JPH03148602A - 非球面鏡およびその製造又は複製方法 - Google Patents
非球面鏡およびその製造又は複製方法Info
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- JPH03148602A JPH03148602A JP2195104A JP19510490A JPH03148602A JP H03148602 A JPH03148602 A JP H03148602A JP 2195104 A JP2195104 A JP 2195104A JP 19510490 A JP19510490 A JP 19510490A JP H03148602 A JPH03148602 A JP H03148602A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
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- G—PHYSICS
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- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は非球面反射鏡又は軸外し反射鏡に関し、特に、
球面鏡の弾性変形により製造される非球面鏡に関する。
球面鏡の弾性変形により製造される非球面鏡に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕従来
の球面鏡はガラス又は他の適切な基板の研磨とラップ仕
上げによって製造されるのが普通である。楕円、双曲線
、放物線、軸外し放物線及びトーラスなどの断面形状を
もつ非球面鏡又は軸外し鏡は製造するのが難しく、製造
コストも高い。
の球面鏡はガラス又は他の適切な基板の研磨とラップ仕
上げによって製造されるのが普通である。楕円、双曲線
、放物線、軸外し放物線及びトーラスなどの断面形状を
もつ非球面鏡又は軸外し鏡は製造するのが難しく、製造
コストも高い。
断面がトーラス形の鏡又は反射鏡は、回転対称軸がない
ために、製造及び使用が最も困難な鏡である。
ために、製造及び使用が最も困難な鏡である。
光学複製技術を利用すると、研磨とラップ仕上げによっ
て唯1つの高品質マスターを製造するだけで済むので、
非球面光学素子を製造するときの難しさは軽減されてき
た。製造後、マスターをかなシの低コストで、大量に複
製できる。トーリック素子の場合、底面曲率と円筒曲率
の双方を正確に製造しなければならないので、高品質マ
スターを製造することが困難であり、そのような素子の
製造は依然として難しい。
て唯1つの高品質マスターを製造するだけで済むので、
非球面光学素子を製造するときの難しさは軽減されてき
た。製造後、マスターをかなシの低コストで、大量に複
製できる。トーリック素子の場合、底面曲率と円筒曲率
の双方を正確に製造しなければならないので、高品質マ
スターを製造することが困難であり、そのような素子の
製造は依然として難しい。
トーリックミラー、すなわちトーリック反射鏡は、X軸
曲率半径Rxと、直交するY軸曲率半径RYとを有する
2つの互いに垂直な円筒面をもつ反射鏡として定義され
ている。トーリックミラーの鏡面は基本曲率半径Reを
有する球面の加法組合せ又は減法組合せからも得られる
が、その場合、円筒加法又は減法差半径はX軸に沿って
位置し、X軸曲率半径WaXを修正する。
曲率半径Rxと、直交するY軸曲率半径RYとを有する
2つの互いに垂直な円筒面をもつ反射鏡として定義され
ている。トーリックミラーの鏡面は基本曲率半径Reを
有する球面の加法組合せ又は減法組合せからも得られる
が、その場合、円筒加法又は減法差半径はX軸に沿って
位置し、X軸曲率半径WaXを修正する。
X軸に沿った曲率半径をRaXとし、Y@に沿った曲率
半径をILcyとしたとき、それらのパラメータRCX
及びR(iYによシどのようなトーリックミラーをも完
全に規定することができる。これら2つのパラメータの
一方、通常、gayはトーリックミラーの球面成分の基
本曲率半径Reを表わし、通常RCXである第2のパラ
メータは、下方に位置する球面に重ね合わせられる円筒
加法又は減法成分から得られる修正曲率半径を表わす。
半径をILcyとしたとき、それらのパラメータRCX
及びR(iYによシどのようなトーリックミラーをも完
全に規定することができる。これら2つのパラメータの
一方、通常、gayはトーリックミラーの球面成分の基
本曲率半径Reを表わし、通常RCXである第2のパラ
メータは、下方に位置する球面に重ね合わせられる円筒
加法又は減法成分から得られる修正曲率半径を表わす。
既存の鏡製造技術を採用した場合、許容差のきわめてす
ぐれたトーリックミラーの鏡面を、大量生産製品での使
用を可能にするようなコストで製造することは困難であ
った。
ぐれたトーリックミラーの鏡面を、大量生産製品での使
用を可能にするようなコストで製造することは困難であ
った。
従って、本発明の主な目的は、きわ、めて高い精度をも
って低コストで大量生産できる非球面鏡。
って低コストで大量生産できる非球面鏡。
特にトーリックミラーを提供することである。
本発明の別の目的は、従来のどの非球面鏡製造技術を利
用したときよりも相当に高い精度をもって、相当に低い
コストで大量生産できる非球面鏡。
用したときよりも相当に高い精度をもって、相当に低い
コストで大量生産できる非球面鏡。
特にトーリックミラーを提供することである。
本発明の別の目的社、軸外し角度が大きい場合にも使用
するための高精度の非球面鏡を形成するために大量生産
できる非球面鏡、特にトーリックミラーを提供すること
である。
するための高精度の非球面鏡を形成するために大量生産
できる非球面鏡、特にトーリックミラーを提供すること
である。
本発明の別の目的は、大量生産された球面鏡の制御下で
の弾性変形によって製造される非球面鏡。
の弾性変形によって製造される非球面鏡。
特にトーリックミラーを提供することである。
本発明の別の目的は、球面鏡の背面と隣接する要素の前
面との間に配置されるシム面による球面鏡の制御下での
変形から得られる非球面鏡、特にトーリックミラーを提
供することである。
面との間に配置されるシム面による球面鏡の制御下での
変形から得られる非球面鏡、特にトーリックミラーを提
供することである。
本発明のさらに別の目的は、フィールドフラットニング
及び非点収差/収差の補正の目的でモノクロメータ又は
分光写真器において使用するための非球面鏡、特にトー
リックミラーを提供することである。
及び非点収差/収差の補正の目的でモノクロメータ又は
分光写真器において使用するための非球面鏡、特にトー
リックミラーを提供することである。
本発明のさらに別の目的は、厳密に制御さtた量の円筒
曲率を球面鏡に対し加算又は減算することにより形成さ
れる非球面鏡、特にトーリックミラーを提供することで
ある。
曲率を球面鏡に対し加算又は減算することにより形成さ
れる非球面鏡、特にトーリックミラーを提供することで
ある。
簡単にいうと、本発明の一実施例によれば、非球面鏡は
、球面反射鏡を規定する前面と、離間した背面とを有す
る第4の要素を具備する。球面反射鏡社−定の曲率半径
と、X軸曲率半径を有するX軸と、Y軸曲率半径を有す
るY軸とを含む。第1の要素は第1の剛性係数を有する
ように製造されている。第2の要素は、境界面ゾーンに
沿って第1の要素の背面に相応する大きさに規定された
前面を含む。第2の要素は第2の剛性係数を有するよう
に製造されている。境界面輪郭手段は、第1の要素と第
2の要素との間の境界面ゾーンの中に輪郭差を形成する
。この境界面一輪郭手段は、球面反射鏡のY軸曲率半径
をほとんど修正せずにX軸曲率半径を修正するようにア
ライメントされている。圧縮手段は、球面反射鏡のY軸
曲率半径を#1とんど修正せずにそのX軸曲率半径を修
正するために、第1の要素と第2の要素を共に圧縮して
、第1の要素を第2の要素に対して偏向させる。上記の
構造によって、境界面輪郭手段によシ確定された修正X
軸曲率半径と、ほぼ変化していないY軸曲率半径とを有
する非球面鏡が得られる。
、球面反射鏡を規定する前面と、離間した背面とを有す
る第4の要素を具備する。球面反射鏡社−定の曲率半径
と、X軸曲率半径を有するX軸と、Y軸曲率半径を有す
るY軸とを含む。第1の要素は第1の剛性係数を有する
ように製造されている。第2の要素は、境界面ゾーンに
沿って第1の要素の背面に相応する大きさに規定された
前面を含む。第2の要素は第2の剛性係数を有するよう
に製造されている。境界面輪郭手段は、第1の要素と第
2の要素との間の境界面ゾーンの中に輪郭差を形成する
。この境界面一輪郭手段は、球面反射鏡のY軸曲率半径
をほとんど修正せずにX軸曲率半径を修正するようにア
ライメントされている。圧縮手段は、球面反射鏡のY軸
曲率半径を#1とんど修正せずにそのX軸曲率半径を修
正するために、第1の要素と第2の要素を共に圧縮して
、第1の要素を第2の要素に対して偏向させる。上記の
構造によって、境界面輪郭手段によシ確定された修正X
軸曲率半径と、ほぼ変化していないY軸曲率半径とを有
する非球面鏡が得られる。
本発明は特許請求の範囲の中に詳細に指摘されているが
、本発明のその他の目的及び利点は、その作用と共に、
添付の図面に関連する以下の詳細な説明を参照すること
によシ、さらに明瞭に理解されるであろう。
