JP2808460B2 - イミダゾール誘導体 - Google Patents
イミダゾール誘導体Info
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- JP2808460B2 JP2808460B2 JP1298297A JP29829789A JP2808460B2 JP 2808460 B2 JP2808460 B2 JP 2808460B2 JP 1298297 A JP1298297 A JP 1298297A JP 29829789 A JP29829789 A JP 29829789A JP 2808460 B2 JP2808460 B2 JP 2808460B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、イミダゾール誘導体及びその酸付加塩に関
し、更に詳しくは抗炎症、鎮痛、解熱剤として有用なイ
ミダゾール誘導体及びその酸付加塩に関する。
し、更に詳しくは抗炎症、鎮痛、解熱剤として有用なイ
ミダゾール誘導体及びその酸付加塩に関する。
従来の技術 従来の非ステロイド性抗炎症剤としては、インドメタ
シン、イブプロフェン、ジクロフェナックあるいはピロ
キシカムなど、主としてアリール酢酸、エノール酸タイ
プの薬物が開発され、臨床で広く用いられている。
シン、イブプロフェン、ジクロフェナックあるいはピロ
キシカムなど、主としてアリール酢酸、エノール酸タイ
プの薬物が開発され、臨床で広く用いられている。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、これら非ステロイド性抗炎症剤の多く
は酸性構造を有し、かつプロスタグランジン生合成阻害
を作用機序としているため、臨床上の副作用として消化
管障害が問題となっている。
は酸性構造を有し、かつプロスタグランジン生合成阻害
を作用機序としているため、臨床上の副作用として消化
管障害が問題となっている。
本発明の目的は、塩基性構造を有し、長期投与に耐え
得る安全性の高い薬物を提供することにある。
得る安全性の高い薬物を提供することにある。
課題を解決するための手段 本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結
果、下記化合物が抗炎症、鎮痛、解熱作用を有すると共
に副作用の少ない安全性の高い化合物であることを見い
だし、本発明を完成した。
果、下記化合物が抗炎症、鎮痛、解熱作用を有すると共
に副作用の少ない安全性の高い化合物であることを見い
だし、本発明を完成した。
すなわち、本発明は式 ［式中、R1は2,3−ジヒドロベンゾフラニル基又はベン
ゾフラニル基を示し、R2は2,3−ジヒドロベンゾフラニ
ル基、ベンゾフラニル基又は低級アルコキシ基で置換さ
れたフェニル基を示し、R3は低級アルキル基、ハロゲン
原子で置換された低級アルキル基、シクロアルキル基、
チエニル基、ピリジル基、メルカプト基、式 −Ｓ（Ｏ）nCH3 （式中、ｎは０〜２の整数である。）で示される基、フ
ェニル基又はハロゲン原子、低級アルコキシ基若しくは
ニトロ基で置換されたフェニル基を示す。］で表される
イミダゾール誘導体及びその酸付加塩である。
ゾフラニル基を示し、R2は2,3−ジヒドロベンゾフラニ
ル基、ベンゾフラニル基又は低級アルコキシ基で置換さ
れたフェニル基を示し、R3は低級アルキル基、ハロゲン
原子で置換された低級アルキル基、シクロアルキル基、
チエニル基、ピリジル基、メルカプト基、式 −Ｓ（Ｏ）nCH3 （式中、ｎは０〜２の整数である。）で示される基、フ
ェニル基又はハロゲン原子、低級アルコキシ基若しくは
ニトロ基で置換されたフェニル基を示す。］で表される
イミダゾール誘導体及びその酸付加塩である。
本発明において、低級アルキル基とは、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、ターシャリーブチル基などであり、低級アル
コキシ基とは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、
ターシャリーブトキシ基などである。
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、ターシャリーブチル基などであり、低級アル
コキシ基とは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、
ターシャリーブトキシ基などである。
また、シクロアルキル基とは、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基などである。
クロヘキシル基などである。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子
及びヨウ素原子である。
及びヨウ素原子である。
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又はニトロ基で置換
されたフェニル基とは、ハロゲン原子、低級アルコキシ
基又はニトロ基の１個又は２個で置換されたフェニル基
をいう。
されたフェニル基とは、ハロゲン原子、低級アルコキシ
基又はニトロ基の１個又は２個で置換されたフェニル基
をいう。
本発明の化合物は、例えば以下に示す方法によって製
造することができる。
造することができる。
（１）R1及びR2が2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル
基であり、R3が低級アルキル基、ハロゲン原子で置換さ
れた低級アルキル基、シクロアルキル基、チエニル基、
ピリジル基、フェニル基又はハロゲン原子、低級アルコ
キシ基若しくはニトロ基で置換されたフェニル基である
式（Ｉ）の化合物は、公知の物質である2,3−ジヒドロ
ベンゾフランを出発物質として製造することができる。
基であり、R3が低級アルキル基、ハロゲン原子で置換さ
れた低級アルキル基、シクロアルキル基、チエニル基、
ピリジル基、フェニル基又はハロゲン原子、低級アルコ
キシ基若しくはニトロ基で置換されたフェニル基である
式（Ｉ）の化合物は、公知の物質である2,3−ジヒドロ
ベンゾフランを出発物質として製造することができる。
すなわち、2,3−ジヒドロベンゾフランを有機溶媒
中、ルイス酸存在下、塩化オキサリルと反応させること
により式 で表される化合物を得る。
中、ルイス酸存在下、塩化オキサリルと反応させること
により式 で表される化合物を得る。
ここで、ルイス酸としては無水塩化アルミニウム、無
水塩化第二スズ、無水臭化亜鉛、無水四塩化チタンなど
を用いることができ、有機溶媒としてはジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、クロロホルム、二硫化炭素、ニト
ロエタン、ニトロベンゼンなどを用いることができる。
反応温度は−30℃〜溶媒の沸点、好ましくは氷冷下〜室
温であり、反応時間は通常30分間〜５時間である。
水塩化第二スズ、無水臭化亜鉛、無水四塩化チタンなど
を用いることができ、有機溶媒としてはジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、クロロホルム、二硫化炭素、ニト
ロエタン、ニトロベンゼンなどを用いることができる。
反応温度は−30℃〜溶媒の沸点、好ましくは氷冷下〜室
温であり、反応時間は通常30分間〜５時間である。
次いで、式（II）の化合物と式 R4CHO （式中、R4は低級アルキル基、ハロゲン原子で置換され
た低級アルキル基、シクロアルキル基、チエニル基、ピ
リジル基、フェニル基又はハロゲン原子、低級アルコキ
シ基若しくはニトロ基で置換されたフェニル基を示
す。）で表されるアルデヒド又はその等価体（ヘミアセ
タールなど）を、過剰のアンモニア又はアンモニア塩の
存在下、有機溶媒中で反応させることにより本発明の化
合物を得ることができる。
た低級アルキル基、シクロアルキル基、チエニル基、ピ
リジル基、フェニル基又はハロゲン原子、低級アルコキ
シ基若しくはニトロ基で置換されたフェニル基を示
す。）で表されるアルデヒド又はその等価体（ヘミアセ
