する。
従来の技術 従来の非ステロイド性抗炎症剤としては、インドメタシ
ン、イブプロフェン、ジクロフェナックあるいはピロキ
シカムなど、主としてアリール酢酸、エノール酸タイプ
の薬物が開発され、臨床で広く用いられている。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、これら非ステロイド性抗炎症剤の多くは
酸性構造を有し、かつプロスタグランジン生合成阻害を
作用機序としているため、臨床上の副作用として消化管
障害が問題となっている。
本発明の目的は、塩基性構造を有し、長期投与に耐え得
る安全性の高い薬物を提供することにある。
課題を解決するための手段 本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検詞した結果
、下記化合物が抗炎症、鎮痛、解熱作用を有すると共に
副作用の少ない安全性の高い化合物であることを見いだ
し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は式 [式中、R1は2.3−ジヒドロベンゾフラニル基又は
ベンゾフラニル基を示し、R1は2,3−ジヒドロベン
ゾフラニル基、ベンゾフラニル基又は低級アルコキシ蒸
で置換されたフェニル基を示し、R1は低級アルキル基
、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、シクロア
ルキル基、チエニル基、ピリジル基、メルカプト基、式 %式% (式中、nはO〜2の整数である。)で示される基、フ
ェニル基又はハロゲン原子、低級アルコキシ基若しくは
ニトロ基で置換されたフェニル基を示す。コで表される
イミダゾール語導体及びその醜付加塩である。
本発明において、低級アルキル基とは、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、ターシャリ−ブチル基などであり、低級アルコ
キシ基とは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
インプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ター
シャリ−ブトキシ基などである。
また、シクロアルキル基とは、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基などである。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及
びヨウ素原子である。
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又はニトロ基で置換さ
れたフェニル基とは、ハロゲンPfL 子、低級アルコ
キシ基又はニトロ基の1個又は2個で置換されたフェニ
ル基をいう。
本発明の化合物は、例えば以下に示す方法によって製造
することができる。
(1)R’及びR2が2.3−ジヒドロ−5−ベンゾフ
ラニル基であり、R1が低級アルキル基、ハロゲン原子
で置換された低級アルキル基、シクロアルキル基、チエ
ニル基、ピリジル基、フェニル基又はハロゲン原子、低
級アルコキシ基若しくはニトロ基で置換されたフェニル
基である式(I)の化合物は、公知の物質である2、3
−ジヒドロベンゾフランを出発物質として製造すること
ができる。
すなわち、2,3−ジヒドロベンゾフランを有機溶媒中
、ルイス酸存在下、塩化オキサリルと反応させることに
より式 で表される化合物を得る。
ここで、ルイス酸としては無水塩化アルミニウム、無水
塩化第二スズ、無水臭化亜鉛、無水四塩化チタンなどを
用いることができ、有機溶媒としてはジクロロメタン、
ジクロロエタン、クロロホルム、二i 化炭i 、ニト
ロエタン、ニトロエンゼンなどを用いることができる。
反応温度は一30°C〜溶媒の沸点、好ましくは水冷下
〜室温であり、反応時間は通常30分間〜5時間である
次いで、式(I[)の化合物と式 R’CHO (式中、R1は低級アルキル基、ハロゲン原子で置換さ
れた低級アルキル基、シクロアルキル基、チエニル基、
ピリジル基、フェニル基又ハロゲン原子、低級アルコキ
シ基若しくはニトロ基で置換されたフェニル基を示す、
)で表されるアルデヒド又はその等何体(ヘミアセター
ルなど)を、過剰のアンモニア又はアンモニウム塩の存
在下、有機溶媒中で反応させることにより本発明の化合
物を得ることができる。