、本発明のその他の目的及び利点は、その作用と共に、
添付の図面に関連する以下の詳細な説明を参照すること
によシ、さらに明瞭に理解されるであろう。
本発明は、いくつかの種類の非球面光学系を製造するた
めに利用可能である。様々な形状と向きをもつシムの組
合せと、基板と、境界面輪郭装置と、圧縮装置といった
以下にさらに説明するような要素を使用して、球面鏡を
制御下で変形させることにより、楕円、双曲線、放物線
、軸外し放物線及びトーラスをそれぞれ形成することが
できる。
めに利用可能である。様々な形状と向きをもつシムの組
合せと、基板と、境界面輪郭装置と、圧縮装置といった
以下にさらに説明するような要素を使用して、球面鏡を
制御下で変形させることにより、楕円、双曲線、放物線
、軸外し放物線及びトーラスをそれぞれ形成することが
できる。
また、同じようにシムの組合せと、基板と、各装置とを
使用することによシ、鏡の反射面に「任意の」偏向を導
入するために本発明を採用することも可能であり、本発
明を光学面の輪郭「補正装置」として使用しても良いの
である。そのような用途の例としては、シュミット−カ
セグレン式望遠鏡の補正板や、マンガニン鏡の可変厚ガ
ラスに代わるものとして本発明を使用する場合が挙げら
れるてあろう。
使用することによシ、鏡の反射面に「任意の」偏向を導
入するために本発明を採用することも可能であり、本発
明を光学面の輪郭「補正装置」として使用しても良いの
である。そのような用途の例としては、シュミット−カ
セグレン式望遠鏡の補正板や、マンガニン鏡の可変厚ガ
ラスに代わるものとして本発明を使用する場合が挙げら
れるてあろう。
このような非球面の製造に当たり、本発明は低コストで
、きわめて高精度であり且つ再現性のある製造方法を提
供する。本発明は、焦点合せ調整などを行うために鏡面
に対してなすべきわずかな調整、すなわちライ−キング
に対応する。さらに、本発明によりきわめて正確な非球
面を形成できるので、後の大量生産に備えた複製のため
に、非常に高品質のマスター非球面を製造することがで
きる。
、きわめて高精度であり且つ再現性のある製造方法を提
供する。本発明は、焦点合せ調整などを行うために鏡面
に対してなすべきわずかな調整、すなわちライ−キング
に対応する。さらに、本発明によりきわめて正確な非球
面を形成できるので、後の大量生産に備えた複製のため
に、非常に高品質のマスター非球面を製造することがで
きる。
本発明の利点及び本発明が当該技術に寄与するものをさ
らにわか)やすく示すために1次に、本発明の好ましい
実施例のハードウェア面を幾分詳しく説明する。下記の
実施例は、モノクロメータ及び分光写真器のコリメーテ
ィングミラー及び集束ミラーとして使用するのに特に適
しているトーリックミラーの形態をとる非球面鏡の製造
を開示するものである。
らにわか)やすく示すために1次に、本発明の好ましい
実施例のハードウェア面を幾分詳しく説明する。下記の
実施例は、モノクロメータ及び分光写真器のコリメーテ
ィングミラー及び集束ミラーとして使用するのに特に適
しているトーリックミラーの形態をとる非球面鏡の製造
を開示するものである。
第1図は、均一な基本曲率半径RCXを有する従来の球
面反射鏡を表わす二次元正面図である。第1図では、R
cは500mK等しいと仮定している。
面反射鏡を表わす二次元正面図である。第1図では、R
cは500mK等しいと仮定している。
従って、UCXとItcyも共に500Hに等しい。
次に1第2図、第3図A乃至F及び第4図を参照して説
明すると、高精度複製技術により製造された球面反射鏡
10はR(: = 500 wtの基本曲率半径を有す
る。 Rcx = 46051w及びRcy = 50
0 Bというパラメータをもつトーリックミラーの形態
をとる非球面鏡を製造するに際しては、その結果を達成
するのに必要である本発明の様々な要素の構造を確定す
るために、一連の測定と計算を実行しなければならない
。
明すると、高精度複製技術により製造された球面反射鏡
10はR(: = 500 wtの基本曲率半径を有す
る。 Rcx = 46051w及びRcy = 50
0 Bというパラメータをもつトーリックミラーの形態
をとる非球面鏡を製造するに際しては、その結果を達成
するのに必要である本発明の様々な要素の構造を確定す
るために、一連の測定と計算を実行しなければならない
。
第3図A乃至Fは、本発明の好ましい一実施例を示す。
これは、R(H=500mの基本曲率半径を有する複製
球面反射鏡の形態をとる第1の要素を含む。本発明のこ
の実施例においては、球面反射鏡は、第1の剛性係数を
もつ第1の要素としてのアルミニウム基板12の上に形
成されている。
球面反射鏡の形態をとる第1の要素を含む。本発明のこ
の実施例においては、球面反射鏡は、第1の剛性係数を
もつ第1の要素としてのアルミニウム基板12の上に形
成されている。
第3図B及び第3図Eに示すように1第1の要素12の
背面11を平坦な面である。本発明の一実施例では、第
1の要素12の高さ、すなわち奥行は二分の−インチに
等しくなるように選択されておシ、第1の要素12のY
軸に沿って、間隔をおいて、一連の3つの開口16があ
けられている。開口16の深さは四分の−インチである
。 一 本発明のトーリックミラー社第2の要素18をさらに含
むが、第3図A乃至Fの実施例によれば、この要素社平
坦な前面20と、平坦な背面22を含み、その厚さは第
1の要素12の厚さと等しくなるように二分の−インチ
になっている。本発明のこの特定の実施例においては、
第2の要素18は、第1の要素12の製造に利用される
アルミニウムの第1の剛性係数よシ相当に大きい第2の
剛性係数を有する鋼から製造される。通常、鋼はアルミ
ニウムの固有剛性係数の約3,5倍の固有剛性係数を有
している。
背面11を平坦な面である。本発明の一実施例では、第
1の要素12の高さ、すなわち奥行は二分の−インチに
等しくなるように選択されておシ、第1の要素12のY
軸に沿って、間隔をおいて、一連の3つの開口16があ
けられている。開口16の深さは四分の−インチである
。 一 本発明のトーリックミラー社第2の要素18をさらに含
むが、第3図A乃至Fの実施例によれば、この要素社平
坦な前面20と、平坦な背面22を含み、その厚さは第
1の要素12の厚さと等しくなるように二分の−インチ
になっている。本発明のこの特定の実施例においては、
第2の要素18は、第1の要素12の製造に利用される
アルミニウムの第1の剛性係数よシ相当に大きい第2の
剛性係数を有する鋼から製造される。通常、鋼はアルミ
ニウムの固有剛性係数の約3,5倍の固有剛性係数を有
している。
第2の要素18は、第1の要素12にある開口16と厳
密に対応するように寸法を定められた一連の3つの互い
に離間して設けられている開口24をさらに含む。複数
個のねじ26は、第1の要素12と第2の要素18とを
一体に圧縮するための本発明の圧縮手段として利用され
る。
密に対応するように寸法を定められた一連の3つの互い
に離間して設けられている開口24をさらに含む。複数
個のねじ26は、第1の要素12と第2の要素18とを
一体に圧縮するための本発明の圧縮手段として利用され
る。
本発明の第3図A乃至Fの実施例における境界面輪郭手
段28は、シム30,32及び34のような複数の特別
な形状のシムの形態をとる。これらのシム社第1の要素
12と第2の要素18との間の境界面ゾーア36の中に
差込まれる。
段28は、シム30,32及び34のような複数の特別
な形状のシムの形態をとる。これらのシム社第1の要素
12と第2の要素18との間の境界面ゾーア36の中に
差込まれる。
次に、第4図を参照して、第3図のトーリックミラーに
関して境界面輪郭手段28の特定の輪郭を確定する方法
を詳細に説明する。第3図Aに示す通り、ここでは、便
宜上、Rcg =460■及びRe v = 500m
のパラメータを有するトーリックミラーを選択した。
関して境界面輪郭手段28の特定の輪郭を確定する方法
を詳細に説明する。第3図Aに示す通り、ここでは、便
宜上、Rcg =460■及びRe v = 500m
のパラメータを有するトーリックミラーを選択した。
第4図により示すように、まず、X軸曲率半径Rcx
” 460mを有する第1の球面と、X軸曲率半径Rc
x=500■を有する第2の球面という2つの球面を選
択し、それらの球面について、X軸及び2軸に関する正
確な、スケーリングされたグラフ表示を描く。第4図に
は、それら2つの曲線は図中符号38及び40で示され
ており、第3図Aの所望のトーリックミラーのパラメー
タRc x =460■及びRcマ= soo sst
に対応する。曲線38及び40は、シムの幅と厚さの寸
法を容易に確定できるようにするという目的で描かれる
。
” 460mを有する第1の球面と、X軸曲率半径Rc
x=500■を有する第2の球面という2つの球面を選
択し、それらの球面について、X軸及び2軸に関する正
確な、スケーリングされたグラフ表示を描く。第4図に
は、それら2つの曲線は図中符号38及び40で示され
ており、第3図Aの所望のトーリックミラーのパラメー
タRc x =460■及びRcマ= soo sst
に対応する。曲線38及び40は、シムの幅と厚さの寸
法を容易に確定できるようにするという目的で描かれる
。
第3図A及び第4図に示す通り、まず、第1の要素12
の反射面を、X軸に沿って、1群の幅の等しいセグメン
トに分割する。この場合、10m幅のX軸セグメントを
それぞれ選択している。各セグメントは図中符号X1.