タールなど）を、過剰のアンモニア又はアンモニア塩の
存在下、有機溶媒中で反応させることにより本発明の化
合物を得ることができる。
ここで、アンモニウム塩としては酢酸アンモニウム、
シュウ酸アンモニウム、炭酸アンモニウムなどを用いる
ことができ、有機溶媒としては酢酸、プロピオン酸、ア
ルコール類（エタノールなど）、エーテル類（ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど）、ハロゲン化炭化水素
（クロロホルムなど）などを用いることができるが、好
ましくは酢酸である。反応温度は室温〜溶媒の沸点、反
応時間は通常30分間〜３時間である。
シュウ酸アンモニウム、炭酸アンモニウムなどを用いる
ことができ、有機溶媒としては酢酸、プロピオン酸、ア
ルコール類（エタノールなど）、エーテル類（ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど）、ハロゲン化炭化水素
（クロロホルムなど）などを用いることができるが、好
ましくは酢酸である。反応温度は室温〜溶媒の沸点、反
応時間は通常30分間〜３時間である。
（２）R1及びR2が2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル
基であり、R3がメルカプト基である式（Ｉ）の化合物は
下記の方法により製造することができる。
基であり、R3がメルカプト基である式（Ｉ）の化合物は
下記の方法により製造することができる。
すなわち、前記方法（１）で得た式（II）の化合物
を、N,N−ジメチルホルムアミド−水混合溶媒中で亜鉛
を用いて還元することにより式 で表される化合物を得る。
を、N,N−ジメチルホルムアミド−水混合溶媒中で亜鉛
を用いて還元することにより式 で表される化合物を得る。
次いで、式（III）の化合物を無溶媒又は有機溶媒
中、チオ尿素と共に100〜210℃に加熱することにより本
発明の化合物を得ることができる。
中、チオ尿素と共に100〜210℃に加熱することにより本
発明の化合物を得ることができる。
ここで、有機溶媒としてはN,N−ジメチルホルムアミ
ド、アルコール類（エタノールなど）、アセトニトリル
などを用いることができる。反応時間は30分間〜５時間
である。
ド、アルコール類（エタノールなど）、アセトニトリル
などを用いることができる。反応時間は30分間〜５時間
である。
（３）R1及びR2が2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル
基であり、R3がメチルスルフェニル基である式（Ｉ）の
化合物は、方法（２）で得た本発明化合物を有機溶媒
中、メチル化剤と反応させることにより製造することが
できる。
基であり、R3がメチルスルフェニル基である式（Ｉ）の
化合物は、方法（２）で得た本発明化合物を有機溶媒
中、メチル化剤と反応させることにより製造することが
できる。
ここで、メチル化剤としてはヨウ化メチル、硫酸ジメ
チルなどを用いることができ、反応を円滑に進めるため
に炭酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、トリエチルアミン
などの塩基を加えることもできる。有機溶媒としてはア
セトン、ベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、エ
ーテル、ジオキサン、エタノールなどを用いることがで
きる。
チルなどを用いることができ、反応を円滑に進めるため
に炭酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、トリエチルアミン
などの塩基を加えることもできる。有機溶媒としてはア
セトン、ベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、エ
ーテル、ジオキサン、エタノールなどを用いることがで
きる。
（４）R1及びR2が５−ベンゾフラニル基であり、R3が低
級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル
基、シクロアルキル基、チエニル基、ピリジル基、フェ
ニル基又はハロゲン原子、低級アルコキシ基若しくはニ
トロ基で置換されたフェニル基である式（Ｉ）の化合物
は、方法（１）で得られる式（II）の化合物を出発物質
として製造することができる。
級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル
基、シクロアルキル基、チエニル基、ピリジル基、フェ
ニル基又はハロゲン原子、低級アルコキシ基若しくはニ
トロ基で置換されたフェニル基である式（Ｉ）の化合物
は、方法（１）で得られる式（II）の化合物を出発物質
として製造することができる。
すなわち、式（II）の化合物を有機溶媒中、酸化剤を
用いて脱水素化することにより1,2−ビス（５−ベンゾ
フラニル）エタンジオンを得る。
用いて脱水素化することにより1,2−ビス（５−ベンゾ
フラニル）エタンジオンを得る。
ここで、酸化剤としてはＮ−ブロモコハク酸イミド、
Ｎ−クロロコハク酸イミド、塩化スルフリル、塩素、臭
素、ｔ−ブチルハイポクロリド、パラジウム−炭素、ク
ロラニル、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノベンゾキノン
などを用いることができる。有機溶媒としてはジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化炭素、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、デカリン、エーテル、ジオキサンなどを
用いることができる。
Ｎ−クロロコハク酸イミド、塩化スルフリル、塩素、臭
素、ｔ−ブチルハイポクロリド、パラジウム−炭素、ク
ロラニル、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノベンゾキノン
などを用いることができる。有機溶媒としてはジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化炭素、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、デカリン、エーテル、ジオキサンなどを
用いることができる。
次いで、1,2−ビス（５−ベンゾフラニル）エタンジ
オンと式 R4CHO （式中、R4は前記と同意義である。）で表されるアルデ
ヒド又はその等価体（ヘミアセタールなど）を前記方法
（１）と同様に反応させることにより本発明の化合物を
得ることができる。
オンと式 R4CHO （式中、R4は前記と同意義である。）で表されるアルデ
ヒド又はその等価体（ヘミアセタールなど）を前記方法
（１）と同様に反応させることにより本発明の化合物を
得ることができる。
（５）R1及びR2が５−ベンゾフラニル基であり、R3がメ
チルスルフェニル基である式（Ｉ）の化合物は方法
（４）で得られる1,2−ビス（５−ベンゾフラニル）エ
タンジオンより製造することができる。
チルスルフェニル基である式（Ｉ）の化合物は方法
（４）で得られる1,2−ビス（５−ベンゾフラニル）エ
タンジオンより製造することができる。
すなわち、1,2−ビス（５−ベンゾフラニル）エタン
ジオンを水又は／及び有機溶媒中、還元剤を用いて還元
することにより1,2−ビス（５−ベンゾフラニル）エタ
ノンを得る。
ジオンを水又は／及び有機溶媒中、還元剤を用いて還元
することにより1,2−ビス（５−ベンゾフラニル）エタ
ノンを得る。
ここで、還元剤としては亜鉛、鉄などの金属還元剤を
用いることができ、有機溶媒としてはN,N−ジメチルホ
ルムアミド、酢酸などを用いることができる。
用いることができ、有機溶媒としてはN,N−ジメチルホ
ルムアミド、酢酸などを用いることができる。
次いで、1,2−ビス（５−ベンゾフラニル）エタノン
を、有機溶媒中、ハロゲン化剤を用いてハロゲン化する
ことにより式 （式中、Ｘは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であ