ここで、アンモニウム塩としては酢酸アンモニウム、シ
ュウ酸アンモニウム、炭酸アンモニウムなどを用いるこ
とができ、有機溶媒としては酢酸、プロピオン酸、アル
コール類(エタノールなど)、エーテル類(ジオキサン
、テトラヒドロフランなど)、ハロゲン化炭化水素(ク
ロロホルムなど)などを用いることができるが、好まし
くは酢酸である0反応温度は室温〜溶媒の沸点、反応時
間は通常30分間〜3時間である。
(り R′及びR1が2.3−ジヒドロ−5−ベンゾフ
ラニル基であり、R1がメルカプト基である式(I)の
化合物は下記の方法により製造することができる。
すなわち、前記方法(υで得た式(If)の化合物を、
N、N−ジメチルホルムアミド−水混合溶媒中で亜鉛を
用いて還元することにより式で表される化合物を得る。
次いで、式(III)の化合物を無溶媒又は有機溶媒中
、チオ尿素と共に100〜210℃に加熱することによ
り本発明の化合物を得ることができる。
ここで、有機溶媒としてはN、N−ジメチルホルムアミ
ド、アルコール類(エタノールなど)、アセトニトリル
などを用いることができる。反応時間は30分間〜5時
間である。
(3)R’及びR1が2.3−ジヒドロ−5−ベンゾフ
ラニル基であり、R”がメチルスルフェニル基である式
(1)の化合物は、方法(りで得た本発明化合物を有機
溶媒中、メチル化剤と反応きせることにより製造するこ
とができる。
ここで、メチル化剤としてはヨウ化メチノ呟硫酸ジメチ
ルなどを用いることができ、反応を円滑に進めるために
炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、トリエチルアミン
などの塩基を加えることもできる。有機溶媒としてはア
セトン、ベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、エ
ーテル、ジオキサン、エタノールなどを用いることがで
きる。
(4)R’及びR2が5−ベンゾフラニル基であり、R
1が低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級ア
ルキル基、シクロアルキル基、チエニル基、ピリジル基
、フェニル基又は710ゲン原子、低級アルコキシ基若
しくはニトロ基で置換されたフェニル基である式(I)
の化合物は、方法(1)で得られる式(I[)の化合物
を出発物質として製造することができる。
すなわち、式(n)の化合物を有機溶媒中、酸化剤を用
いて脱水素化することにより1.2−ビス(5−ベンゾ
フラニル)エタンジオンを得る。
ここで、酸化剤としてはN−ブロモコハク酸イミド、N
−クロロコハク酸イミド、塩化スルフリル、塩素、臭素
、t−ブチルハイポクロリド、パラジウム−炭素、クロ
ラニル、2.3−ジクロロ−5,6−ジシアツベンゾキ
ノンなどを用いることができる。有機溶媒としてはジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、デカリン、エーテル、ジオキサンな
どを用いることができる。
次いで、1.2−ビス(5−ベンゾフラニル)エタンジ
オ〉と式 (式中、R4は前記と同意義である。)で表されるアル
デヒド又はその等側体(ヘミアセタールなど)を前記方
法〔Dと同様に反応させることにより本発明の化合物を
得ることができる。
(9R1及びR2が5−ベンゾフラニル基であり、R”
がメチルスルフェニル基である式(I)の化合物は方法
((1)で得られる1、2−ビス(5−ベンゾフラニル
)エタンジオンより製造することができる。
すなわち、1.2−ビス(5−ベンゾフラニル)エタン
ジオンを水又は/及び有機溶媒中、還元剤を用いて還元
することにより1.2−ビス(5−ベンゾフラニル)エ
タノンを得る。
ここで、還元剤としては亜鉛、鉄などの金属還元剤を用
いることができ、有機溶媒としてはN。
N−ジメチルホルムアミド、酢酸などを用いることがで
きる。
次いで、1.2−ビス(5−ベンゾフラニル)エタノン
を、有機溶媒中、ハロゲン化剤を用いてハロゲン化する
ことにより式 (式中、Xは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である
。)で表される化合物を得る。
ここで、ハロゲン化剤としてはN−ブロモコハク酸イミ
ド、N−ヨードコハク酸イミド、塩素、臭素、ヨウ素、
塩化スルフリルなどを用いることができ、有機溶媒とし
てはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ベン