X、、X、及(i X a (D LQずれか1つによ
シ指示されている。
の反射面を、X軸に沿って、1群の幅の等しいセグメン
トに分割する。この場合、10m幅のX軸セグメントを
それぞれ選択している。各セグメントは図中符号X1.
X、、X、及(i X a (D LQずれか1つによ
シ指示されている。
第2図及び第4図に示すように、第1の要素120反射
面の中心からその外側縁部までの半径方向距離をr=3
5mとして設定し且つそれぞれのシムの幅を10雪と等
しくなるように設定した場合、横断面が矩形であるそれ
ぞれのシムの高さ、すなわち厚さを第4図のグラフから
直接、容易に測定することができる。
面の中心からその外側縁部までの半径方向距離をr=3
5mとして設定し且つそれぞれのシムの幅を10雪と等
しくなるように設定した場合、横断面が矩形であるそれ
ぞれのシムの高さ、すなわち厚さを第4図のグラフから
直接、容易に測定することができる。
Y軸曲率半径Rc1をひずみのない球面反射鏡の500
諺の曲率半径と等しい状態に維持することが望まれるの
で、シムゾーンX!の中に配置される最も中央のシムの
厚さはゼロに等しい。すなわち、この中央のシムシーフ
の中にはシム扛配置されないことになる。この特定の関
係は、第3図りに示すようなシムゾーンXlの中の第1
の要素12と第2の要素18との間の境界面を参照する
か、あるいは、第4図において、シムゾーyX1の中で
は曲線38及び40が半径方向距離r = 0のところ
で互いに重なっていることに注目することにより、見て
とれる。
諺の曲率半径と等しい状態に維持することが望まれるの
で、シムゾーンX!の中に配置される最も中央のシムの
厚さはゼロに等しい。すなわち、この中央のシムシーフ
の中にはシム扛配置されないことになる。この特定の関
係は、第3図りに示すようなシムゾーンXlの中の第1
の要素12と第2の要素18との間の境界面を参照する
か、あるいは、第4図において、シムゾーyX1の中で
は曲線38及び40が半径方向距離r = 0のところ
で互いに重なっていることに注目することにより、見て
とれる。
ここで、第2図及び第4図を参照して、シムゾーンX4
の中に配置される最も外側のシム34の厚さを計算する
方法を詳細に説明する。以下では10m幅のシムゾーン
X4について詳細に説明する。lO■幅のシムゾーンX
<B半径方向距離r=251から半径方向距離r ”
35 mmまで広がっている。
の中に配置される最も外側のシム34の厚さを計算する
方法を詳細に説明する。以下では10m幅のシムゾーン
X4について詳細に説明する。lO■幅のシムゾーンX
<B半径方向距離r=251から半径方向距離r ”
35 mmまで広がっている。
r=30であるシムゾーンx4の中心で、Z軸と平行に
、点44及び46で曲線38と曲線40の双方と交差す
るように水平の線42を引く。従って、シム34の高さ
、すなわち厚さは、点44と点46との距離差に対応す
る寸法線48によつ て表わされることになる。この距
離差は、シムゾーンX4の中でシム34によシ曲線38
に与えられなければならない円筒輪郭差に対応している
。
、点44及び46で曲線38と曲線40の双方と交差す
るように水平の線42を引く。従って、シム34の高さ
、すなわち厚さは、点44と点46との距離差に対応す
る寸法線48によつ て表わされることになる。この距
離差は、シムゾーンX4の中でシム34によシ曲線38
に与えられなければならない円筒輪郭差に対応している
。
そこで、この特定の寸法について、シム34社、シムゾ
ーンX4のセグメントの中で、下方に位置する球面反射
鏡10の500■の曲率半径Rexを所望の小さい曲率
半径Rcx””460wmに偏向させることができる。
ーンX4のセグメントの中で、下方に位置する球面反射
鏡10の500■の曲率半径Rexを所望の小さい曲率
半径Rcx””460wmに偏向させることができる。
反射鏡の基板と、支持部材との固有剛性係数及び厚さの
比によってシムの厚さを修正すると、利用すべき適正な
シムの厚さが得られる。
比によってシムの厚さを修正すると、利用すべき適正な
シムの厚さが得られる。
第4図に示す種類のグラフにおいて同様の測定を行うこ
とによシ、シム30及び32の高さ、すなわち厚さを容
易に確定することができる。
とによシ、シム30及び32の高さ、すなわち厚さを容
易に確定することができる。
第3図A乃至Fに示すようなトーリックミラーの組立て
と製造を完全に行うために、球面反射鏡10の第1の要
素12と第2の要素18との間の境界面ゾー/36に、
6個の対を成すシム30゜32及び34を1組として差
込み、トルク値を均等化するためにねじ26を締める。
と製造を完全に行うために、球面反射鏡10の第1の要
素12と第2の要素18との間の境界面ゾー/36に、
6個の対を成すシム30゜32及び34を1組として差
込み、トルク値を均等化するためにねじ26を締める。
第3図Eは、曲率半径Rc x ”” Re v =
500■を有する圧縮されず、ひずみのない従来の球面
鏡を成す第1の要素12を示す。隣りの第3図りは、先
に説明した様々なねじ及び開口の形態をとる本発明の圧
縮手段によって第2の要素18に圧接された後の第1の
要素12を示す。図中符号50で示す点線は、第3図E
のレンズ要素の圧縮前の曲率半径Rc x = 500
露を表わす。実線52は、要素12及び18と、対を成
すシム30,32及び34との相互圧縮作用がどのよう
にして第1の要素12の彎曲した反射面をRCX= 4
60 wmである第2の形状へと偏向させるかを示して
いる。
500■を有する圧縮されず、ひずみのない従来の球面
鏡を成す第1の要素12を示す。隣りの第3図りは、先
に説明した様々なねじ及び開口の形態をとる本発明の圧
縮手段によって第2の要素18に圧接された後の第1の
要素12を示す。図中符号50で示す点線は、第3図E
のレンズ要素の圧縮前の曲率半径Rc x = 500
露を表わす。実線52は、要素12及び18と、対を成
すシム30,32及び34との相互圧縮作用がどのよう
にして第1の要素12の彎曲した反射面をRCX= 4
60 wmである第2の形状へと偏向させるかを示して
いる。
第3図りの断面図に示すように、鏡面のRe、=500
wmからRcm= 460 wmへのこの特定の偏向
角度IIiX軸でのみ起こるという点に注目することが
大切である。シムゾーンXIKaシムが差込まれていな
いため、Y軸に関する曲率半径Re YFi+1は50
0箇に等しいままである。第2図に矢印54により示す
通り、X軸からの半径方向距離を一定に保った状態でY
軸を中心として角運動を行うことによシ、曲率半径は変
化しながら絶えず大きくなる結果となるが、X軸では曲
率半径は460■に等しくなJ、Y軸でa、soo■の
曲率半径に達するまで#1ば連続的に増加する。
wmからRcm= 460 wmへのこの特定の偏向
角度IIiX軸でのみ起こるという点に注目することが
大切である。シムゾーンXIKaシムが差込まれていな
いため、Y軸に関する曲率半径Re YFi+1は50
0箇に等しいままである。第2図に矢印54により示す
通り、X軸からの半径方向距離を一定に保った状態でY
軸を中心として角運動を行うことによシ、曲率半径は変
化しながら絶えず大きくなる結果となるが、X軸では曲
率半径は460■に等しくなJ、Y軸でa、soo■の
曲率半径に達するまで#1ば連続的に増加する。
第3図Fは、Rcx”460■及びRe v = 50
0露を有するトーリックミラーに再構成されるべき基本
曲率半径uc=500mを有する球面反射鏡と関連して
採用するための様々なシムの厚さの値を示す表である。
0露を有するトーリックミラーに再構成されるべき基本
曲率半径uc=500mを有する球面反射鏡と関連して
採用するための様々なシムの厚さの値を示す表である。
この第3図Fには、球面反射鏡の半径が42.5■であ
るときのシムの厚さの値と、各シムの対応するシムゾー
ン位置とを示す。
るときのシムの厚さの値と、各シムの対応するシムゾー
ン位置とを示す。
次に、第5図Aから第5図Eを参照して、トーリックミ
ラーとしての本発明の第2の実施例を説、 明す占。
ラーとしての本発明の第2の実施例を説、 明す占。
この場合、複数のシムの形態をとる境界面輪郭手段は、
Y軸曲率半径RcTより大きいX軸曲率半径ReXを得
るために、境界面ゾーン36の中に円筒輪郭差を形成す
る。尚、Rcyは偏向前の球面反射鏡の基本曲率半径R
cに相当する。
Y軸曲率半径RcTより大きいX軸曲率半径ReXを得
るために、境界面ゾーン36の中に円筒輪郭差を形成す
る。尚、Rcyは偏向前の球面反射鏡の基本曲率半径R
cに相当する。
本発明の第5図A乃至Fの実施例においては、開口16
及び24と、ねじ26との組合せという形態をとる圧縮
手段は、第1の要素12及び第2の要素18のX軸に沿
って向きを定められている。
及び24と、ねじ26との組合せという形態をとる圧縮
手段は、第1の要素12及び第2の要素18のX軸に沿
って向きを定められている。
第3図の実施例では、同様の構造が2つの要素12及び
18のY軸に沿って向きを定められていた。
18のY軸に沿って向きを定められていた。
このように第5図A乃至Fの圧縮手段を直交する向きに
配置すると共に、シムゾーンX1に中央シム56を配置
し、シムゾーンx2には中間シム58を配置し、シムゾ
ーyX、には外側シム60を配置し且つ最も外側のシム