る。）で表される化合物を得る。
を、有機溶媒中、ハロゲン化剤を用いてハロゲン化する
ことにより式 （式中、Ｘは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であ
る。）で表される化合物を得る。
ここで、ハロゲン化剤としてはＮ−ブロモコハク酸イ
ミド、Ｎ−ヨードコハク酸イミド、塩素、臭素、ヨウ
素、塩化スルフリルなどを用いることができ、有機溶媒
としてはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、
ベンゼン、酢酸、エーテル、ジオキサンなどを用いるこ
とができる。
ミド、Ｎ−ヨードコハク酸イミド、塩素、臭素、ヨウ
素、塩化スルフリルなどを用いることができ、有機溶媒
としてはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、
ベンゼン、酢酸、エーテル、ジオキサンなどを用いるこ
とができる。
最後に式（IV）の化合物とＳ−メチルイソチオ尿素を
有機溶媒中、縮合することにより本発明の化合物を得る
ことができる。
有機溶媒中、縮合することにより本発明の化合物を得る
ことができる。
ここで、有機溶媒としてはアセトニトリル、アセト
ン、エーテル、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホ
ルムアミドなどを用いることができる。
ン、エーテル、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホ
ルムアミドなどを用いることができる。
（６）R1及びR2が2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル
基又は５−ベンゾフラニル基であり、R3がメチルスルフ
ィニル基又はメチルスルホニル基である式（Ｉ）の化合
物は、前記方法（３）又は方法（５）で得られる、R3が
メチルスルフェニル基である式（Ｉ）の化合物を有機溶
媒中、酸化剤で酸化することにより得ることができる。
基又は５−ベンゾフラニル基であり、R3がメチルスルフ
ィニル基又はメチルスルホニル基である式（Ｉ）の化合
物は、前記方法（３）又は方法（５）で得られる、R3が
メチルスルフェニル基である式（Ｉ）の化合物を有機溶
媒中、酸化剤で酸化することにより得ることができる。
ここで、酸化剤とはｍ−クロロ過安息香酸、過酸化水
素、過酢酸、過ヨウ素酸ナトリウムなどの過酸化物及び
亜臭素酸ナトリウム、オゾンなどであり、有機溶媒とし
てはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセト
ン、ジオキサンなどを用いることができる。
素、過酢酸、過ヨウ素酸ナトリウムなどの過酸化物及び
亜臭素酸ナトリウム、オゾンなどであり、有機溶媒とし
てはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセト
ン、ジオキサンなどを用いることができる。
（７）R1が２−ベンゾフラニル基でR2が低級アルコキシ
基で置換されたフェニル基であり、R3が低級アルキル
基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、シクロ
アルキル基、チエニル基、ピリジル基、フェニル基又は
ハロゲン原子、低級アルコキシ基若しくはニトロ基で置
換されたフェニル基である式（Ｉ）の化合物は、ベンゾ
フラン−２−酢酸を出発物質として製造することができ
る。
基で置換されたフェニル基であり、R3が低級アルキル
基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、シクロ
アルキル基、チエニル基、ピリジル基、フェニル基又は
ハロゲン原子、低級アルコキシ基若しくはニトロ基で置
換されたフェニル基である式（Ｉ）の化合物は、ベンゾ
フラン−２−酢酸を出発物質として製造することができ
る。
すなわち、ベンゾフラン−２−酢酸を、有機溶媒中、
クロル化剤と反応させることにより（２−ベンソフラニ
ル）アセチルクロリドを得る。
クロル化剤と反応させることにより（２−ベンソフラニ
ル）アセチルクロリドを得る。
ここで、有機溶媒としてはベンゼン、クロルベンゼ
ン、トルエンなどを用いることができ、クロル化剤とし
ては五塩化リン、塩化オキサリル、塩化チオニルなどを
用いることができる。
ン、トルエンなどを用いることができ、クロル化剤とし
ては五塩化リン、塩化オキサリル、塩化チオニルなどを
用いることができる。
次いで、（２−ベンゾフラニル）アセチルクロリドを
有機溶媒中、ルイス酸存在下、式 （式中、R5は低級アルキル基を示す。）で表される化合
物と反応させることにより、式 （式中、R5は前記と同意義である。）で表される化合物
とする。
有機溶媒中、ルイス酸存在下、式 （式中、R5は低級アルキル基を示す。）で表される化合
物と反応させることにより、式 （式中、R5は前記と同意義である。）で表される化合物
とする。
ここで使用するルイス酸及び有機溶媒は、方法（１）
で示したものと同じものを用いることができる。
で示したものと同じものを用いることができる。
次に式（Ｖ）の化合物を、水又は有機溶媒中、二酸化
セレンで酸化することにより式 （式中、R5は前記と同意義である。）で表される化合物
を得ることができる。
セレンで酸化することにより式 （式中、R5は前記と同意義である。）で表される化合物
を得ることができる。
ここで、有機溶媒としてはジオキサン、テトラヒドロ
フラン、アルコール類などを用いることができる。
フラン、アルコール類などを用いることができる。
最後に式（VI）の化合物と式 R4CHO （式中、R4は前記と同意義である。）で表されるアルデ
ヒド又はその等価体を、方法（１）と同様に反応させる
ことにより本発明の化合物を得ることができる。
ヒド又はその等価体を、方法（１）と同様に反応させる
ことにより本発明の化合物を得ることができる。
（８）R1とR2が同一で、2,3−ジヒドロベンゾフラニル
基又はベンゾフラニル基であり、R3がメルカプト基であ
る式（Ｉ）の化合物は、下記の方法により製造すること
ができる。
基又はベンゾフラニル基であり、R3がメルカプト基であ
る式（Ｉ）の化合物は、下記の方法により製造すること
ができる。
すなわち、式 R1CHO （式中、R1は前記と同意義である。）で表される化合物
を含水有機溶媒中、シアン化ナトリウム又はシアン化カ
リウムなどの金属シアン化物の触媒下で縮合させること
により、式 R1CH（OH）COR1 （VII） （式中、R1は前記と同意義である。）で表される化合物
を得る。
を含水有機溶媒中、シアン化ナトリウム又はシアン化カ
リウムなどの金属シアン化物の触媒下で縮合させること
により、式 R1CH（OH）COR1 （VII） （式中、R1は前記と同意義である。）で表される化合物
を得る。
ここで、有機溶媒としてはメタノール、エタノールな
どのアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフランな
どのエーテル類及びアセトニトリルなどを用いることが
できる。反応温度は室温〜溶媒の沸点であり、反応時間
は３〜５時間である。
どのアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフランな
どのエーテル類及びアセトニトリルなどを用いることが
できる。反応温度は室温〜溶媒の沸点であり、反応時間
は３〜５時間である。
次いで、式（VII）の化合物とチオ尿素を方法（２）
と同様に反応させることにより、本発明の化合物を得る
ことができる。
と同様に反応させることにより、本発明の化合物を得る
ことができる。
（９）R1とR2が同一で、2,3−ジヒドロベンゾフラニル
基又はベンゾフラニル基であり、R3が式 −Ｓ（Ｏ）nCH3 （式中、ｎは前記と同意義である。）で表される基であ
る式（Ｉ）の化合物は、方法（８）で得た本発明化合物
を、方法（３）及び方法（６）と同様に反応させること
により製造することができる。
基又はベンゾフラニル基であり、R3が式 −Ｓ（Ｏ）nCH3 （式中、ｎは前記と同意義である。）で表される基であ
