JPH03146257A - はんだ付け方法およびその装置 - Google Patents
はんだ付け方法およびその装置Info
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- JPH03146257A JPH03146257A JP28371889A JP28371889A JPH03146257A JP H03146257 A JPH03146257 A JP H03146257A JP 28371889 A JP28371889 A JP 28371889A JP 28371889 A JP28371889 A JP 28371889A JP H03146257 A JPH03146257 A JP H03146257A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、はんだ付け方法およびその装置に關するもの
である。
である。
(従来の技術)
通常使用されているロジンフラックスは、はんだ付け後
にフラックス残渣となって基板に固着されるので、一般
にフロン洗浄により除去されるが、それに使用されるフ
ロンは、環境破壊(オゾン層の破壊)の要因となってい
るので、フロン洗浄をなくすことが望ましい。
にフラックス残渣となって基板に固着されるので、一般
にフロン洗浄により除去されるが、それに使用されるフ
ロンは、環境破壊(オゾン層の破壊)の要因となってい
るので、フロン洗浄をなくすことが望ましい。
そのためには、はんだ付け後にフラックス成分が物理的
に基板に残留しない揮発性フラックスを使用する必要が
ある。
に基板に残留しない揮発性フラックスを使用する必要が
ある。
この揮発性フラックスとしては、溶融はんだと接触した
ときに全て気化する揮発性成分を主成分とし、ロジン系
固形分は僅かに洗浄不要レベル混入させるか、あるいは
全く含まないものがよい。
ときに全て気化する揮発性成分を主成分とし、ロジン系
固形分は僅かに洗浄不要レベル混入させるか、あるいは
全く含まないものがよい。
(発明が解決しようとする課題)
従来のフラックス固形分が残留するロジンフラックスは
、基板が溶融はんだより離脱する際においても、そのフ
ラックス固形分が溶融はんだ表面を覆い、大気の接触が
遮断されているため、はんだ付けが大気中で行われても
、溶融はんだ表面の酸化が防止され、良好なはんだ付け
が行われるが、上記のようにフロン洗浄をなくすために
揮発性フラックスを用いると、基板が溶融はんだから離
脱するときはフラックスがないため、この離脱時に蜘蛛
の巣はんだ、ブリッジ、つらら等のはんだ付け不良が多
発することになる。
、基板が溶融はんだより離脱する際においても、そのフ
ラックス固形分が溶融はんだ表面を覆い、大気の接触が
遮断されているため、はんだ付けが大気中で行われても
、溶融はんだ表面の酸化が防止され、良好なはんだ付け
が行われるが、上記のようにフロン洗浄をなくすために
揮発性フラックスを用いると、基板が溶融はんだから離
脱するときはフラックスがないため、この離脱時に蜘蛛
の巣はんだ、ブリッジ、つらら等のはんだ付け不良が多
発することになる。
本発明は、揮発性フラックスを用いても良好なはんだ付
けを行えるようにすることにより、フロン洗浄を不要に
することを目的とするものである。
けを行えるようにすることにより、フロン洗浄を不要に
することを目的とするものである。
(課題を解決するための手段)
請求項1の発明は、ワーク搬送ライン15の下側に配置
されたはんだ槽13内の溶融はんだによりワーク14に
はんだ付けが行われるはんだ付け方法において、ワーク
搬送ライン15に沿ってはんだ槽!3上に、100℃以
上かつはんだ融点以下の温度条件を有する不活性蒸気2
1が供給され、この不活性蒸気21中で揮発性フラック
スの塗布されたワーク14に対し、溶融はんだによりは
んだ付けが行われるはんだ付け方法である。
されたはんだ槽13内の溶融はんだによりワーク14に
はんだ付けが行われるはんだ付け方法において、ワーク
搬送ライン15に沿ってはんだ槽!3上に、100℃以
上かつはんだ融点以下の温度条件を有する不活性蒸気2
1が供給され、この不活性蒸気21中で揮発性フラック
スの塗布されたワーク14に対し、溶融はんだによりは
んだ付けが行われるはんだ付け方法である。
請求項2の発明は、ワーク搬送ライン15の下側に配置
されたはんだ槽13から噴流される溶融はんだによりワ
ーク14にはんだ付けが行われるはんだ付け装置におい
て、はんだ槽13より搬送上流側からはんだ槽13上を
経て搬送下流側にわたり揮発性フラックスの塗布された
ワーク14を上昇傾斜状に搬送するワーク搬送ライン1
5が設けられ、このワーク搬送ライン15に沿って傾斜
ダクト16が配設され、この傾斜ダクト16のはんだ槽