ゾーンX4ではシムを全く使用しないことにより、Y軸
曲率半径RcY並びに球面反射鏡10の基本曲率半径R
c:を越えるX軸曲率半径Rexが得られる。
配置すると共に、シムゾーンX1に中央シム56を配置
し、シムゾーンx2には中間シム58を配置し、シムゾ
ーyX、には外側シム60を配置し且つ最も外側のシム
ゾーンX4ではシムを全く使用しないことにより、Y軸
曲率半径RcY並びに球面反射鏡10の基本曲率半径R
c:を越えるX軸曲率半径Rexが得られる。
第5図に示す本発明の同等ではあるが、構造上は明確に
異なる実施例のシムの厚さは、第4図に示す種類のグラ
フを使用することによシ計算される。本発明の第5図の
実施例の場合、Rcx=560■及びRc v ” 5
00■と仮定した。まず、第4図に関連して先に説明し
た通りに対応する曲線をグラフに描くのであるが、ここ
では、大きい#1うの曲率半径(Rcx= 560■)
に対応する曲線を、小さいほうの(Re v = 50
0■)の曲線と交差するまで正の2軸に沿ってずらすと
いう点が異なる。中央シム56の厚さは、X=O(2つ
の曲線の中心)であるところの2つの曲線の2軸に沿っ
た距離差に相当する。
異なる実施例のシムの厚さは、第4図に示す種類のグラ
フを使用することによシ計算される。本発明の第5図の
実施例の場合、Rcx=560■及びRc v ” 5
00■と仮定した。まず、第4図に関連して先に説明し
た通りに対応する曲線をグラフに描くのであるが、ここ
では、大きい#1うの曲率半径(Rcx= 560■)
に対応する曲線を、小さいほうの(Re v = 50
0■)の曲線と交差するまで正の2軸に沿ってずらすと
いう点が異なる。中央シム56の厚さは、X=O(2つ
の曲線の中心)であるところの2つの曲線の2軸に沿っ
た距離差に相当する。
第5図Fは、球面反射鏡がr = 42−5−の半径を
有し且つシムゾーンの幅が10■であるときに、第5図
Aから第5図Eに関連して挙げたRcxとRcYの値を
得るためのシムの厚さの値を表わす表である。この単紙
化した例では、反射鏡の基板と支持部材の基板の固有剛
性係数及び厚さが及ぼす影響を特に考照しなかった。
有し且つシムゾーンの幅が10■であるときに、第5図
Aから第5図Eに関連して挙げたRcxとRcYの値を
得るためのシムの厚さの値を表わす表である。この単紙
化した例では、反射鏡の基板と支持部材の基板の固有剛
性係数及び厚さが及ぼす影響を特に考照しなかった。
本発明の第3図の実施例と第5図の実施例の双方につい
て、実施の便宜上、第4図のグラフ表示方法に従ったシ
ムの厚さの確定は、実際には第1の要素12の背面と最
初に接触する第3図に示す縁部62などのシムの縁部で
はなく、10一幅の各シムの中心点で行われる。このよ
うにシムの厚さ計算ポイントを変更すると、最良の実ワ
ールド結果が得られ、また、シム表面の縁部と、第1の
要素12の背面の対応する接触点との弾性変形に対応で
きる。この実ワールド対応は、以上引用したような本発
明の第3図及び第5図の実施例の構造と作用の詳細な説
明を見れば、当業者には容易に明らかになるであろう。
て、実施の便宜上、第4図のグラフ表示方法に従ったシ
ムの厚さの確定は、実際には第1の要素12の背面と最
初に接触する第3図に示す縁部62などのシムの縁部で
はなく、10一幅の各シムの中心点で行われる。このよ
うにシムの厚さ計算ポイントを変更すると、最良の実ワ
ールド結果が得られ、また、シム表面の縁部と、第1の
要素12の背面の対応する接触点との弾性変形に対応で
きる。この実ワールド対応は、以上引用したような本発
明の第3図及び第5図の実施例の構造と作用の詳細な説
明を見れば、当業者には容易に明らかになるであろう。
次に、第6図AとBに関して説明する。本発明の圧縮手
段が第3図及び第5図に示した特定のノー−ドウエア構
成に限定されないことを実証するために、第6図には、
第1の要素12を第2の要素18に関して圧縮して、球
形鏡面の所望のX軸偏向を得る圧縮手段の別の形態が示
されている。
段が第3図及び第5図に示した特定のノー−ドウエア構
成に限定されないことを実証するために、第6図には、
第1の要素12を第2の要素18に関して圧縮して、球
形鏡面の所望のX軸偏向を得る圧縮手段の別の形態が示
されている。
本発明の第6図AとBの実施例においては、圧縮外枠6
4は第1の要素12の外周縁部を把持する。この外枠6
4は、第1の要素12及び第2の要素18と、それらの
要素12及び18の間の境界面ゾーンの中に配置される
シム、すなわちシム面66の形態をとる境界面輪郭手段
との間に必要な圧縮力を加えるために、外枠64の内面
を第2の要素18の下面から離間する方向へ偏向させる
ように締付けられる複数個のねじを含む。
4は第1の要素12の外周縁部を把持する。この外枠6
4は、第1の要素12及び第2の要素18と、それらの
要素12及び18の間の境界面ゾーンの中に配置される
シム、すなわちシム面66の形態をとる境界面輪郭手段
との間に必要な圧縮力を加えるために、外枠64の内面
を第2の要素18の下面から離間する方向へ偏向させる
ように締付けられる複数個のねじを含む。
球面反射鏡のY軸曲率半径をほとんど修正せずにそのX
軸曲率半径を修正するために、第1の要素12を第2の
要素18に対して偏向させるという目的を達成するため
の数多くの他の異なる形態の圧縮手段は、当業者には容
易に明らかになるであろう。
軸曲率半径を修正するために、第1の要素12を第2の
要素18に対して偏向させるという目的を達成するため
の数多くの他の異なる形態の圧縮手段は、当業者には容
易に明らかになるであろう。
第7図Aから第7図Eは、第1の要素12と第2の要素
1Bとの間の境界面ゾーンの中の輪郭差を形成するため
の本発明の境界面輪郭手段を実現する様々な、互いに異
なってはいるが同等である方法に対応する一連の断面図
を示す。
1Bとの間の境界面ゾーンの中の輪郭差を形成するため
の本発明の境界面輪郭手段を実現する様々な、互いに異
なってはいるが同等である方法に対応する一連の断面図
を示す。
第7図Aでは、シムの形態をとる境界面輪郭手段を使用
せず、代わりに、第1の要素12の下面に凹形円筒輪郭
を形成している。この凹面の輪郭差は、複数の互いに離
間するシムの形態をとる境界面輪郭手段について先に第
4図に関連して説明したように計算される。本発明の第
7図Aの実施例は、Rcx>Revである非球面鏡を捉
供する。
せず、代わりに、第1の要素12の下面に凹形円筒輪郭
を形成している。この凹面の輪郭差は、複数の互いに離
間するシムの形態をとる境界面輪郭手段について先に第
4図に関連して説明したように計算される。本発明の第
7図Aの実施例は、Rcx>Revである非球面鏡を捉
供する。
第7図BFi、Rc x ) Re vである非球面鈍
を製造するための輪郭差面を表わす凸面の形態をとる境
界面輪郭手段を有する本発明の一実施例を示す。
を製造するための輪郭差面を表わす凸面の形態をとる境
界面輪郭手段を有する本発明の一実施例を示す。
第7図Cは、凹面を含むものとして示されているが、凸
形シム面として構成されても同じように適切に使用でき
るであろうと考えられる一体のシム面を示す。本発明の
第7図Cの実施例は、第3図及び第5図に示すような複
数の互いに離間する個別のシムの代わりに使用可能であ
ろう。
形シム面として構成されても同じように適切に使用でき
るであろうと考えられる一体のシム面を示す。本発明の
第7図Cの実施例は、第3図及び第5図に示すような複
数の互いに離間する個別のシムの代わりに使用可能であ
ろう。
第7図りは、本発明の境界面輪郭手段のさらに別の実施
例を示す。この場合には、輪郭差面社、Rex>Rゎ、
である非球面鏡を得るために第2の要素18の前面に凸
面として形成されている。
例を示す。この場合には、輪郭差面社、Rex>Rゎ、
である非球面鏡を得るために第2の要素18の前面に凸
面として形成されている。
第7図Eは、本発明の境界面輪郭手段のさらに別の実現
形態を示す。この場合には、Rex< Revである非
球面鏡を形成するために、第2の要素18の前面に凹面
が形成されている。
形態を示す。この場合には、Rex< Revである非
球面鏡を形成するために、第2の要素18の前面に凹面
が形成されている。
第7図A乃至Eに示す境界面輪郭手段の様々な実施例に
より明らかになったように、本発明の境界面輪郭手段を
実現する他の数多くの異なる方法は当業者には容易にわ
かるであろう。
より明らかになったように、本発明の境界面輪郭手段を
実現する他の数多くの異なる方法は当業者には容易にわ
かるであろう。
光学複製技術を利用すると、本発明による非球面鏡の大
量生産を実現することができる。採用さ れる方法の第
1の工程では、先に説明したように、本発明を利用して
きわめて正確に規定された非球面を製造する。次に、本
発明によって製造した面から、きわめて正確で高品質の
マスター非球面を作製する。最後に、マスター非球面を
使用して、光学工業の分野で回折格子や鏡の製造に広く
採用されているような標準の光学複製技術に従い、非球
面鏡を大量に製造する。この方法は、他の方法では大量
に製造するのが非常に困難であるトーリックミラーの大
量生産に特に適している。
量生産を実現することができる。採用さ れる方法の第
1の工程では、先に説明したように、本発明を利用して
きわめて正確に規定された非球面を製造する。次に、本