る式（Ｉ）の化合物は、方法（８）で得た本発明化合物
を、方法（３）及び方法（６）と同様に反応させること
により製造することができる。
（10）R1とR2が同一で、2,3−ジヒドロベンゾフラニル
基又はベンゾフラニル基であり、R3が低級アルキル基、
ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、シクロアル
キル基、チエニル基、ピリジル基、フェニル基又はハロ
ゲン原子、低級アルコキシ基若しくはニトロ基で置換さ
れたフェニル基である式（Ｉ）の化合物は、下記の方法
により製造することができる。
基又はベンゾフラニル基であり、R3が低級アルキル基、
ハロゲン原子で置換された低級アルキル基、シクロアル
キル基、チエニル基、ピリジル基、フェニル基又はハロ
ゲン原子、低級アルコキシ基若しくはニトロ基で置換さ
れたフェニル基である式（Ｉ）の化合物は、下記の方法
により製造することができる。
すなわち、方法（８）で得た式（VII）の化合物を有
機溶媒中、酸化剤と反応させることにより式 R1COCOR1 （VIII） （式中、R1は前記と同意義である。）で表される化合物
を得ることができる。
機溶媒中、酸化剤と反応させることにより式 R1COCOR1 （VIII） （式中、R1は前記と同意義である。）で表される化合物
を得ることができる。
ここで、酸化剤としては硝酸、クロム酸、二酸化マン
ガン、硫酸銅、酸化銀などを用いることができ、有機溶
媒としては酢酸、アセトン、アセトニトリル、ベンゼ
ン、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ピリ
ジンなどを用いることができる。
ガン、硫酸銅、酸化銀などを用いることができ、有機溶
媒としては酢酸、アセトン、アセトニトリル、ベンゼ
ン、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ピリ
ジンなどを用いることができる。
次いで、式（VIII）の化合物を方法（１）と同様にし
て反応させることにより本発明の化合物を得ることがで
きる。
て反応させることにより本発明の化合物を得ることがで
きる。
（11）式（Ｉ）の化合物の酸付加塩は、式（Ｉ）の化合
物を水又は有機溶媒中、酸で処理することにより製造す
ることができる。
物を水又は有機溶媒中、酸で処理することにより製造す
ることができる。
ここで、有機溶媒としてはアルコール類（エタノー
ル、イソプロパノールなど）、エーテル類（エチルエー
テル、ジオキサなど）、アセトン、酢酸エチルなどを用
いることができる。また、酸としては塩酸、硫酸、過塩
素酸などの無機酸、シュウ酸、リンゴ酸、フマル酸、酒
石酸などの有機酸を用いることができる。
ル、イソプロパノールなど）、エーテル類（エチルエー
テル、ジオキサなど）、アセトン、酢酸エチルなどを用
いることができる。また、酸としては塩酸、硫酸、過塩
素酸などの無機酸、シュウ酸、リンゴ酸、フマル酸、酒
石酸などの有機酸を用いることができる。
発明の効果 本発明の化合物は優れた抗炎症作用、鎮痛作用及び解
熱作用を有し、しかも消化管障害などの副作用が少ない
ので、抗炎症、鎮痛、解熱剤として有用である。
熱作用を有し、しかも消化管障害などの副作用が少ない
ので、抗炎症、鎮痛、解熱剤として有用である。
試験例 カラゲニンを用いるウィンターらの方法［ジャーナル
・オブ・ファーマコロジー・アンド・エクスペリメンタ
ル・セラピィューティックス（Journal of Phamacology
and Experimental Therapeutics），第141巻，第369ペ
ージ（1963年）］に準拠して行った。
・オブ・ファーマコロジー・アンド・エクスペリメンタ
ル・セラピィューティックス（Journal of Phamacology
and Experimental Therapeutics），第141巻，第369ペ
ージ（1963年）］に準拠して行った。
ウィスター系雄性ラット（１群６匹，体重100〜120
g）に、被験薬（本発明化合物及び対照薬としてイブプ
ロフェン,5％アラビアゴム水溶液に懸濁）を体重100gあ
たり1mlの投与量で、50mg/kgをカラゲニン投与の１時間
前に経口投与し、その浮腫抑制率を求めた。
g）に、被験薬（本発明化合物及び対照薬としてイブプ
ロフェン,5％アラビアゴム水溶液に懸濁）を体重100gあ
たり1mlの投与量で、50mg/kgをカラゲニン投与の１時間
前に経口投与し、その浮腫抑制率を求めた。
その結果を第１表に示す。
実施例 以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
実施例１ （１）2,3−ジヒドロベンゾフラン6.4g及び塩化オキサ
リル3.4gを含む二硫化炭素27ml溶液に、無水塩化アルミ
ニウム8.0gを氷冷下15分間かけて加え、同温度で2.75時
間撹拌後、15分間還流した。反応液を室温に戻した後、
希塩酸−氷に注ぎジクロロメタンで抽出した。ジクロロ
メタン層を希塩酸、希炭酸ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒；ジクロロメタン）で精製し、得られた結晶
を酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより再結晶して1,2−ビス
（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）エタンジオン
の淡黄色結晶5.9gを得た。
リル3.4gを含む二硫化炭素27ml溶液に、無水塩化アルミ
ニウム8.0gを氷冷下15分間かけて加え、同温度で2.75時
間撹拌後、15分間還流した。反応液を室温に戻した後、
希塩酸−氷に注ぎジクロロメタンで抽出した。ジクロロ
メタン層を希塩酸、希炭酸ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒；ジクロロメタン）で精製し、得られた結晶
を酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより再結晶して1,2−ビス
（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）エタンジオン
の淡黄色結晶5.9gを得た。
m.p.162〜163℃ （２）（１）で得た化合物0.50g、ピバルアルデヒド0.1
5g及び酢酸アンモニウム1.3gを含む酢酸5ml溶液を１時
間還流した。反応液を室温に戻した後、水酸化カリウム
6.0gを含む氷水中に注ぎジクロロメタンで抽出した。ジ
クロロメタン層を希水酸化カリウム水溶液、飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を
留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒；ジクロロメタン〜ジクロロメタン：酢酸エ
チル＝4:1）で精製し、得られた結晶をクロロホルムｎ
−ヘキサンで再結晶して4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５
−ベンゾフラニル）−２−ｔ−ブチルイミダゾールの無
色結晶0.37gを得た。
5g及び酢酸アンモニウム1.3gを含む酢酸5ml溶液を１時
間還流した。反応液を室温に戻した後、水酸化カリウム
6.0gを含む氷水中に注ぎジクロロメタンで抽出した。ジ
クロロメタン層を希水酸化カリウム水溶液、飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を
留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒；ジクロロメタン〜ジクロロメタン：酢酸エ
チル＝4:1）で精製し、得られた結晶をクロロホルムｎ
−ヘキサンで再結晶して4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５
−ベンゾフラニル）−２−ｔ−ブチルイミダゾールの無
色結晶0.37gを得た。
m.p.239〜241.5℃ 実施例１と同様にして下記化合物を得た。