13より上昇側に、100℃以上かつはんだ融点以下の
温度条件を有する不活性蒸気21をワーク搬送ライン1
5に供給する蒸気供給部22.23が設けられ、傾斜ダ
クト16のはんだ槽13より下降側に前記不活性蒸気2
1をワーク搬送ライン15から回収する蒸気回収部31
が設けられたはんだ付け装置である。
されたはんだ槽13から噴流される溶融はんだによりワ
ーク14にはんだ付けが行われるはんだ付け装置におい
て、はんだ槽13より搬送上流側からはんだ槽13上を
経て搬送下流側にわたり揮発性フラックスの塗布された
ワーク14を上昇傾斜状に搬送するワーク搬送ライン1
5が設けられ、このワーク搬送ライン15に沿って傾斜
ダクト16が配設され、この傾斜ダクト16のはんだ槽
13より上昇側に、100℃以上かつはんだ融点以下の
温度条件を有する不活性蒸気21をワーク搬送ライン1
5に供給する蒸気供給部22.23が設けられ、傾斜ダ
クト16のはんだ槽13より下降側に前記不活性蒸気2
1をワーク搬送ライン15から回収する蒸気回収部31
が設けられたはんだ付け装置である。
(作用)
請求項1の発明は、揮発性フラックスの塗布されたワー
ク14が、ワーク搬送ライン15によってはんだ槽13
上に搬送され、はんだ付けされると、前記揮発性フラッ
クスはワーク14に残らないが、100℃以上かつはん
だ融点以下の温度条件を有する不活性蒸気21が、溶融
はんだと大気との接触を防止し、その酸化が防止される
。100 ’C以上の不活性蒸気21は、はんだ付け時
のヒートショックを緩和できる温度までワーク14をプ
リヒートするが、はんだ融点以下であるから、リフロー
はんだ付けを行うことはない。
ク14が、ワーク搬送ライン15によってはんだ槽13
上に搬送され、はんだ付けされると、前記揮発性フラッ
クスはワーク14に残らないが、100℃以上かつはん
だ融点以下の温度条件を有する不活性蒸気21が、溶融
はんだと大気との接触を防止し、その酸化が防止される
。100 ’C以上の不活性蒸気21は、はんだ付け時
のヒートショックを緩和できる温度までワーク14をプ
リヒートするが、はんだ融点以下であるから、リフロー
はんだ付けを行うことはない。
請求項2の発明は、蒸気供給部22.23からワーク搬
送ライン15に供給された不活性蒸気21は、その自重
により傾斜ダクト16内を下降し、はんだ槽13上を経
て蒸気回収部31まで移動する。したがって、ワーク1
4は、はんだ槽13上でのはんだ付け中およびその前後
において不活性蒸気2I中にあり、酸化されない。
送ライン15に供給された不活性蒸気21は、その自重
により傾斜ダクト16内を下降し、はんだ槽13上を経
て蒸気回収部31まで移動する。したがって、ワーク1
4は、はんだ槽13上でのはんだ付け中およびその前後
において不活性蒸気2I中にあり、酸化されない。
(実施例)
以下、本発明を図面に示される実施例を参照して詳細に
説明する。
説明する。
一次ノズル11および二次ノズル12を有する噴流式は
んだ槽13より搬送上流側から噴流式はんだ槽上を経て
搬送下流側にわたり、揮発性フラックスの塗布されたワ
ーク(基板)14を上昇傾斜状に搬送するワーク搬送ラ
イン15が設けられ、このワーク搬送ライン15に沿っ
て傾斜ダクト16が配設される。この傾斜ダクト16の
ワーク搬入口17およびワーク搬出口18にはそれぞれ
冷却コイル19が設けられ、この冷却コイル19により
、傾斜ダクト16内から外部へ漏出しようとする不活性
蒸気21が凝縮され、この蒸気21の外部への漏出が阻
止される。
んだ槽13より搬送上流側から噴流式はんだ槽上を経て
搬送下流側にわたり、揮発性フラックスの塗布されたワ
ーク(基板)14を上昇傾斜状に搬送するワーク搬送ラ
イン15が設けられ、このワーク搬送ライン15に沿っ
て傾斜ダクト16が配設される。この傾斜ダクト16の
ワーク搬入口17およびワーク搬出口18にはそれぞれ
冷却コイル19が設けられ、この冷却コイル19により
、傾斜ダクト16内から外部へ漏出しようとする不活性
蒸気21が凝縮され、この蒸気21の外部への漏出が阻
止される。
この傾斜ダクト16のはんだ槽13より上昇側(搬送下
流側)に、1011℃以上かつはんだ融点(共晶はんだ
の場合1113℃)以下の温度条件を有する不活性蒸気
(150℃程度)21をワーク搬送ライン15に供給す
る蒸気供給部としての蒸気発生器22および蒸気供給口
23が設けられている。傾斜ダクト16の下側に設けた
蒸気発生器22は、内部の不活性液(例えば′フッ素系
不活性溶剤)24をヒータ25により加熱して蒸発させ
、上部開口26より傾斜ダクト16に供給するようにし
たものである。傾斜ダクト16の上側に設けた蒸気供給
口23は、図示しない蒸気発生器に連通されている。
流側)に、1011℃以上かつはんだ融点(共晶はんだ
の場合1113℃)以下の温度条件を有する不活性蒸気