発明によって製造した面から、きわめて正確で高品質の
マスター非球面を作製する。最後に、マスター非球面を
使用して、光学工業の分野で回折格子や鏡の製造に広く
採用されているような標準の光学複製技術に従い、非球
面鏡を大量に製造する。この方法は、他の方法では大量
に製造するのが非常に困難であるトーリックミラーの大
量生産に特に適している。
反射鏡の鏡面に小さいが、調整された力を誘導するよう
に本発明に圧電素子を導入することにより、鏡の非球面
変形を能動的に微調整することができる。セラミック圧
電エキスパンダスラブを様々な形状と向きをもクシムや
、基板、境界面輪郭手段及び圧縮装置に加工することが
できる。スラブの両面にまたがって電圧を印加すると、
電圧の極性に応じてスラブは膨張又紘収縮し、ねじ26
又はその他の圧縮装置によシ加えられる主要な応力に対
してプラス又はマイナスの小さな応力を誘導する。
に本発明に圧電素子を導入することにより、鏡の非球面
変形を能動的に微調整することができる。セラミック圧
電エキスパンダスラブを様々な形状と向きをもクシムや
、基板、境界面輪郭手段及び圧縮装置に加工することが
できる。スラブの両面にまたがって電圧を印加すると、
電圧の極性に応じてスラブは膨張又紘収縮し、ねじ26
又はその他の圧縮装置によシ加えられる主要な応力に対
してプラス又はマイナスの小さな応力を誘導する。
この概念を第3図を参照することによシ図解できる。第
3図Aに示すシムX4を、圧電エキスパンダスラブと置
換える。スラブの両面にまたがって電圧を印加すると、
スラブは鏡面にわずかな、調整された偏向を誘導して、
X軸曲率半径を変化させる。
3図Aに示すシムX4を、圧電エキスパンダスラブと置
換える。スラブの両面にまたがって電圧を印加すると、
スラブは鏡面にわずかな、調整された偏向を誘導して、
X軸曲率半径を変化させる。
トーリックミラーを採用するモノクロメータ又は分光写
真器の最適の光学的性能は、コリメーティングミラーか
ら回折格子に至る放射が正しくコリメートされないよう
な条件の下で得られる。すなわち、装置の正味焦点距離
は、回折格子が使用される角度によって決まる。大きな
スペクトルの走査が要求される場合には、装置の焦点を
変更することができる。そのような変更は小さいもので
、第3図に示すようなシムx4の代わシに圧電エキスパ
ンダスラブを使用して鏡をライ−キングすることにより
修正されても良い。
真器の最適の光学的性能は、コリメーティングミラーか
ら回折格子に至る放射が正しくコリメートされないよう
な条件の下で得られる。すなわち、装置の正味焦点距離
は、回折格子が使用される角度によって決まる。大きな
スペクトルの走査が要求される場合には、装置の焦点を
変更することができる。そのような変更は小さいもので
、第3図に示すようなシムx4の代わシに圧電エキスパ
ンダスラブを使用して鏡をライ−キングすることにより
修正されても良い。
第8図は、ツエルニ−・ターナ−式モノクロメータ又社
エバート式モノクロメータなどの従来のモノクロメータ
のコリメーティングミラー68及び/又は集束ミラー7
Gとして本発明の非球面鏡を適用した場合を示す。図中
符号11により示すx、y及び2軸の図表は、第3図、
第4図及び第5図に関連して一律に説明したような非球
面鏡の軸、特にトーリックミラーの軸への第8図のモノ
クロメータのx、y及び2軸の対応を示す。
エバート式モノクロメータなどの従来のモノクロメータ
のコリメーティングミラー68及び/又は集束ミラー7
Gとして本発明の非球面鏡を適用した場合を示す。図中
符号11により示すx、y及び2軸の図表は、第3図、
第4図及び第5図に関連して一律に説明したような非球
面鏡の軸、特にトーリックミラーの軸への第8図のモノ
クロメータのx、y及び2軸の対応を示す。
本発明のトーリックミラーを使用するモノクロメータの
特定の一実施例においては、コリメーティングミラー6
8及び集束ミラー10は下記の曲率半径を有するように
選択されている。
特定の一実施例においては、コリメーティングミラー6
8及び集束ミラー10は下記の曲率半径を有するように
選択されている。
第1表
l Rc、 l 500+w+ l 500
5a IIRcx1565mII460■1 本発明の第8図の実施例では、入射スリットrEJと、
ミラーfMLlと、コリメーティングミラー68との間
の距離は250 wagに等しい。射出スリットrxJ
と、ミラー「Mz」と、集束ミラー70との間の距離t
i 260mに等しい。
5a IIRcx1565mII460■1 本発明の第8図の実施例では、入射スリットrEJと、
ミラーfMLlと、コリメーティングミラー68との間
の距離は250 wagに等しい。射出スリットrxJ
と、ミラー「Mz」と、集束ミラー70との間の距離t
i 260mに等しい。
第8図のモノクロメータに適用した場合のコリメーティ
ングミラー68及び集束ミラー70を製造する方法とし
ては様々なものが考えられるであろう。コリメーティン
グミラー68の曲率半径ReYは、Rc=500■を有
する基本球面反射鏡を、Rcx=565mを得るために
外方へ偏向することにより製造されても良い。あるいは
、Re=565■の基本球面反射鏡を使用し、Rcy=
500−を得るために、それをY軸に沿って内方へ偏向
することもできるであろう。集束ミラーTOも、いずれ
か一方の方法を利用して製造できるであろう。本発明を
現実に実施してみることにより、第3図に示すような内
方へ偏向させる方法で最も正確なトーリックミラー鏡面
形状が得られることがわかった。
ングミラー68及び集束ミラー70を製造する方法とし
ては様々なものが考えられるであろう。コリメーティン
グミラー68の曲率半径ReYは、Rc=500■を有
する基本球面反射鏡を、Rcx=565mを得るために
外方へ偏向することにより製造されても良い。あるいは
、Re=565■の基本球面反射鏡を使用し、Rcy=
500−を得るために、それをY軸に沿って内方へ偏向
することもできるであろう。集束ミラーTOも、いずれ
か一方の方法を利用して製造できるであろう。本発明を
現実に実施してみることにより、第3図に示すような内
方へ偏向させる方法で最も正確なトーリックミラー鏡面
形状が得られることがわかった。
本発明の第8図の実施例において、先に挙げたようなモ
ノクロメータのパラメータを採用したとき、ミラーMl
と、コリメーティングミラー68と、回折格子72との
間の偏向角度は22°である。
ノクロメータのパラメータを採用したとき、ミラーMl
と、コリメーティングミラー68と、回折格子72との
間の偏向角度は22°である。
本発明のトーリックミラー社きわめて高精度であるとい
う特徴を備えているため、著しい収差又は非点収差を発
生せずにこの異常に広い角度に対応しうるtliど、き
わめて低いゆがみレベルで動作することができる。コリ
メーティングミラーと集束ミラーの、非点収差の増大を
伴なわない開きによって、小型の装置を設計することが
可能になる。
う特徴を備えているため、著しい収差又は非点収差を発
生せずにこの異常に広い角度に対応しうるtliど、き
わめて低いゆがみレベルで動作することができる。コリ
メーティングミラーと集束ミラーの、非点収差の増大を
伴なわない開きによって、小型の装置を設計することが
可能になる。
従来の構成によるモノクロメータでは、ミラーの開きに
よって非点収差は著しく大きくな9、その増加は、2つ
のミラーの光軸が回折格子に対して成す角度の2乗分で
ある。
よって非点収差は著しく大きくな9、その増加は、2つ
のミラーの光軸が回折格子に対して成す角度の2乗分で
ある。
次に、第9図に関して説明する。図示されるように、本
発明の非球面鏡は、出力波長λ2を画像平面T6に集束
する分光写真器においてコリメーティングミラー68及
び集束ミラーTOとして構成されている。第9図の実施
例では、装置はスペクトル検出器として一次元又は二次
元検出器アレイ74を具備するものとして示されている
。
発明の非球面鏡は、出力波長λ2を画像平面T6に集束
する分光写真器においてコリメーティングミラー68及
び集束ミラーTOとして構成されている。第9図の実施
例では、装置はスペクトル検出器として一次元又は二次
元検出器アレイ74を具備するものとして示されている
。
従来の装置の場合、分光写真器の出力は出力波長λ2に
対し直交する画像平面76に集束されるのが普通である
が、本発明のトーリックミラーの構造によれば、出力ビ
ームは、直交画像平面16に対して角度を成して傾斜し
ている画像平面78に集束される。出力ビームλ2が画
像平面T8に関して左右方向に偏向されるにつれて、こ
の傾斜角度のために、分光写真器の焦点距離は増減する
。
対し直交する画像平面76に集束されるのが普通である
が、本発明のトーリックミラーの構造によれば、出力ビ
ームは、直交画像平面16に対して角度を成して傾斜し
ている画像平面78に集束される。出力ビームλ2が画
像平面T8に関して左右方向に偏向されるにつれて、こ
の傾斜角度のために、分光写真器の焦点距離は増減する
。
次に、第10図に関して説明する。図示されるように、
本発明のトーリックミラーは、−次元文社二次元検出器
アレイ74に一連の出力波長を集束する分光写真器にお
いてコリメーティングミラー68及び集束ミラー10と
して構成されている。
本発明のトーリックミラーは、−次元文社二次元検出器
