JPH0314268A - カラーイメージセンサの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野］ この発明は、カラーイメージセンサの製造方法に関し、
特にそのカラーフィルタの形成方法の改良に関するもの
である。

［従来の技術］ 第４図（ａ）ないし第４図（ｄ）は従来のカラーイメー
ジセンサの製造工程を示しており、図において、■はイ
メージセンサが形成されている基板、２はイメージセン
サの絵素、３はダイシングライン、４ばフィルタ部を示
し、４１は透明ポリマからなる平坦化層、４２．４４は
それぞれ第１．第２のカラーフィルタ部、４３は透明ポ
リマからなる中間膜、′４５は透明ポリマからなる保護
膜を示す。

ダイシングライン３は絵素２から数μｍ程度の距離に形
成されており、およそ幅１００μｍ１深さ３μｍである
。また、７はダイシングカッタを示す。

また、第５図（ａ）、第５図（ｂ）はフィルタ部４の一
層を回転塗布した時のチップ端の状態を示す。

次に従来のカラーイメージセンサの製造方法について説
明する。

絵素２や駆動回路が作り込まれた基板１上に回転塗布法
によって平坦化膜４１を形成し、ウェハプロセスで生じ
た凹凸を平坦化する（第４図（ａ）参照）。次に重クロ
ム酸アンモニウム等を添加して感光性を付与したゼラチ
ン、カゼイン、ポリビニルアルコール等のフィルタ母材
を回転塗布法により塗布し、リソグラフィ技術を用いて
フィルタパターンを形成する（第４図（ｂ）参照）。こ
のフィルタパターンを染色法を用いて染色し、所望の分
光特性を有する第１のカラーフィルタ層４２を形成する
。

以下、同様にして透明ポリマにより形成された中間膜４
３を介して第２のカラーフィルタ層４４を形成し、最後
に透明ポリマで保護膜４５を形成する。

ボンディングバットやダイシングライン３上などの不要
部の透明ポリマは感光性を有していれば、各工程で露光
現像処理により取り除く。またポジ型であるならば最後
に一括して露光現像処理により取除くことも可能であり
、また透明ポリマ層が感光性を持たない場合はフォトレ
ジスト等のパターンを形成し不要部を酸素プラズマなど
によりエツチングして除去する（第４図（Ｃ）参照）。

そして、基板上にカラーフィルタを形成後、ダイシング
ライン３をダイサを用いて切断しく第４図（ｄ）参照）
、個々のチップに分割するという工程を経ていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来、カラーイメージセンサのダイシングライン３は絵
素２の非常に近く（数μｍ程度）に深く（３μｍ程度）
かつ広＜　（１００μｍ程度）形成していたため、第５
図（ａ）、　（ｂ）のように、フィルタ部４を構成する
透明ポリマ膜、ゼラチン感光膜などを回転塗布した場合
、例えば文献［ザ　エレクトロケミカル　ソサイエティ
ー（フォール　ミーティング　シカゴ　イリノイ　オク
ト−バー９−１４１９８８）　　エクステンプインド　
アブストラクツボリューム８８−２　Ｐ４Ｏ１０」（“
’　ＴＩＤＥ　ＥＬＥＣＴＲＯＣＨＥＭＩＣ八Ｌ　　５
ＯＣＩＥＴＹ　へ（ＦへＬＬ　　ＭＥＥＴＩＮＧ　　Ｃ
ＨＩＣＡＧＯＩＬＩ、ｌＮ０ＩＳＯＣＴＯＢＩＥＲ９−
１４，１９８８）　ＥＸＴＥＮＤＥＤ　ＡＢＳＴＲＡＣ
ＴＳ　ＶＯＬＵＭＥ８８−２　　”）のＰ４Ｏ１０に掲
載された論文「イフエクツ　オン　スバフィシャル　ト
ポグラフィ−オン　ユニフォーミイティー　オン　スパ
ン−オンレジスト　フィルムＪ　　（”Ｅｆｆｅｃｔｓ
　ｏｆ　５ｕｐｅｒｆ　１ｃｉａｌ　Ｔｏｐｏｇｒａｐ
ｈｙ　ｏｎ　Ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ　ｏｆ　５ｐｕｎ−
Ｏｎ　Ｒｅ５ｉｓｔ　Ｆｉｌｍ”　）に示されている通
り、チップ端で透明ポリマ膜、ゼラチン感光膜などがだ
れたり盛り上がったりするため、最も端に形成された絵
素２上のフィルタ部４の膜厚は他の絵素とは異なった膜
厚となるため、端絵素の分光特性が変化したり、チップ
全体にわたり均一な特性が得られない異常が発生し、異
常出力の原因となるなどの問題点があった。