ゼン、酢酸、エーテル、ジオキサンなどを用いることが
できる。
最後に式(IV>の化合物とS−メチルイソチオ尿素を
有機溶媒中、縮合することにより本発明の化合物を得る
ことができる。
ここで、有機溶媒としてはアセトニトリル、アセトン、
エーテル、テトラヒドロフラン、N、N−ジメチルホル
ムアミドなどを用いることができる。
(6)R’及びR1が2.3−ジヒドロ−5−ベンゾフ
ラニル基又は5−ベンゾフラニル基であり、R1がメチ
ルスルフィニル基又はメチルスルホニル基である式(I
)の化合物は、前記方法(3)又は方法(9で得られる
、R1がメチルスルフェニル基である式(I)の化合物
を有機溶媒中、酸化剤で酸化することにより得ることが
できる。
ここで、酸化剤とはm−クロロ過安息香酸、過酸化水素
、過酢酸、過ヨウ素酸ナトリウムなどの過酸化物及び亜
臭素酸ナトリウム、オゾンなどであり、有機溶媒として
はジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン
、ジオキサンなどを用いることができる。
(7)R’が2−ベンゾフラニル基でR2が低級アルコ
キシ基で置換されたフェニル基であり、R5が低級アル
キル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、シ
クロアルキル基、チエニル基、ピノジル基、フェニル基
又はハロゲン原子、低級アルコキシ基若しくはニトロ基
で置換されたフェニル基である式(I>の化合物は、ベ
ンゾフラン−2−酢酸を出発物質として製造することが
できる。
すなわち、ベンゾフラン−2−酢酸を、有機溶媒中、ク
ロル化剤と反応させることにより(2−ペンゾフラニル
)アセチルクロリドを得る。
ここで、有機溶媒としてはベンゼン、クロルベンゼン、
トルエンなどを用いることができ、クロル化剤としては
五塩化リン、塩化オキサリル、塩化チオニルなどを用い
ることができる。
次いで、(2−ベンゾフラニル)アセチルクロリドを有
機溶媒中、ルイス醸存在下、式 (式中、R3は低級アルキル基を示す。)で表される化
合物と反応させることにより、式(式中、R1は前記と
同意義である。)で表される化合物とする。
ここで使用するルイス酸及び有機溶媒は、方法(1)で
示したものと同じものを用いることができる。
次に式(V)の化合物を、水又は有機溶媒中、二酸化セ
レンで酸化することにより式 (式中、Rゝは前記と同意義である。)で表される化合
物を得ることができる。
ここで、有機溶媒としてはジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、アルコール類などを用いることができる。
最後に式(VI)の化合物と式 R’CHO (式中、R1は前記と同意義である。)で表されるアル
デヒド又はその等飾体を、方法(1)と同様に反応させ
ることにより本発明の化合物を得ることができる。
(8)R’とR1が同一で、2,3−ジヒドロベンゾフ
ラニル基又はベンゾフラニル基であり、Rsがメルカプ
ト基である式(I)の化合物は、下記の方法により製造
することができる。
すなわち、式 (式中、R1は前記と同意義である。)で表される化合
物を合本有機溶媒中、シアン化ナトリウム又はシアン化
カリウムなどの金属シアン化物の触媒下で縮合させるこ
とにより、式 %式%() (式中、R′は前記と同意義である。)で表される化合
物を得る。
ここで、有機溶媒としてはメタノール、エタノールなど
のアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフランなど
のエーテル類及びアセトニトリルなどを用いることがで
きる0反応温度は室温〜溶媒の沸点であり、反応時間は
3〜5時間である。
次いで、式(■)の化合物とチオ尿素を方法(りと同様
に反応させることにより、本発明の化合物を得ることが
できる。
(9)R’とR1が同一で、2.3−ジヒドロベンゾフ
ラニル基又はベンゾゲラニル基であり、R8が式%式% (式中、nは前記と同意義である。)で表される基であ
る式(1)の化合物は、方法(8)で得た本発明化合物
を、方法(3)及び方法(印と同様に反応させることに
より製造することができる。
■ R′とR3が同一で、2.3−ジヒドロベンゾフラ
ニル基又はベンゾフラニル基であり、R1が低級アルキ
ル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、シク