アレイ74に一連の出力波長を集束する分光写真器にお
いてコリメーティングミラー68及び集束ミラー10と
して構成されている。
この場合も、分光写真器の出力ビームは、直交画像平面
に関しである傾斜角度を成す画像平面78に集束画像を
形成する。この装置の最適の傾斜角度は約11であると
計算されている。
に関しである傾斜角度を成す画像平面78に集束画像を
形成する。この装置の最適の傾斜角度は約11であると
計算されている。
本発明のトーリックミラーをモノクロメータ又は分光写
真器のいずれかに適用するとき、ミラ一軸を特定の向き
に設定すると最適であることがわかっている。以下の第
2表は、コリメーティングミラー68及び集束ミラー7
Gの様々な向きにつ″CfltM9−@tyr、・
−m−第2表 優 Rv > Rx Rt < R
x良 Rv < Rx RY >
Rx劣 Rv > Rx Rv >
Rx劣 Rv < Rx Rv <
Rx本発明のトーリックミラーの相対光学的性能を適切
な光学コンピュータソフトウェアにより計算して、様々
な性能パラメータに関し、高品質球面鏡の光学的性能と
比較することができる。以下の第3表は、本発明のトー
リックミラーについて選択した計算上の光学的性能パラ
メータを、従来の高品質球面鏡の性能パラメータと比較
したものである。
真器のいずれかに適用するとき、ミラ一軸を特定の向き
に設定すると最適であることがわかっている。以下の第
2表は、コリメーティングミラー68及び集束ミラー7
Gの様々な向きにつ″CfltM9−@tyr、・
−m−第2表 優 Rv > Rx Rt < R
x良 Rv < Rx RY >
Rx劣 Rv > Rx Rv >
Rx劣 Rv < Rx Rv <
Rx本発明のトーリックミラーの相対光学的性能を適切
な光学コンピュータソフトウェアにより計算して、様々
な性能パラメータに関し、高品質球面鏡の光学的性能と
比較することができる。以下の第3表は、本発明のトー
リックミラーについて選択した計算上の光学的性能パラ
メータを、従来の高品質球面鏡の性能パラメータと比較
したものである。
第3表
トーリックミラー
光学パラメータ 球面鏡”” (,,j、位ア計算
)球面収差(X、Y) 0.64 0
コマ収差(Y) 1.10 0非点
収差(X、Y) 0.65 0.02
4r=種々 曲率半径 ・= 500 (第2表向淀)本発明
のトーリックミラーの計算上の性能パラメータは、従来
の球面鏡系に対して約5000 %すぐれていることを
示している。測定により確定された実際の性能特性が計
算上の性能特性の約50−であると仮定すると、内輪に
見積もって、本発明のトーリックミラーは球面鏡と比較
して約2500−の改善を含む光学的成果をあげるもの
と想定できるであろう。
)球面収差(X、Y) 0.64 0
コマ収差(Y) 1.10 0非点
収差(X、Y) 0.65 0.02
4r=種々 曲率半径 ・= 500 (第2表向淀)本発明
のトーリックミラーの計算上の性能パラメータは、従来
の球面鏡系に対して約5000 %すぐれていることを
示している。測定により確定された実際の性能特性が計
算上の性能特性の約50−であると仮定すると、内輪に
見積もって、本発明のトーリックミラーは球面鏡と比較
して約2500−の改善を含む光学的成果をあげるもの
と想定できるであろう。
ねじ16に加えられるトルクを増加すること及び/又は
シムの厚さを変更することにより、本発明の非球面鏡の
X軸曲率半径Re8を限定された範囲内で「同調」して
も良い。ねじのトルクレベルをわずかに調整すると、鏡
面の様々な部分を限定された範囲内で調整、すなわちラ
イ−キングして、特定の適用用途におけるそのミラーの
光学的性能を最適化することができる。一連の精巧にね
じ切シされたねじの形態をとる圧縮手段を、剛性の高い
第1及び第2の要素と組合せて使用することにより、振
動、温度、老化又はその他の外部環境変数による悪影響
を受けないきわめて安定した鏡面が得られる。
シムの厚さを変更することにより、本発明の非球面鏡の
X軸曲率半径Re8を限定された範囲内で「同調」して
も良い。ねじのトルクレベルをわずかに調整すると、鏡
面の様々な部分を限定された範囲内で調整、すなわちラ
イ−キングして、特定の適用用途におけるそのミラーの
光学的性能を最適化することができる。一連の精巧にね
じ切シされたねじの形態をとる圧縮手段を、剛性の高い
第1及び第2の要素と組合せて使用することにより、振
動、温度、老化又はその他の外部環境変数による悪影響
を受けないきわめて安定した鏡面が得られる。
以上の説明の中では、第1の要素12は二分の−インチ
の厚さでアルミニウムから製造され、一方、°第2の要
素18は二分の−インチの厚さで鋼から製造されるもの
として説明した。その代わりに、第2の要素18が第1
の要素12に対して所望のより高い剛性を得ることがで
きるように、アルミニウムを利用するが、1インチ程度
の厚さを増すことによって、第1の要素12に対する第
2の要素18の所望の高い剛性係数を実現しても良い。
の厚さでアルミニウムから製造され、一方、°第2の要
素18は二分の−インチの厚さで鋼から製造されるもの
として説明した。その代わりに、第2の要素18が第1
の要素12に対して所望のより高い剛性を得ることがで
きるように、アルミニウムを利用するが、1インチ程度
の厚さを増すことによって、第1の要素12に対する第
2の要素18の所望の高い剛性係数を実現しても良い。
別の実施例においては、第1の要素12と第2の要素1
8の双方を、二分の−インチの等しい厚さでアルミニウ
ムから製造しても良い。この明確に異なる実施例では、
第1の要素と第2の要素は、共に、境界面輪郭手段によ
り与えられる輪郭差に応じて、X軸に関して等しいが、
互いに逆方向の量だけ偏向する。従って、その偏向の結
果として起こる境界面輪郭手段によるRcxの変化は、
第2の要素18として剛性の鋼製要素を使用したときの
約半分である。設計を適切に考慮すれば、本発明のこの
実施例により、第1の要素12と第2の要素18の剛性
係数が等しくとも、第1の要素120反射面の所望の調
整された彎曲、すなわち偏向と同等の機能を達成するこ
とができる。
8の双方を、二分の−インチの等しい厚さでアルミニウ
ムから製造しても良い。この明確に異なる実施例では、
第1の要素と第2の要素は、共に、境界面輪郭手段によ
り与えられる輪郭差に応じて、X軸に関して等しいが、
互いに逆方向の量だけ偏向する。従って、その偏向の結
果として起こる境界面輪郭手段によるRcxの変化は、
第2の要素18として剛性の鋼製要素を使用したときの
約半分である。設計を適切に考慮すれば、本発明のこの
実施例により、第1の要素12と第2の要素18の剛性
係数が等しくとも、第1の要素120反射面の所望の調
整された彎曲、すなわち偏向と同等の機能を達成するこ
とができる。
開示された非球面鏡、特にトーリックミラーを様々に変
形して良いこと、及び特定して述べ、先に説明した好ま
しい形態以外の多数の実施例の形態をとりうろこと社当
業者には明白であろう。非球面鏡、特にトーリックミラ
ーは、第8図から第10図に関連しで図示し且つ説明し
たモノクロメータ及び分光写真器への適用以外の多くの
画像形成の用途に適用されても良い。その例としては、
反射望遠鏡の対物レンズや、顕微鏡、双眼鏡及び単ll
l!鏡への適用が挙げられる。第4図の測定は、デジタ
ルコンピュータにより容易且つ迅速に実行できるであろ
う。従って、特許請求の範囲は、本発明の真の趣旨に含
まれる本発明のこのような変形の全てを包含するもので
ある。
形して良いこと、及び特定して述べ、先に説明した好ま
しい形態以外の多数の実施例の形態をとりうろこと社当
業者には明白であろう。非球面鏡、特にトーリックミラ
ーは、第8図から第10図に関連しで図示し且つ説明し
たモノクロメータ及び分光写真器への適用以外の多くの
画像形成の用途に適用されても良い。その例としては、
反射望遠鏡の対物レンズや、顕微鏡、双眼鏡及び単ll
l!鏡への適用が挙げられる。第4図の測定は、デジタ
ルコンピュータにより容易且つ迅速に実行できるであろ
う。従って、特許請求の範囲は、本発明の真の趣旨に含
まれる本発明のこのような変形の全てを包含するもので
ある。
第1図は、RcxがRcyと等しい従来の球面反射鏡を
簡略化して表わす二次元図、 第2図は、トーリックミラーを製造するために、X軸に
沿った加法差円筒成分により球面債をどのようにして変
形できるかを簡略化して示す二次元図、 第3図Aから第3図Fは、X軸曲率半径RexがY軸曲
率半径R0より小さいトーリックミラーを製造するため
に、複数の個別のシムから形成されるシム面を球面反射
鏡と組合せてどのようにして使用できるかを示す本発明
の好ましい一実施例の一連の二次元図、 第4図は、本発明の第2図及び第3図の実施例に関連す
るシムの寸法をどのようにして計算すれば良いかを示す
グラフ、 第5図Aから第5図Fは、X軸曲率半径RcxがY軸曲
率半径RcYより大きいトーリックミラーを製造するた
めに、複数の個別のシムから形成されるシム面を球面反
射鏡と組合せてどのようにして使用できるかを示す本発
明の好ましい一実施例の一連の二次元図、 第6図A及び第6図Bは、球面反射鏡のX軸曲率半径を
偏向して、非球面鏡を製造するために、外枠の形態をと
る圧縮装置を使用する本発明の別の実施例を示す図、 第7図Aから第7図Eは、それぞれ、本発明による非球