4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−
２−（４−フルオロフェニル）イミダゾール m.p.231〜232℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−
２−（４−メトキシフェニル）イミダソール m.p.236〜238℃ （クロロホルム−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−
２−（４−ニトロフェニル）イミダゾール m.p.250〜253℃ （クロロホルム−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−
２−トリフルオロメチルイミダゾール・3/2水和物 m.p.153〜157℃ （クロロホルム−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−
２−（２−チエニル）イミダゾール m.p.242.5〜244.5℃（アセトン） 4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−
２−（４−ピリジル）イミダゾール・1/5N,N−ジメチル
ホルムアミド m.p.286〜296℃（分解） （N,N−ジメチルホルムアミド−水） 実施例２ （１）実施例１（１）で得た1,2−ビス（2,3−ジヒドロ
−５−ベンゾフラニル）エタンジオン5.0g、亜鉛末4.9g
及び水20mlを含むN,N−ジメチルホルムアミド38ml溶液
を12時間還流した。反応液を室温に戻した後、セライト
過し、ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン層
を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮した。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒；ジクロロメタン）で精製し、1,2−ビス（2,3−ジ
ヒドロ−５−ベンゾフラニル）−２−ヒドロキシエタノ
ンの黄色油状物4.9gを得た。
２−（４−フルオロフェニル）イミダゾール m.p.231〜232℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−
２−（４−メトキシフェニル）イミダソール m.p.236〜238℃ （クロロホルム−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−
２−（４−ニトロフェニル）イミダゾール m.p.250〜253℃ （クロロホルム−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−
２−トリフルオロメチルイミダゾール・3/2水和物 m.p.153〜157℃ （クロロホルム−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−
２−（２−チエニル）イミダゾール m.p.242.5〜244.5℃（アセトン） 4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−
２−（４−ピリジル）イミダゾール・1/5N,N−ジメチル
ホルムアミド m.p.286〜296℃（分解） （N,N−ジメチルホルムアミド−水） 実施例２ （１）実施例１（１）で得た1,2−ビス（2,3−ジヒドロ
−５−ベンゾフラニル）エタンジオン5.0g、亜鉛末4.9g
及び水20mlを含むN,N−ジメチルホルムアミド38ml溶液
を12時間還流した。反応液を室温に戻した後、セライト
過し、ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメタン層
を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮した。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒；ジクロロメタン）で精製し、1,2−ビス（2,3−ジ
ヒドロ−５−ベンゾフラニル）−２−ヒドロキシエタノ
ンの黄色油状物4.9gを得た。
1H−NMR（CDCl3）δppm 3.08〜3.32（4H,m）,4.48〜4.74（5H,m）， 5.83（1H,d,J＝6Hz）,6.70〜6.82（2H,m）， 7.08〜7.20（2H,m）,7.76〜7.90（2H,m） （２）1,2−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニ
ル）−２−ヒドロキシエタノン1.5g及びチオ尿素1.3gを
含むN,N−ジメチルホルムアミド溶液を2.5時間還流し
た。反応液を室温に戻した後、氷水中に注ぎ、析出した
結晶を取した。結晶をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒；ジクロロメタン：酢酸エチル＝14:
1）で精製し、N,N−ジメチルホルムアミド−水−メタノ
ールで再結晶して、4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベ
ンゾフラニル）−２−メルカプトイミダゾール・3/4N,N
−ジメチルホルムアミド0.26gを得た。
ル）−２−ヒドロキシエタノン1.5g及びチオ尿素1.3gを
含むN,N−ジメチルホルムアミド溶液を2.5時間還流し
た。反応液を室温に戻した後、氷水中に注ぎ、析出した
結晶を取した。結晶をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒；ジクロロメタン：酢酸エチル＝14:
1）で精製し、N,N−ジメチルホルムアミド−水−メタノ
ールで再結晶して、4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベ
ンゾフラニル）−２−メルカプトイミダゾール・3/4N,N
−ジメチルホルムアミド0.26gを得た。
m.p.256〜261℃（分解） 実施例３ 実施例２で得た4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベン
ゾフラニル）−２−メルカプトイミダゾール・3/4N,N−
ジメチルホルムアミド1.0gを含むメタノール5.3ml懸濁
液に、氷冷下、水酸化ナトリウム0.13gを含む水1ml溶液
及びヨウ化メチル0.5gを順次加え、3.75時間撹拌した。
次いで、反応液を水に注ぎ、ジクロロメタンで抽出、ジ
クロロメタン層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒；ジクロロメタン〜ジクロロメタ
ン：酢酸エチル＝10:1）で精製し、得られた結晶をメタ
ノールで再結晶して4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベ
ンゾフラニル）−２−メチルスルフェニルイミダゾール
・1/2メタノールの黄色結晶0.32gを得た。
ゾフラニル）−２−メルカプトイミダゾール・3/4N,N−
ジメチルホルムアミド1.0gを含むメタノール5.3ml懸濁
液に、氷冷下、水酸化ナトリウム0.13gを含む水1ml溶液
及びヨウ化メチル0.5gを順次加え、3.75時間撹拌した。
次いで、反応液を水に注ぎ、ジクロロメタンで抽出、ジ
クロロメタン層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒；ジクロロメタン〜ジクロロメタ
ン：酢酸エチル＝10:1）で精製し、得られた結晶をメタ
ノールで再結晶して4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベ
ンゾフラニル）−２−メチルスルフェニルイミダゾール
・1/2メタノールの黄色結晶0.32gを得た。
m.p.175〜177℃ 実施例４ （１）実施例１（１）で得た1,2−ビス（2,3−ジヒドロ
−５−ベンゾフラニル）エタンジオン3.0g及びＮ−ブロ
モコハク酸イミド3.8gを含む四塩化炭素85ml溶液に、過