ロアルキル基、チエニル基、ピリジル基、フェニル基又
はハロゲン原子、低級アルフキシ基若しくはニトロ基で
置換されたフェニル基である式(I)の化合物は、下記
の方法により製造することができる。
すなわち、方法(■で得た式(■)の化合物を有機溶媒
中、酸化剤と反応させることにより式%式%( (式中、R1は前記と同意義である。)で表される化合
物を得ることができる。
ここで、酸化剤としては硝酸、クロム酸、二酸化マンガ
ン、硫酸鋼、酸化銀などを用いることができ、有機溶媒
としては酢酸、アセトン、アセトニトリル、ベンゼン、
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ピリジン
などを用いることができる。
次いで、式(■)の化合物を方法(1)と同様にして反
応させることにより本発明の化合物を得ることができる
(11)式(I)の化合物の酸付加塩は、式(1)の化
金物を水又は有機溶媒中、酸で処理することにより製造
することができる。
ここで、有機溶媒としてはアルコール類(エタノール、
イソプロパツールなど)、エーテル類(エチルエーテル
、ジオキサンなど)、アセトン、酢酸エチルなどを用い
ることができる。また、酸としては塩酸、硫酸、過塩素
酸などの無機酸、シュウ酸、リンゴ酸、フマル酸、酒石
酸などの有機酸を用いることができる。
発明の効果 本発明の化合物は優れた抗炎症作用、鎮痛作用及び解熱
作用を有し、しかも消化管障害などの副作用が少ないの
で、抗炎症、鎮痛、解熱剤として有用である。
試験例 カラゲニンを用いるウィンターらの方法[ジャーナルー
オブ・ファーマコロジー・アンド・エクスベリメンタル
・セラビイニーティックス(Jour−nal of 
Pharmacology and Expericn
ental Tharap−eutics) 、第14
1巻、第369ページ(1963年〉]に準拠して行っ
た。
ウィスター系雄性ラット(1群6匹2体重100〜HO
g)に、被験薬(本発明化合物及び対照薬としてイブプ
ロフェン、5%アラビアゴム水水溶溶液懸濁)を体重1
00gあたり1dの投与量で、50mg/ kgをカラ
ゲニン投与の1時間前に経口投与し、その浮腫抑制率を
求めた。
その結果を第1表に示す。
第  1  表 (注) a : 4.5−ビス(2,3−ジヒドロ−5−ベンゾ
フラニル)−2−1−−/チルイミダゾールb : 4
,5−ビス(2,3−ジヒドロ−5−ベンゾフラニル)
−2−1−リフルオロメチルイミダゾール c : 4.5−ビス(5−ベンゾフラニル) −2−
t−プチルイミダゾール 実施例 以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
実施例1 (1)2.3−ジヒドロベンゾフラン6.4g及び塩化
オキサリル3.4gを含む二硫化炭素27d溶液に、無
水塩化アルミニウム8.0gを水冷下15分間かけて加
え、同温度で2.75時間撹拌後、15分間還流した。
反応液を室温に戻した後、希塩酸−氷に注ぎジクロロメ
タンで抽出した。ジクロロメタン層を希塩酸、希度酸ナ
トリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナ
トl)ラムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒ニジクロロメタ
ン)で精製し、得られた結晶を酢酸エチル−n−ヘキサ
ンより再結晶して1,2−ビス〈2,3−ジヒドロ−5
−ベンゾフラニル)エタンジオンの淡黄色結晶5.9g
を得た。
m 、 p 、 162〜163@C ■(υで得た化合物0.50g、ビバルアルデヒド0、
15 g及び酢酸アンモニウム1.3gを含む酢酸5d
溶液を1時間還流した0反応液を室温に戻した後、水酸
化カリウム6.0gを含む氷水中に注ぎジクロロメタン
で抽出した。ジクロロメタン層を希水酸化カリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出溶媒;ジクロロメタン−ジクロロメ
タン:酢酸エチル−4:1)で精製し、得られた結晶を
クロロホルム−n−ヘキサンで再結晶して4.5−ビス
(2,3−ジヒドロ−5−ベンゾフラニル)−2−t−
ブチルイミダゾールの無色結晶0.37 Kを得た。
m、 p 、 239〜241.5℃ 実施例1と同様にして下記化合物を得た。
4.5−ビス(2,3−ジヒドr?−5−ベンゾフラニ