面鏡を製造するために必要とされる種類の輪郭差を形成
することができる様々に異なる境界面輪郭装置を示す図
、 第8図は、本発明なよる非球面鏡、特にトーリックミラ
ーをコリメーティングミラー及び集束ミラーとしてどの
ように組込めるかを示すモノクロメータの簡略図、 第9図は、発散内部光ビームと、収束内部光ビームの双
方を有し、本発明による非球面鏡、特にトーリックミラ
ーがコリメーティングミラー及び集束ミラーとして利用
されている第1の構成の分光写真器の簡略図、 第10図は、ダイオードアレイT4上の焦点に集束され
る様々に異なる波長を示す第9図の分光写真器の拡大図
である。 10−・・・球面反射鏡、12・・・・第1の要素、1
6・・・・開口、18・−・・第2の要素、24・・・
・開口、26・・・・ねじ、28・・・・境界面輪郭手
段、30.j2,34・・・・−シ・、36・・・・境
界面ゾーy)54・・・;・° ・外枠。 手続補正書く方式》 平成 年 月 日 2.11.29
簡略化して表わす二次元図、 第2図は、トーリックミラーを製造するために、X軸に
沿った加法差円筒成分により球面債をどのようにして変
形できるかを簡略化して示す二次元図、 第3図Aから第3図Fは、X軸曲率半径RexがY軸曲
率半径R0より小さいトーリックミラーを製造するため
に、複数の個別のシムから形成されるシム面を球面反射
鏡と組合せてどのようにして使用できるかを示す本発明
の好ましい一実施例の一連の二次元図、 第4図は、本発明の第2図及び第3図の実施例に関連す
るシムの寸法をどのようにして計算すれば良いかを示す
グラフ、 第5図Aから第5図Fは、X軸曲率半径RcxがY軸曲
率半径RcYより大きいトーリックミラーを製造するた
めに、複数の個別のシムから形成されるシム面を球面反
射鏡と組合せてどのようにして使用できるかを示す本発
明の好ましい一実施例の一連の二次元図、 第6図A及び第6図Bは、球面反射鏡のX軸曲率半径を
偏向して、非球面鏡を製造するために、外枠の形態をと
る圧縮装置を使用する本発明の別の実施例を示す図、 第7図Aから第7図Eは、それぞれ、本発明による非球
面鏡を製造するために必要とされる種類の輪郭差を形成
することができる様々に異なる境界面輪郭装置を示す図
、 第8図は、本発明なよる非球面鏡、特にトーリックミラ
ーをコリメーティングミラー及び集束ミラーとしてどの
ように組込めるかを示すモノクロメータの簡略図、 第9図は、発散内部光ビームと、収束内部光ビームの双
方を有し、本発明による非球面鏡、特にトーリックミラ
ーがコリメーティングミラー及び集束ミラーとして利用
されている第1の構成の分光写真器の簡略図、 第10図は、ダイオードアレイT4上の焦点に集束され
る様々に異なる波長を示す第9図の分光写真器の拡大図
である。 10−・・・球面反射鏡、12・・・・第1の要素、1
6・・・・開口、18・−・・第2の要素、24・・・
・開口、26・・・・ねじ、28・・・・境界面輪郭手
段、30.j2,34・・・・−シ・、36・・・・境
界面ゾーy)54・・・;・° ・外枠。 手続補正書く方式》 平成 年 月 日 2.11.29
Claims (3)
- (1)a、一定の曲率半径と、X軸曲率半径を有するX
軸と、Y軸曲率半径を有するY軸と、Z軸とを含む球面
反射鏡を規定する前面と、離間した背面とを有し、第1
の剛性係数を有するように製造されている第1の要素と
; b、境界面ゾーンに沿つて第1の要素の背面に相応する
大きさに規定された前面を有し、第2の剛性係数を有す
るように製造されている第2の要素と; c、球面反射鏡のY軸曲率半径をほとんど修正せずにX
軸曲率半径を修正するようにアライメントされ、第1の
要素と第2の要素との間の境界面ゾーンの中に輪郭差を
形成する境界面輪郭手段と; d、球面反射鏡のY軸曲率半径をほとんど修正せずにそ
のX軸曲率半径を修正するために、第1の要素と第2の
要素を共に圧縮して、第1の要素を第2の要素に対して
偏向させ、それにより、境界面輪郭手段によつて確定さ
れた修正X軸曲率半径と、ほぼ変化していないY軸曲率
半径とを有する非球面鏡を得る圧縮手段とを具備する非
球面鏡。 - (2)a、一定の曲率半径と、X軸曲率半径を有するX
軸と、Y軸曲率半径を有するY軸と、Z軸とを含む球面
反射鏡を規定する前面と、離間した背面とを有し、第1
の剛性係数を有するように製造されている第1の要素を
提供する工程と; b、境界面ゾーンに沿つて第1の要素の背面に相応する
大きさに規定された前面を有し、第2の剛性係数を有す
るように製造されている第2の要素を提供する工程と; c、第1の要素と第2の要素との間の境界面ゾーンの中
に輪郭差を形成し、その輪郭が球面反射鏡のY軸曲率半
径をほとんど修正せずにX軸曲率半径を修正するように
アライメントされる工程と; d、球面反射鏡のY軸曲率半径をほとんど修正せずにそ
のX軸曲率半径を修正するために、第1の要素と第2の
要素を共に圧縮して、第1の要素を第2の要素に対して
偏向させ、それにより、境界面輪郭手段によつて確定さ
れた修正X軸曲率半径と、ほぼ変化していないY軸曲率
半径とを有する非球面鏡を得る工程とから成ることを特
徴とする非球面鏡を製造する方法。 - (3)a、一定の曲率半径と、X軸曲率半径を有するX
軸と、Y軸曲率半径を有するY軸と、Z軸とを含む球面
反射鏡を規定する前面と、離間した背面とを有し、第1
の剛性係数を有するように製造されている第1の要素を
提供する工程と; b、境界面ゾーンに沿つて第1の要素の背面に相応する
大きさに規定された前面を有し、第2の剛性係数を有す
るように製造されている第2の要素を提供する工程と; c、第1の要素と第2の要素との間の境界面ゾーンの中
に輪郭差を形成し、その輪郭が球面反射鏡のY軸曲率半
径をほとんど修正せずにX軸曲率半径を修正するように
アライメントされる工程と;d、球面反射鏡のY軸曲率
半径をほとんど修正せずにそのX軸曲率半径を修正する
ために、第1の要素と第2の要素を共に圧縮して、第1
の要素を第2の要素に対して偏向させ、それにより、境
界面輪郭手段によつて確定された修正X軸曲率半径と、
ほぼ変化していないY軸曲率半径とを有する非球面鏡を
得る工程と; e、前記非球面鏡からマスター非球面鏡を製造する工程
と; f、従来の光学面複製技術を使用して、前記マスター非
球面鏡から複数の複製非球面鏡を複製する工程とから成
ることを特徴とする非球面を複製する方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US537071 | 1974-12-30 | ||
US07/385,311 US4932768A (en) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | Aspheric mirror produced by the elastic deformation of a spherical mirror |
US385311 | 1989-07-25 | ||
US07/537,071 US5089915A (en) | 1989-07-25 | 1990-06-11 | Fabrication of aspheric surfaces through controlled deformation of the figure of spherical reflective surfaces |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03148602A true JPH03148602A (ja) | 1991-06-25 |
Family
ID=27010959
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2195104A Pending JPH03148602A (ja) | 1989-07-25 | 1990-07-25 | 非球面鏡およびその製造又は複製方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5089915A (ja) |
EP (1) | EP0410686A3 (ja) |
JP (1) | JPH03148602A (ja) |
CA (1) | CA2018758A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008501966A (ja) * | 2004-06-09 | 2008-01-24 | ゲゼルシャフト・ツア・フェルデルング・アンゲバンター・オプティック,オプトエレクトローニック,クバンテンエレクトローニック・ウント・スペクトロスコピー・アインゲトラーゲナー・フェアアイン | 2つのスペクトロメータ配置を用いることにより検知器の能力利用を改良したエシェルスペクトロメータ |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4108484A1 (de) * | 1991-03-15 | 1992-09-17 | Diehl Gmbh & Co | Laser-strahlfuehrungseinrichtung |