この発明は、上記のような従来のものの問題点を解消す
るためになされたもので、回転塗布法によっても、フィ
ルタ部がチップ端まで均一な膜厚を持つことができるカ
ラーイメージセンサの製造方法を得ることを目的とする
。

〔課題を解決するための手段〕

この発明に係るカラーイメージセンサの製造方法におい
ては、イメージセンサの各チップの四方の外縁の四辺の
内、少なくとも二辺に接して、幅よりも深さの大きな連
続溝または断続溝を形成し、かつ該複数のチップを分割
するためのチップ間の中間領域であるダイシングライン
の領域の少なくとも一部分をイメージセンサチップ内の
絵素部表面と同程度の高さに形成するようにしたもので
ある。

〔作用〕 この発明においては、カラーイメージセンサのダイシン
グライン内に幅の狭い溝のみ深く形成するようにしたの
で、回転塗布時にダイシングライン近くでフィルタ部が
盛り上がったり、だれたりすることを抑制できる。

〔実施例〕

以下、この発明の実施例を図について説明する。

第１図は本発明の一実施例により製造されたカラーイメ
ージセンサを示す図で、同図（ａ）はカラーイメージセ
ンサのウェハ状態のチップ端における断面図を示す。第
１図（ａ）において、５はダイシングライン（中１００
μｍ程度）内に形成された幅の狭い（２μｍ程度）溝（
深さは１０μｍ程度）であり、ダイシング時にその目印
となる役割を持つ。

また、この溝５は最も端にある絵素２から数μｍ離れた
地点に形成する。

第１図（ｂ）はチップ端における俯徹図を示す。第１図
（ｂ）において、６はカラーイメージセンサのチップを
示す。

第２図（ａ）ないし第２図（ｄ）はこの発明の一実施例
による製造方法の製造フローを示す。

まずダイシングライン３並びに溝５の形成について説明
する。素子形成時には酸化膜、窒化膜等の形成、除去な
どによって素子表面の高さが増減するが、チップ分割に
要する領域３上は絵素２の部分の厚さが変化する工程に
おいては、絵素２と同様の処理を行い、絵素２とダイシ
ングライン３の高さを等しく形成する（第２図（ａ）参
照）。ただし溝５の形成予定の場所ではすべて除去する
。素子形成後、異方性エツチング、多層レジスト等のト
レンチ溝形成技術を用いてｒｌ］２　、Ｉ／　ｍ程度、
深さ１０μｍ程度の溝５を形成する（第２図（ｂ）参照
）。

次に従来例と同様にカラーフィルタ４の形成後（第２図
（Ｃ）参照）、ダイシングライン３上のカラーフィルタ
４を除去する（第１図（ａ）参照）。続いてダイサを用
いてダイシングを行う（第２図（ｄ）参照）。

このようにダイシングライン３上に幅の狭い溝５を形成
し、ダイシングラインの他の部分を絵素２と同じ高さと
したため、前述の論文に示されている通り、チップ端で
透明ポリマ膜、ゼラチン感光膜などがだれたり盛り上が
ったりしない平坦なフィルタ膜を得ることができる。