ル)−2−(4−フルオロフェニル)イミダゾール m、p、231〜232℃(酢酸エチル−n−ヘキサン
)4.5−ビス(2,3−ジヒドロ−5−ベンゾフラニ
ル)−2−(4−メトキシフェニル)イミダゾール m、p、236〜238℃ (りCIロホルム−n−ヘキサン) 4.5−ビス(2,3−ジヒドロ−5−ベンゾフラニル
)−2−(4−二トロフェニル)イミダゾールし m、p、250〜253℃ (クロロホルム−n−ヘキサン) 4.5−ビス(2,3−ジヒドロ−5−ベンゾフラニル
)−2−トリフルオロメチルイミタソール3/2水和物 m、p、153〜157℃ (クロロホルム−n−ヘキサン) 4.5−ビス(2,3−ジヒドロ−5−ベンゾフラニル
)−2−(2−チエニル)イミダゾールm、 p 、 
242.5〜244.5℃(アセトン)4.5−ビス(
2,3−ジヒドロ−5−ベンゾフラニル)−2−(4−
ピリジル)イミダゾール・115N、N−ジメチルホル
ムアミド m、p、286〜296℃(分解) (N、N−ジメチルホルムアミド−水)実施例2 (1)実施例1 (11で得た1、2−ビス(2,3−
ジヒドロ−5−ベンゾフラニル)エタンジオン5.Og
、亜鉛末4.9g及び水20ai!を含むN、N−ジメ
チルホルムアミド381114!溶液を12時間還流し
た0反応液を室温に戻した後、セライト炉遇し、ジクロ
ロメタンで抽出した。ジクロロメタン層を水洗後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;ジクロロ
メタン)で精製し、1.2−ビス(2゜3−ジヒドロ−
5−ベンゾフラニル)−2−ヒドロキシエタノンの黄色
油状物4.9gを得た。
’ H−N M R(CDCj23>& ppn+3、
08〜3.32(4H,m) 、 4.48〜4.74
(5H,m) 。
5、83(IH,d、 J=6Hz) 、 6.70〜
6.82(2H,m) 。
7.08〜7.20(2H,m)、  7.76〜7.
90(2H,m)(り 1,2−ビス(2,3−ジヒド
ロ−5−ベンゾフラニル〉−2−ヒドロキシエタノン1
.5g及びチオ尿素1.3gを含むN、N−ジメチルホ
ルムアミド溶液を2.5時間還流した0反応液を室温に
戻した後、氷水中に注ぎ、析出した結晶を戸数した。結
晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;
ジクロロメタン:酢酸エチル=14:1)テ精製し、N
、N−ジメチルホルムアミド−水−メタノールで再結晶
して、4.5−ビス(2,3−ジヒドロ−5−ベンゾフ
ラニル)−2−メツしカプトイミダゾール・3/4N、
N−ジメチルホルムアミド0.26gを得た。
m、p、256〜261℃(分解) 実施例3 実施例2で得た4、5−ビス(2,3−ジヒドロ−5−
ベンゾフラニル)−2−メツしカプトイミダゾール−3
/4N、N−ジメチルホルムアミド1.Ogを含むメタ
ノニル5.3m4!懸濁液に、水冷下、水酸化ナトリウ
ム0.13 gを含む水1d溶液及びヨウ化メチル0.
5gを順次加え、3.75時間撹拌した。次いで、反応
液を水に注ぎ、ジクロロメタンで抽出、ジクロロメタン
層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留
去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラブイ−(溶
出溶媒;ジクロロメタン−ジクロロメタン:酢酸エチル
寓10:1)で精製し、得られた結晶をメタノールで再
結晶して4,5−ビス(2,3−ジヒドロ−5−ベンゾ
フラニル)−2−メチルスルフェニルイミダゾール・1
/2メタノールの黄色結晶0.32gを得た。
m、p、175〜177℃ 実施例4 (1)実施例1(1)で得た1、2−ビス(2,3−ジ
ヒドロ−5−ベンゾフラニル)エタンジオン3.Og及
びN−ブロモコハク酸イミド3.8gを含む四塩化炭素
85ae溶液に、過酸化ベンゾイル0.1gを加え、1
時間還流した。反応液を室温に戻した後、氷水中に注ぎ
クロロホルムで抽出した。有機層を飽和重曹水、飽和食
塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトノウムで乾燥した。溶
媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出溶媒:n−ヘキサン:酢酸エチル−9:1)で
精製することにより1.2−ビス(5−ベンゾフラニル
)エタンジオン1.7gを得た。