(150℃程度)21をワーク搬送ライン15に供給す
る蒸気供給部としての蒸気発生器22および蒸気供給口
23が設けられている。傾斜ダクト16の下側に設けた
蒸気発生器22は、内部の不活性液(例えば′フッ素系
不活性溶剤)24をヒータ25により加熱して蒸発させ
、上部開口26より傾斜ダクト16に供給するようにし
たものである。傾斜ダクト16の上側に設けた蒸気供給
口23は、図示しない蒸気発生器に連通されている。
傾斜ダクト16のはんだ槽13より下降側(搬送上流側
)に前記不活性蒸気21をワーク搬送ライン15から回
収する蒸気回収部としての蒸気回収タンク31が設けら
れている。この蒸気回収タンク31には冷却コイル32
が設けられ、この冷却コイル32が、不活性蒸気21の
凝縮による回収を促進する。
)に前記不活性蒸気21をワーク搬送ライン15から回
収する蒸気回収部としての蒸気回収タンク31が設けら
れている。この蒸気回収タンク31には冷却コイル32
が設けられ、この冷却コイル32が、不活性蒸気21の
凝縮による回収を促進する。
そうして、蒸気供給部22.23からワーク搬送ライン
15に供給された不活性蒸気21は、ワーク搬送方向と
は逆に、その自重(フッ素系不活性溶剤は空気より重い
)により傾斜ダクト16内を下降し、はんだ檜13上を
経て蒸気回収タンク31まで移動し、回収される。
15に供給された不活性蒸気21は、ワーク搬送方向と
は逆に、その自重(フッ素系不活性溶剤は空気より重い
)により傾斜ダクト16内を下降し、はんだ檜13上を
経て蒸気回収タンク31まで移動し、回収される。
前記ワーク(基板)14には、予め、蟻酸と揮発性成分
とからなる揮発性フラックスが噴流式フラクサーまたは
スプレー式フラクサーにより塗布され、この揮発性フラ
ックスにより、基板ランドおよび部品電極の酸化膜や汚
れが除去される。
とからなる揮発性フラックスが噴流式フラクサーまたは
スプレー式フラクサーにより塗布され、この揮発性フラ
ックスにより、基板ランドおよび部品電極の酸化膜や汚
れが除去される。
このようにして清浄化されたワーク(基板)14が、ワ
ーク搬送ライン15により、100℃以上かつはんだ融
点以下の不活性蒸気中(酸素濃度5〜10 ppm )
に搬入されると、プリヒート区間33において、不活性
蒸気21が有する熱により、はんだ付け時のワークのヒ
ートショックを緩和できる温度まで、ワーク14が徐々
にプリヒートされる。ワークによっては、このプリヒー
トが必要ない場合もある。
ーク搬送ライン15により、100℃以上かつはんだ融
点以下の不活性蒸気中(酸素濃度5〜10 ppm )
に搬入されると、プリヒート区間33において、不活性
蒸気21が有する熱により、はんだ付け時のワークのヒ
ートショックを緩和できる温度まで、ワーク14が徐々
にプリヒートされる。ワークによっては、このプリヒー
トが必要ない場合もある。
このワーク14が、ワーク搬送ライン15によって噴流
式はんだ槽13上に搬送されると、噴流式はんだ槽13
の一次ノズル!1および二次ノズル12から噴流される
溶融はんだ34.35と接触し、はんだ付けされる。
式はんだ槽13上に搬送されると、噴流式はんだ槽13
の一次ノズル!1および二次ノズル12から噴流される
溶融はんだ34.35と接触し、はんだ付けされる。
このはんだ付け時に前記揮発性フラックスの活性力はな
くなるが、前記酸素濃度5〜10ppr@の不活性蒸気
が、ワーク14に耐着された溶融はんだを大気から保護
し、はんだ付け時の溶融はんだの酸化を防止する。
くなるが、前記酸素濃度5〜10ppr@の不活性蒸気
が、ワーク14に耐着された溶融はんだを大気から保護
し、はんだ付け時の溶融はんだの酸化を防止する。
前記揮発性フラックスとしては、極めて低活性のフラッ
クスを使用でへ、この揮発性フラックスに微量の固形分
を含有させても、フラックス残流は、耐絶縁性や腐食に
対する心配がなく、洗浄は不要となる。また、この揮発
性フラックスは、スプレーフラクサーや、噴流ノズル周
囲のフラックススプレーを使用してワークに塗布しても
、環境汚染の心配がない。
クスを使用でへ、この揮発性フラックスに微量の固形分
を含有させても、フラックス残流は、耐絶縁性や腐食に
対する心配がなく、洗浄は不要となる。また、この揮発
性フラックスは、スプレーフラクサーや、噴流ノズル周
囲のフラックススプレーを使用してワークに塗布しても
、環境汚染の心配がない。
なお、実施例では、蒸気供給部としての蒸気発生器22
および蒸気供給口23が、傾斜ダクト16の下側および
上側にそれぞれ設けられているが、いずれか一方のみで
もよい。また、傾斜ダクト16が水平に設けられている
ときは、ファンによる送風等によって不活性蒸気21を
移動させるようにするとよい。
および蒸気供給口23が、傾斜ダクト16の下側および