なお、上記実施例では素子形成後、溝５の形成を行って
いるが、溝５の形成はどの工程で行っても良い。さらに
フィルタ部４除去後にダイシングを行っているが、フィ
ルタ部４及びチップ６に影響しない限り、特に除去する
必要はなく、そのままダイシングを行っても良い。

また上記実施例ではダイシングライン３の両側に溝５を
形成しているが、必ずしも両側に形成する必要はなく、
例えば一方には素子は形成されていない場合等の、一方
にのみ高ダイシング精度を必要とする場合はその片方の
みに形成を行なっても良い（第３図（ａ）参照）。

さらに溝５を片側にのみ形成する場合、第３図（ｂ）の
ようにウェハ上で溝５が連続である必要はない。この場
合の溝は絵素２に対応する場所にありかつその長さは少
なくとも絵素２の長さ以上は必要である。この場合、溝
５の深さを素子の特性に影響が及ばないほど深く形成す
ることによりダイシングライン３上のフィルタ部４を除
去後、ダイサを用いることなくウェハをそらせることに
より溝５下にクラックが入り、応力がクランク先端に集
中するためデバイスに影響を及ぼすことなくチップ単位
に分割できる（第３図（Ｃ））。

以上のような場合でも上記実施例と同様の効果を奏する
。

また、上記各実施例では溝の形を矩形として示したが、
本発明はこの溝のように十分に狭く、十分な深さを有す
ればその形状は限定されるものではなく、更に底部の形
状は必ずしも矩形である必要はなく、丸状或いは釣鐘状
、刃状、凸状であっても良く、上記実施例と同様の効果
を奏する。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明に係るカラーイメージセンサの
製造方法によれば、カラーイメージセンサのダイシング
ライン上に十分ｌ］が狭く、かつ十分に深い溝を絵素近
くに形成し、ダイシングライン自体は絵素と同じ高さに
なるように構成したので、端の絵素でもカラーフィルタ
が盛り上がったり、だれたりすることなく均一に形成で
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例により製造されたカラーイ
メージセンサを示す図で、第１図（ａ）はそのウェハ状
態でのチップ端の断面図、第１図（ｂ）はその俯睡図、
第２図はこの発明の一実施例による形成方法のフローを
示す図で、第２図（ａ）、第２図（ｂ）、第２図（Ｃ）
、第２図（ｄ）はその各工程を示す図、第３図（ａ）、
第３図（ｂ）１　第３図（ｃ）はそれぞれこの発明の他
の実施例を示す図、第４図は従来のカラー０ イメージセンサの製造フローを示す図で、第４図（ａ）
、第４図（ｂ）　　第４図（Ｃ）、第４図（ｄ）はその
各工程を示す図、第５図（ａ）、第５図（ｂ）はそれぞ
れ従来法において、フィルタ部４を回転塗布法により形
成したときの問題点を示す図である。 図において、■は素子が形成される基板、２は絵素、３
はダイシングライン、４はフィルタ部、４１は透明ポリ
マによる平坦化膜、４２．４４は第１．第２色目のカラ
ーフィルタ部、４３は透明ポリマによる中間膜、３５は
透明ポリマによる保護膜、５はダイシングライン中に形
成された巾の狭い溝、６はカラーイメージセンサのチッ
プ、７はグイシングカソタである。 なお回中同−符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）イメージセンサが多数個形成された基板上にカラ
   ーフィルタを形成するカラーイメージセンサの製造方法
   において、 イメージセンサの各チップの四方の外縁の四辺の内、少
   なくとも二辺に接して幅よりも深さの大きな連続した溝
   または少なくともイメージセンサチップ内の絵素の幅よ
   りは大きな長さの断続した溝を形成し、 かつ該複数のチップを分割するためのチップ間の中間領
   域であるダイシングラインの領域の少なくとも一部分を
   イメージセンサチップ内の絵素部表面と同程度の高さに
   形成しておき、 その上にカラーフィルタを形成することを特徴とするカ
   ラーイメージセンサの製造方法。