酸化ベンゾイル0.1gを加え、１時間還流した。反応液を
室温に戻した後、氷水中に注ぎクロロホルムで抽出し
た。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒;n−ヘキ
サン：酢酸エチル＝9:1）で精製することにより1,2−ビ
ス（５−ベンゾフラニル）エタンジオン1.7gを得た。
−５−ベンゾフラニル）エタンジオン3.0g及びＮ−ブロ
モコハク酸イミド3.8gを含む四塩化炭素85ml溶液に、過
酸化ベンゾイル0.1gを加え、１時間還流した。反応液を
室温に戻した後、氷水中に注ぎクロロホルムで抽出し
た。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒;n−ヘキ
サン：酢酸エチル＝9:1）で精製することにより1,2−ビ
ス（５−ベンゾフラニル）エタンジオン1.7gを得た。
1H−NMR（CDCl3）δppm 6.87（2H,m）,7.64（2H,m）， 7.74（2H,d,J＝2.2Hz）， 8.06（2H,dd,J＝8.7Hz,1.7Hz）,8.29（2H,m） （２）1,2−ビス（５−ベンゾフラニル）エタンジオン
を実施例１（２）と同様に反応して下記の化合物を得
た。
を実施例１（２）と同様に反応して下記の化合物を得
た。
4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−ｔ−ブチル
イミダゾール m.p.196〜197℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−トリフルオ
ロメチルイミダゾール m.p.224〜227℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−イソプロピ
ルイミダゾール m.p.231〜234℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−イソブチル
イミダゾール m.p.235.5〜238.5℃ （酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−シクロヘキ
シルイミダゾール m.p.276.5〜279.5℃（クロロホルム） 4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−フェニルイ
ミダゾール m.p.286〜288℃（アセトン−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−（４−フル
オロフェニル）イミダゾール m.p.267〜270℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） 実施例５ （１）実施例４（１）で得た1,2−ビス（５−ベンゾフ
ラニル）エタンジオン9.94gを実施例２（１）と同様に
して反応を行い、1,2−ビス（５−ベンゾフラニル）エ
タノン2.57gを得た。
イミダゾール m.p.196〜197℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−トリフルオ
ロメチルイミダゾール m.p.224〜227℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−イソプロピ
ルイミダゾール m.p.231〜234℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−イソブチル
イミダゾール m.p.235.5〜238.5℃ （酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−シクロヘキ
シルイミダゾール m.p.276.5〜279.5℃（クロロホルム） 4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−フェニルイ
ミダゾール m.p.286〜288℃（アセトン−ｎ−ヘキサン） 4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−（４−フル
オロフェニル）イミダゾール m.p.267〜270℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン） 実施例５ （１）実施例４（１）で得た1,2−ビス（５−ベンゾフ
ラニル）エタンジオン9.94gを実施例２（１）と同様に
して反応を行い、1,2−ビス（５−ベンゾフラニル）エ
タノン2.57gを得た。
1H−NMR（CDCl3）δppm 4.43（2H,s）,6.72（1H,m）,6.86（1H,m）， 7.23（1H,dd,J＝8Hz,2Hz）， 7.44〜7.60（3H,m）,7.61（1H,d,J＝2Hz）， 7.69（1H,d,J＝2Hz）， 8.06（1H,dd,J＝8.8Hz,2Hz）， 8.36（1H,d,J＝2Hz） （２）1,2−ビス（５−ベンゾフラニル）エタノン及び
Ｎ−ブロモスクシンイミド1.60gを含む四塩化炭素50ml
溶液に過酸化ベンゾイル0.1gを加え、4.5時間還流し
た。反応液を室温に戻した後、氷水中に注ぎ、ジクロロ
メタンで抽出、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去して得た油状物に、Ｓ−メチルイソチオ
尿素・硫酸塩4.53g、無水炭酸カリウム11.2g及びアセト
ニトリル20mlを加え、室温下68時間撹拌した。反応液を
氷水中に注ぎ、クロロホルムで抽出、有機層を水洗後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、得られ
た粗結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒；ジクロロメタン〜ジクロロメタン：酢酸エチル＝
14:1）で精製し、得られた結晶をエーテルで洗浄するこ
とにより4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−メチ
ルスルフェニルイミダゾールの無色結晶1.10gを得た。
Ｎ−ブロモスクシンイミド1.60gを含む四塩化炭素50ml
溶液に過酸化ベンゾイル0.1gを加え、4.5時間還流し
た。反応液を室温に戻した後、氷水中に注ぎ、ジクロロ
メタンで抽出、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去して得た油状物に、Ｓ−メチルイソチオ
尿素・硫酸塩4.53g、無水炭酸カリウム11.2g及びアセト
ニトリル20mlを加え、室温下68時間撹拌した。反応液を
氷水中に注ぎ、クロロホルムで抽出、有機層を水洗後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、得られ
た粗結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒；ジクロロメタン〜ジクロロメタン：酢酸エチル＝
14:1）で精製し、得られた結晶をエーテルで洗浄するこ
とにより4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−メチ
ルスルフェニルイミダゾールの無色結晶1.10gを得た。
m.p.233.5〜234.5℃ 実施例６ 実施例３で得た4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベン
ゾフラニル）−２−メチルスルフェニルイミダゾール・
1/2メタノール0.50gを含むクロロホルム17ml溶液に、−
20〜−10℃冷却下、ｍ−クロロ過安息香酸0.32gを含む
クロロホルム5ml溶液を５分間かけて滴下し、同温度で
３分間撹拌した。反応液を希炭酸水素ナトリウム水溶液
に注ぎクロロホルムで抽出した。クロロホルム層を水
洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮し、得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；ク
ロロホルム〜クロロホルム：酢酸エチル＝2:1）で精製