US5557477A (en) * | 1993-10-08 | 1996-09-17 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Apparatus for and method of correcting for aberrations in a light beam |
JP2720811B2 (ja) * | 1995-03-15 | 1998-03-04 | 住友電気工業株式会社 | レーザ集光方法及び装置 |
EP1012637A1 (fr) * | 1996-01-31 | 2000-06-28 | VERNOIS, Goulven Jean Alain | Telescope perfectionne |
FR2744244B1 (fr) * | 1996-01-31 | 1998-03-06 | Vernois Goulven Jean Alain | Telescope |
US5889588A (en) * | 1996-09-24 | 1999-03-30 | Photon Technology International | Random wavelength access monochromator incorporating coaxial off-axis parabolic OAP reflectors |
US5923482A (en) * | 1997-03-14 | 1999-07-13 | Waters Investments Limited | Changing astigmatism in an optical system |
US7112772B2 (en) * | 1998-05-29 | 2006-09-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective with adaptive mirror and projection exposure method |
US6206528B1 (en) * | 1998-09-30 | 2001-03-27 | Euv Llc | Surface figure control for coated optics |
FR2788136B1 (fr) * | 1998-12-31 | 2002-06-07 | Europ De Systemes Optiques Soc | Procede de realisation de surfaces de focalisation de faisceaux, notamment a incidence rasante et dispositif pour sa mise en oeuvre |
WO2001059488A1 (en) * | 2000-02-11 | 2001-08-16 | Pietro Sgarbi | Process for obtaining biquadratic optical surfaces and in particular schmidt correctors |
JP4479130B2 (ja) * | 2001-06-13 | 2010-06-09 | 住友電気工業株式会社 | 可変分散補償器及び光伝送システム |
DE10222331A1 (de) * | 2002-05-18 | 2003-11-27 | Zeiss Carl Smt Ag | Verfahren zur gezielten Deformation eines optischen Elements |
US20070030484A1 (en) * | 2005-08-08 | 2007-02-08 | Acton Research Corporation | Spectrograph with segmented dispersion device |
DE102005044716A1 (de) * | 2005-09-19 | 2007-04-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Aktives optisches Element |
US7364493B1 (en) | 2006-07-06 | 2008-04-29 | Itt Manufacturing Enterprises, Inc. | Lap grinding and polishing machine |
CN101387711B (zh) * | 2008-10-27 | 2010-04-21 | 苏州大学 | 大口径非球面镜的制造方法 |
US9314980B2 (en) | 2013-03-19 | 2016-04-19 | Goodrich Corporation | High correctability deformable mirror |
RU2687172C1 (ru) * | 2018-10-15 | 2019-05-07 | Акционерное общество "Лыткаринский завод оптического стекла" | Способ упругой деформации оптической заготовки для изготовления внеосевого тонкого асферического зеркала телескопа и механизм для его осуществления (варианты) |
DE102022116700A1 (de) * | 2022-07-05 | 2024-01-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Baugruppe, Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie und Verfahren |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1246098A (en) * | 1968-01-10 | 1971-09-15 | Pye Unicam Ltd | Improvements in or relating to monochromators |
FR2343262A1 (fr) * | 1976-03-05 | 1977-09-30 | Anvar | Miroirs a focale variable par elasticite et procedes d'obtention |
US4043644A (en) * | 1976-07-15 | 1977-08-23 | Humphrey Instruments, Inc. | Elastically compensated off-axis mirror |
DE3045931C2 (de) * | 1980-12-05 | 1983-01-20 | Berliner Elektronenspeicherring-Gesellschaft für Synchrotronstrahlung mbH, 1000 Berlin | Bei streifendem Einfall arbeitender Plangitter-Monochromator |
JPS5923302A (ja) * | 1982-07-30 | 1984-02-06 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 曲面反射鏡 |
FR2584824B1 (fr) * | 1985-07-10 | 1987-09-25 | Commissariat Energie Atomique | Miroir deformable |
DE3641944A1 (de) * | 1986-12-09 | 1988-07-07 | Michael Prof Dipl I Schoenherr | Verfahren zur herstellung von hohlspiegeln |
US4932768A (en) * | 1989-07-25 | 1990-06-12 | Chromex, Inc. | Aspheric mirror produced by the elastic deformation of a spherical mirror |
-
1990
- 1990-06-11 US US07/537,071 patent/US5089915A/en not_active Expired - Fee Related
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008501966A (ja) * | 2004-06-09 | 2008-01-24 | ゲゼルシャフト・ツア・フェルデルング・アンゲバンター・オプティック,オプトエレクトローニック,クバンテンエレクトローニック・ウント・スペクトロスコピー・アインゲトラーゲナー・フェアアイン | 2つのスペクトロメータ配置を用いることにより検知器の能力利用を改良したエシェルスペクトロメータ |
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US5089915A (en) | 1992-02-18 |
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EP0410686A2 (en) | 1991-01-30 |
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