’ H−N M R(CDCJ23 >  S I)p
106.87(2H,m)、  7.64(2H,m)
7、74(28,d、 J=2.2Hz) 。
8、06(2H,dd、 J=8.7Hz、 17Hz
> 、 8.29< 2H,m)(2)1.2−ビス(
5−ベンゾフラニル)エタンジ才ンを実施例1(2)と
同様に反応して下記の化合物を得た。
4.5−ビス(5−ベンゾフラニル)−2−t −ブチ
ルイミダゾール m、p、196〜197℃(酢酸エチル−n−ヘキサン
)4.5−ビス(5−ベンゾフラニル)−2−トリプル
オロメチルイミダゾール m 、 p 、 224〜227°C(酢酸エチル−n
−ヘキサン)4.5−ビス(5−ベンゾフラニル〉−2
−イソプロピルイミダゾール m、p、231〜234℃(酢酸エチル−n−ヘキサン
)4.5−ビス(5−ベンゾフラニル)−2−インブチ
ルイミダゾール m、p、235.5〜238.5℃ (酢酸エチル−n−ヘキサン) 4.5−ビス(5−ベンゾフラニル)−2−シクロヘキ
シルイミダゾール m、 p 、 276.5〜279.5℃(クロロホル
ム)4.5−ビスく5−ベンゾフラニル〉−2−フェニ
ルイミダゾール m、9.286〜288℃(アセトン−n−ヘキサン)
4.5−ビスく5−ベンゾフラニル>−2−(4−フル
オロフェニル)イミダゾール m、p、267〜270℃(酢酸エチル−n−ヘキサン
〉実施例5 (1)実施例4(1)で得た1、2−ビス(5−ベンゾ
フラニル)エタンジオン9.94 gを実施例2(1)
と同様にして反応を行い、1.2−ビス(5−ベンゾフ
ラニル)エタノン2.57 gを得た。
’H−NMR(CDCI  l; ppm4、43(2
H,s) 、 6.72(LH,m) 、 6.86(
LH,m> 。
7、23(IH,dd、 J=8Hz、 2Hz> 。
7、44〜7.60(3H,m) 、 7.61<18
.d、J=2Hz) 。
7.69(IH,d、J=21(Z) 。
8、06<LH,dd、 J=8.8Hz、 21(z
) 。
8、36(LH,d、J=2Hz) (2)1.2−ビス(5−ベンゾフラニル)エタノン及
びN−ブロモスクシンイミド1.60[を含む四塩化炭
素5M溶液に過酸化ベンゾイル0.1gを加え、4.5
時間還流した0反応液を室温に戻した後、氷水中に注ぎ
、ジクロロメタンで抽出、有機層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。溶媒を留去して得た油状物に、S−メチル
イソチオ尿素・硫酸塩4.53g、無水炭酸カリウム1
1.2g及びアセトニトリル20dを加え、室温下68
時間撹拌した。反応液を氷水中に注ぎ、クロロホルムで
抽出、有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した
。溶媒を留去後、得られた粗結晶をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出溶媒;ジクロロメタン−ジクロ
ロメタン:酢酸エチル=14:1)で精製し、得られた
結晶をエーテルで洗浄することにより4.5−ビス(5
−ベンゾフラニル)−2−メチルスルフェニルイミダゾ
ールの無色結晶1.10 gを得た。
実施例6 実施例3で得た4、5−ビス(2,3−ジヒドロ−5−
ベンゾフラニル)−2−メチルスルフェニルイミダゾー
ル・1/2メタノールo、 so gを含むクロロホル
ム17m4!溶液に、−20〜−10℃冷却下、m−ク
ロロ過安息香酸0.32gを含むクロロホルム5献溶液
を5分間かけて滴下し、同温度で3分間撹拌した。反応
液を希炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎクロロホルムで
抽出した。クロロホルム層を水洗、無水硫酸ナトリウム
で乾燥、濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出溶媒;クロロホルム−クロロホル
ム:酢酸エチル−2:1)で精製した。得られた粗結晶
を。
クロロホルム−ヘキサンで再結晶して4.5− ヒス(
2,3−ジヒドロ−5−ベンゾフラニル)−2−メチル
スルフィニルイミダゾールの淡黄色結晶0、44 gを
得た。
m 、 p 、 200〜210’C(分解)m、p、
233.5〜234.5℃ 実施例6と同様にして4.5−ビス(5−ベンゾフラニ
ル〉−2−メチルスルフィニルイミダゾールを得た。