した。得られた粗結晶をクロロホルム−ヘキサンで再結
晶して4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニ
ル）−２−メチルスルフィニルイミダゾールの淡黄色結
晶0.44gを得た。
ゾフラニル）−２−メチルスルフェニルイミダゾール・
1/2メタノール0.50gを含むクロロホルム17ml溶液に、−
20〜−10℃冷却下、ｍ−クロロ過安息香酸0.32gを含む
クロロホルム5ml溶液を５分間かけて滴下し、同温度で
３分間撹拌した。反応液を希炭酸水素ナトリウム水溶液
に注ぎクロロホルムで抽出した。クロロホルム層を水
洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮し、得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；ク
ロロホルム〜クロロホルム：酢酸エチル＝2:1）で精製
した。得られた粗結晶をクロロホルム−ヘキサンで再結
晶して4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニ
ル）−２−メチルスルフィニルイミダゾールの淡黄色結
晶0.44gを得た。
m.p.200〜210℃（分解） 実施例６と同様にして4,5−ビス（５−ベンゾフラニ
ル）−２−メチルスルフィニルイミダゾールを得た。
ル）−２−メチルスルフィニルイミダゾールを得た。
m.p.198〜201℃ （ジクロロメタン−ｎ−ヘキサン） 実施例７ 実施例６で得た4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベン
ゾフラニル）−２−メチルスルフィニルイミダゾール0.
38gを含むクロロホルム20ml溶液に、氷冷下ｍ−クロロ
過安息香酸0.23gを含むクロロホルム5ml溶液を滴下し、
2.5時間撹拌した。次いで、実施例４と同様に後処理
し、4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）
−２−メチルスルホニルイミダゾールの淡黄色結晶0.34
gを得た。
ゾフラニル）−２−メチルスルフィニルイミダゾール0.
38gを含むクロロホルム20ml溶液に、氷冷下ｍ−クロロ
過安息香酸0.23gを含むクロロホルム5ml溶液を滴下し、
2.5時間撹拌した。次いで、実施例４と同様に後処理
し、4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）
−２−メチルスルホニルイミダゾールの淡黄色結晶0.34
gを得た。
m.p.150〜153℃ 実施例７と同様にして4,5−ビス（５−ベンゾフラニ
ル）−２−メチルスルホニルイミダゾールを得た。
ル）−２−メチルスルホニルイミダゾールを得た。
m.p.174〜176℃ （クロロホルム−ｎ−ヘキサン） 実施例８ （１）五塩化リン4.3gを含むベンゼン21ml懸濁液に、室
温下、撹拌しながらベンゾフラン−２−酢酸3.5gを含む
ベンゼン21ml溶液を滴下した。結晶がすべて溶解した
後、反応液を減圧留去した。得られた残渣に、ジクロロ
メタン40ml及びアニソール2.6gを加え、この混合液に室
温下無水塩化アルミニウム2.7gを徐々に加え、２時間撹
拌した。反応液を希塩酸中に注ぎ、ジクロロメタンで抽
出、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；ジク
ロロメタン:n−ヘキサン：酢酸エチル＝10:10:1）で精
製し、ジクロロメタン−ｎ−ヘキサンで再結晶すること
により２−（２−ベンゾフラニル）−１−（４−メトキ
シフェニル）エタノンの無色結晶2.0gを得た。
温下、撹拌しながらベンゾフラン−２−酢酸3.5gを含む
ベンゼン21ml溶液を滴下した。結晶がすべて溶解した
後、反応液を減圧留去した。得られた残渣に、ジクロロ
メタン40ml及びアニソール2.6gを加え、この混合液に室
温下無水塩化アルミニウム2.7gを徐々に加え、２時間撹
拌した。反応液を希塩酸中に注ぎ、ジクロロメタンで抽
出、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；ジク
ロロメタン:n−ヘキサン：酢酸エチル＝10:10:1）で精
製し、ジクロロメタン−ｎ−ヘキサンで再結晶すること
により２−（２−ベンゾフラニル）−１−（４−メトキ
シフェニル）エタノンの無色結晶2.0gを得た。
m.p.100〜102℃ （２）２−（２−ベンゾフラニル）−１−（４−メトキ
シフェニル）エタノン1.0g及び二酸化セレン0.46gを含
むジオキサン2ml−水1mlの混合液を４時間還流した。反
応液を室温に戻した後、析出した結晶を過して除き、
液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶出溶媒;n−ヘキサン：ジクロロメタ
ン：酢酸エチル＝20:5:1）で精製し、ジクロロメタン−
ｎ−ヘキサンで再結晶することにより１−（２−ベンゾ
フラニル）−２−（４−メトキシフェニル）エタンジオ
ンの黄色結晶0.62gを得た。
シフェニル）エタノン1.0g及び二酸化セレン0.46gを含
むジオキサン2ml−水1mlの混合液を４時間還流した。反
応液を室温に戻した後、析出した結晶を過して除き、
液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶出溶媒;n−ヘキサン：ジクロロメタ
ン：酢酸エチル＝20:5:1）で精製し、ジクロロメタン−
ｎ−ヘキサンで再結晶することにより１−（２−ベンゾ
フラニル）−２−（４−メトキシフェニル）エタンジオ
ンの黄色結晶0.62gを得た。
m.p.160〜161℃ （３）１−（２−ベンゾフラニル）−２−（４−メトキ
シフェニル）エタンジオンを用い、実施例１（２）と同
様にして下記の化合物を得た。
シフェニル）エタンジオンを用い、実施例１（２）と同
様にして下記の化合物を得た。
４（５）−（２−ベンゾフラニル）−５（４）−（４
−メトキシフェニル）−２−ｔ−ブチルイミダゾール m.p.232.5〜234℃ （クロロホルム−ｎ−ヘキサン） ４（５）−（２−ベンゾフラニル）−５（４）−（４
−メトキシフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）
イミダゾール m.p.242〜243℃ （クロロホルム−ｎ−ヘキサン） 実施例９ 実施例１で得た4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベン
ゾフラニル）−２−ｔ−ブチルイミダゾール0.20gを含
むエーテル20ml溶液に、室温下、濃塩酸0.2mlを加え30
分間撹拌した。溶媒を留去した後、析出した結晶をエー
テル20mlで洗浄し、過することにより4,5−ビス（2,3
−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−２−ｔ−ブチルイ
ミダゾール塩酸塩0.16gを得た。
−メトキシフェニル）−２−ｔ−ブチルイミダゾール m.p.232.5〜234℃ （クロロホルム−ｎ−ヘキサン） ４（５）−（２−ベンゾフラニル）−５（４）−（４
−メトキシフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）
イミダゾール m.p.242〜243℃ （クロロホルム−ｎ−ヘキサン） 実施例９ 実施例１で得た4,5−ビス（2,3−ジヒドロ−５−ベン
ゾフラニル）−２−ｔ−ブチルイミダゾール0.20gを含
むエーテル20ml溶液に、室温下、濃塩酸0.2mlを加え30
分間撹拌した。溶媒を留去した後、析出した結晶をエー
テル20mlで洗浄し、過することにより4,5−ビス（2,3
−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−２−ｔ−ブチルイ
ミダゾール塩酸塩0.16gを得た。
m.p.308〜315℃ 実施例９と同様にして下記の化合物を得た。
4,5−ビス（５−ベンゾフラニル）−２−ｔ−ブチル
イミダゾール塩酸塩 m.p.295〜305℃（分解）