上側にそれぞれ設けられているが、いずれか一方のみで
もよい。また、傾斜ダクト16が水平に設けられている
ときは、ファンによる送風等によって不活性蒸気21を
移動させるようにするとよい。
請求項1の発明によれば、100℃以上かつはんだ融点
以下の不活性蒸気中で、揮発性フラックスの塗布された
ワークに対し、溶融はんだによりはんだ付けするように
したから、揮発性フラックスを用いても不活性蒸気中で
良好なはんだ付けを行うことができ、フロン等による洗
浄が全く不要であり、フロンによるオゾン層破壊の問題
に対処できるはんだ付け方法を提供できる。
以下の不活性蒸気中で、揮発性フラックスの塗布された
ワークに対し、溶融はんだによりはんだ付けするように
したから、揮発性フラックスを用いても不活性蒸気中で
良好なはんだ付けを行うことができ、フロン等による洗
浄が全く不要であり、フロンによるオゾン層破壊の問題
に対処できるはんだ付け方法を提供できる。
請求項2の発明によれば、不活性蒸気の自重による流れ
をはんだ槽上に作出すことができ、はんだ槽上およびそ
の前後に温度制御された新鮮な不活性蒸気を供給でき、
請求項1の方法を確実に実施できるはんだ付け装置を提
供できる。
をはんだ槽上に作出すことができ、はんだ槽上およびそ
の前後に温度制御された新鮮な不活性蒸気を供給でき、
請求項1の方法を確実に実施できるはんだ付け装置を提
供できる。
図は本発明のはんだ付け方法およびその装置の一実施例
を示す断面図である。 13・・はんだ槽、14・・ワーク、15・・ワーク搬
送ライン、16・・傾斜ダクト、21・・不活性蒸気、
22.23・・蒸気供給部としての蒸気発生器および蒸
気供給口、31・・蒸気回収部。
を示す断面図である。 13・・はんだ槽、14・・ワーク、15・・ワーク搬
送ライン、16・・傾斜ダクト、21・・不活性蒸気、
22.23・・蒸気供給部としての蒸気発生器および蒸
気供給口、31・・蒸気回収部。
Claims (2)
- (1)ワーク搬送ラインの下側に配置されたはんだ槽内
の溶融はんだによりワークがはんだ付けされるはんだ付
け方法において、 ワーク搬送ラインに沿ってはんだ槽上に、 100℃以上かつはんだ融点以下の温度条件を有する不
活性蒸気が供給され、この不活性蒸気中で揮発性フラッ
クスの塗布されたワークに対し、溶融はんだによりはん
だ付けが行われることを特徴とするはんだ付け方法。 - (2)ワーク搬送ラインの下側に配置されたはんだ槽か
ら噴流される溶融はんだによりワークにはんだ付けが行
われるはんだ付け装置において、はんだ槽より搬送上流
側からはんだ槽上を経て搬送下流側にわたり揮発性フラ
ックスの塗布されたワークを上昇傾斜状に搬送するワー
ク搬送ラインが設けられ、このワーク搬送ラインに沿っ
て傾斜ダクトが配設され、この傾斜ダクトのはんだ槽よ
り上昇側に、100℃以上かつはんだ融点以下の温度条
件を有する不活性蒸気をワーク搬送ラインに供給する蒸
気供給部が設けられ、傾斜ダクトのはんだ槽より下降側
に前記不活性蒸気をワーク搬送ラインから回収する蒸気
回収部が設けられたことを特徴とするはんだ付け装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28371889A JPH03146257A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | はんだ付け方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28371889A JPH03146257A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | はんだ付け方法およびその装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03146257A true JPH03146257A (ja) | 1991-06-21 |
Family
ID=17669191
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28371889A Pending JPH03146257A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | はんだ付け方法およびその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03146257A (ja) |
-
1989
- 1989-10-31 JP JP28371889A patent/JPH03146257A/ja active Pending
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