m、p、198〜201℃ (ジクロロメタン−n−ヘキサン) 実施例7 実施例6で得た4、5−ビス(2,3−ジヒドロ−5−
ベンゾフラニル)−2−メチルスルフィニルイミダゾー
ル0.38gを含むクロロホルム20−溶液に、水冷下
m−クロロ過安息香$0.23gを含むクロロホルム5
ml溶液を滴下し、2.5時間撹拌した0次いで、実施
例4と同様に後処理し、4.5−ビス(2,3−ジヒド
ロ−5−ベンゾフラニル)−2−メチルスルホニルイミ
ダゾールの淡黄色結晶0゜34gを得た。
m、p、150〜153℃ 実施例7と同様にして4.5−ビス(5−ベンゾフラニ
ル)−2−メチルスルホニルイミダゾールを得た。
m、p、174〜176℃ (クロロホルム−n−ヘキサン) 実施例8 (1)五塩化リン4.3gを含むベンゼン21ae懸濁
液に、室温下、撹拌しなからベンゾフラン−2−酢酸3
.5gを含むベンゼン21mg溶液を滴下した。結晶が
すべて溶解した後、反応液を減圧留去した。
得られた残渣に、ジクロロメタン40mg及びアニソー
ル2.6gを加え、この混合液に室温下無水塩化アルミ
ニウム2.7gを徐々に加え、2時間撹拌した0反応液
を希塩酸中に注ぎ、ジクロロメタンで抽出、有機層を水
、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出溶媒;ジクロロメタン:n
−ヘキサン:酢酸エチル■10: 10: 1 )で精
製し、ジクロロメタン−n−ヘキサンで再結晶すること
により2−(2−ベンゾフラニル)−1−(4−メトキ
シフェニル)エタノンの無色結晶2.Ogを得た。
m、p 、100〜102℃ ■ 2−〈2−ベンゾフラニル)−1−(4−メトキシ
フェニル)エタノン1.0g及び二酸化セレン0.46
gを含むジオキサン27!−水1dの混合液を4時間還
流した0反応液を室温に戻した後、析出した結晶を濾過
して除き、P液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒;n−ヘキサン:
ジクロロメタン:酢酸エチル−=20:5:1)で精製
し、ジクロロメタン−n−ヘキサンで再結晶することに
より1−(2−ベンゾフラニル)−2−(4−メトキシ
フェニル)エタンジオンの黄色結晶0.62gを得た。
m 、 p 、 160〜161℃ G3)1−(2−ベンゾフラニル)−2−(4−メトキ
シフェニル)エタンジオンを用い、実施例1(りと同様
にして下記の化合物を得た。
4(5)−(2−ベンゾフラニル”)−5(4)−(4
−メトキシフェニル)−2−t−ブチルイミダゾール m、p 、232.5〜234℃ (クロロホルム−n−ヘキサン) 4(5”)−(2−ベンゾフラニル)−5(4)−(4
−メトキシフェニル)−2−(4−フルオロフェニル)
イミダゾール m、p、242〜243℃ (クロロホルム−n−ヘキサン) 実施例9 実施例1で得た4、5−ビス(2,3−ジヒドロ−5−
ベンゾフラニル)−2−t−ブチルイミダゾール0.2
0gを含むエーテル20ag溶液に、室温下、濃塩酸0
.2m4!を加え30分間撹拌した。溶媒を留去した後
、析出した結晶をエーテル2Mで洗浄し、炉遇すること
により4.5−ビス(2,3−ジヒドロ−5−ベンゾフ
ラニル)−2−t−ブチルイミダゾール塩酸塩0.16
gを得た。
m、p、308〜315℃ 実施例9 と同様にして下記の化合物を得た。
4.5−ビス(5−ベンゾフラニル)−2−t −ブチ
ルイミダゾール塩酸塩 m、p、295〜305℃(分解)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1は2,3−ジヒドロベンゾフラニル基又
    はベンゾフラニル基を示し、R^2は2,3−ジヒドロ
    ベンゾフラニル基、ベンゾフラニル基又は低級アルコキ
    シ基で置換されたフェニル基を示し、R^3は低級アル
    キル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、シ
    クロアルキル基、チエニル基、ピリジル基、メルカプト
    基、式 −S(O)_nCH_2 (式中、nは0〜2の整数である。)で示される基、フ
    ェニル基又はハロゲン原子、低級アルコキシ基若しくは
    ニトロ基で置換されたフェニル基を示す。]で表される
    イミダゾール誘導体及びその酸付加塩。
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