イミダゾール塩酸塩 m.p.295〜305℃（分解）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ａ６１Ｋ 31/415 ＡＢＥ Ａ６１Ｋ 31/415 ＡＢＥ 31/44 ＡＡＨ 31/44 ＡＡＨ (72)発明者 畑山 勝男 東京都豊島区高田３丁目24番１号 大正 製薬株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−143366（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 405/00 - 405/14 C07D 409/00 - 409/14 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＭＥＤＬＩＮＥ（ＳＴＮ) ＷＰＩＤＳ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】式 ［式中、R1は2,3−ジヒドロベンゾフラニル基又はベン
ゾフラニル基を示し、R2は2,3−ジヒドロベンゾフラニ
ル基、ベンゾフラニル基又は低級アルコキシ基で置換さ
れたフェニル基を示し、R3は低級アルキル基、ハロゲン
原子で置換された低級アルキル基、シクロアルキル基、
チエニル基、ピリジル基、メルカプト基、式 −Ｓ（Ｏ）nCH3 （式中、ｎは０〜２の整数である。）で示される基、フ
ェニル基又はハロゲン原子、低級アルコキシ基若しくは
ニトロ基で置換されたフェニル基を示す。］で表される
イミダゾール誘導体及びその酸付加塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1298297A JP2808460B2 (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | イミダゾール誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1298297A JP2808460B2 (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | イミダゾール誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03157383A JPH03157383A (ja) | 1991-07-05 |
| JP2808460B2 true JP2808460B2 (ja) | 1998-10-08 |
Family
ID=17857822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1298297A Expired - Lifetime JP2808460B2 (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | イミダゾール誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2808460B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| ES2301161T3 (es) * | 1994-07-27 | 2008-06-16 | Vanderbilt University | Compuestos de dihidrobenzofurano y compuestos relacionados utiles como agentes anti-inflamatorios. |
| US5672620A (en) * | 1996-02-01 | 1997-09-30 | The Procter & Gamble Company | Dihydrobenzofuran and related compounds useful as anti-inflammatory agents |
| US5684031A (en) * | 1996-02-01 | 1997-11-04 | The Procter & Gamble Company | Dihydrobenzofuran and related compounds useful as anti-inflammatory agents |
| US5821250A (en) * | 1996-02-01 | 1998-10-13 | The Procter & Gamble Company | Dihydrobenzofuran and related compounds useful as anti-inflammatory agents |
| US6787063B2 (en) | 2001-03-12 | 2004-09-07 | Seiko Epson Corporation | Compositions, methods for producing films, functional elements, methods for producing functional elements, methods for producing electro-optical devices and methods for producing electronic apparatus |
| US8865732B2 (en) | 2008-03-21 | 2014-10-21 | Novartis Ag | Heterocyclic compounds and uses thereof |
| EA201001456A1 (ru) | 2008-03-21 | 2011-06-30 | Новартис Аг | Новые гетероциклические соединения и их применение |
| US9242969B2 (en) | 2013-03-14 | 2016-01-26 | Novartis Ag | Biaryl amide compounds as kinase inhibitors |
| UY36294A (es) | 2014-09-12 | 2016-04-29 | Novartis Ag | Compuestos y composiciones como inhibidores de quinasa |
| GB201718285D0 (en) * | 2017-11-03 | 2017-12-20 | Discuva Ltd | Antibacterial Compounds |
-
1989
- 1989-11-16 JP JP1298297A patent/JP2808460B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03157383A (ja) | 1991-07-05 |
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Effective date: 20061226 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
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| A521 | Written amendment |
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| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20070320 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |
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| A521 | Written amendment |
Effective date: 20070521 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20070528 |
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