JPH03141046A - 消去可能な光学情報記録用フロッピーディスクおよびテープ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ｌｌ上立剋旦±ヱ 本発明は新規な光学情報記録用フロッピーディスクおよ
びテープ、ならびにその記録・再生および消去方法に関
する。さらに詳しくは、熱時の形状変化によって光学情
報の記録と、記録バンプ（隆起部）ごとの消去が効率よ
く行え、記録の再生が可能な記＃ｊ螺体に間する。

雛の これまでに記録の再生および消去が可能で、塗工できる
光記録媒体はいくつか提案されている。

例えば、特開昭５９−５４４８号公報によれば、ポリマ
ーと色素の混合系から成る消去可能な光記録媒体が開示
されている。この媒体においては、ポリマーの流動変形
によるビット形成によって記録が行われるために、いっ
たん形成した記録ビットを消去するためには該記録ビッ
トを含むトラック全体をレーザ光照射により加熱した後
、徐冷して消去するか、記録媒体全面を加熱、徐冷する
ことにより消去することが必要であり、記録ビット毎の
消去は不可能であった。また、特開昭５７−２７７９０
、および６０−２５３０３６号公報によれば、ビット形
成性のある記録層およびこの上に設けられたオーバーコ
ート層から成る消去可能な光記録媒体が提案されている
。この媒体においては、記録層の流動変形によってビッ
トが形成されると共に、オーバーコート層の膨脹が起こ
ることにより記録が行われる。

しかしながら、オーバーコート層が高い軟化温度を有し
ているために、記録の消去に際しては比較的強い出力の
レーザ光を長時間照射する必要があり、実用的ではなか
った。さらに別の提案（特開昭６０−６９８４６号公報
参照）によれば、レーザ光照射により加熱・膨脹しドー
ム状突起部（バンプ）を形成するゴムから成る膨脹層、
およびこの形状を保持する樹脂から成る保持層とから基
本的に構成される記録・消去の可能な媒体が提案されて
いる。

この媒体に記録を行う場合は、あらかしめ膨脹層に混合
された色素の極大吸収波長（λ工）近傍でレーザ光照射
を行い、該膨脹層がバンプを形成し、保持層がこの形状
を維持できるようにする。また、記録されたバンプの消
去を行う場合は、あらかじめ保持層に混合された色素の
極大吸収波長（λ、）近傍でレーザ光照射を行い、保持
層をその１９以上に加熱してバンプ形状の維持が困難と
なるようにする。この開示された方法によれば、記録と
バンプの減少による記録の消去とを可逆的に行うことが
できる。−数的に有機高分子を用いた記録媒体は、塗工
可能であるために真空プロセスを用いて製造する他の媒
体に比べて、製造コストを低減できるという利点を有す
る。コストの低減を図る他の有効な方法は、基板として
安価な高分子フィルムを用いることである。この場合は
製膜速度を高速にして大量のフィルム状媒体を製膜でき
れば、安価なフィルム状の記録媒体、例えば光記録用フ
ロッピーディスクおよび光記録用テープとして用いるこ
とが可能である。こうした高速の製膜を可能にするため
には、上記媒体中の記録層が高速架橋できる樹脂である
ことが好ましい、こうした要求特性の他に、記録媒体と
しての基本特性を満たすためには、記録層中の樹脂に対
して色素が相溶し、かつ近赤外光や熱に対して安定であ
ることが望まれるが、こうした要求特性をすべて満たす
色素と樹脂の組合せは限られる。また、上記の媒体を光
記録に使用するためには、信号サーボ用のトラッキング
を設ける必要がある０本発明者はかかる条件を満足する
光学記録用フロッピーディスクおよびテープを実現する
ために、鋭意検討した結果、以下に述べる媒体が上記の
要件を満たす光情報記録媒体となりうることを見い出し
、本発明を完成するに到った。

本１」トγ１！ 本発明に係わる光学記録媒体は、 １、光学的に透明な高分子フィルム［ａｌおよびこの上
に形成された記録層ｔｂｌとから成る光学記録媒体にお
いて、前記記録層［ｂｌが、レーザ光照射に伴う発熱に
より変形しうる膨脹層【ＣＪと保持層［ｄｌとの積層体
から構成され、該膨脹層と保持層中に吸収波長域が完全
には重ならない、異なる近赤外吸収色素［Ｄ１］および
［Ｄ２］が含まれており、かつ近赤外光に対して上記記
録層の反射率が少なくとも１０％以上になるように上記
色素の含有量、記録層［ｂｌの厚みが調節されて成る光
学記録用フロッピーディスクおよびテープ。

２、上記保持層および＊ａ層の樹脂がいずれも紫外光ま
たは可視光を照射することによって架橋・硬化したもの
であり、 １〕該保持層は常温での弾性率が１００ｋｇ／ｍｍ２以
上であってガラス転移温度が７０〜１５０℃の範囲にあ
ること、 ２）該膨脹層は５０℃以下のガラス転移温度を有し、常
温でゴム弾性体であること を特徴とする光学記録用フロッピーディスクおよびテー
プ。

３、上記第１項記載の保持層［ｃＪ上に、記録信号用サ
ーボトラックが設けられていることを特徴とする光学記
録用フロッピーディスクおよびテープ。

４、上記第１項記載の保持層［ｅｌ上にハーフミラ−層
［ｅｌが設けられていることを特徴とする光学記録用フ
ロッピーディスクおよびテープ。

５、上記第１項記載の媒体が、記録信号用のサーボトラ
ックを設けた高分子フィルム、必要に応じてこの上に設
けられたハーフミラ−層、およびこの上に熱可塑性の低
弾性率エラストマー層【ｆ］／保持層［ｃ］／膨脹層［
ｄｌがこの順に設けられており、さらに必要に応じてこ
の上に膨脹層Ｉｄｌの弾性率よりも大きな弾性率を有す
る透明な保護層［ｆｌが設けられている事を特徴とする
光学記録用フロッピーディスクおよびテープ。

６、上記第１−４項記載の記録媒体にレーザ光を基板上
の保持層側から照射して情報の記録、再生及び／又は消
去を行うに際して、 （Ｉ）該記録層［ｂｌの内、膨脹層に含まれる色素の吸
収極大波長に対応した波長［λ１］で発振する強いレー
ザ光を照射制御することにより、該照射スポットを部分
的に急加熱・急冷し、膨脹層およびこれに接して積層さ
れた保持層［ｃＩに隆起部（バンプ）を形成することで
情報を記録する工程、 （ＩＩ）予め保持層上に設けられた信号サーボ用トラッ
キングにサーボ用信号光を導入しながら、上記（Ｉ）の
工程で記録されたバンプと非記録部との、再生光に対す
る反射率の違いから記録を再生する工程、ならびに （ト）いったん形成した保持層のバンプに、上記波長［
λ１］とは異なる、保持層に含まれる色素の吸収極大波
長［λ２］を有する弱いレーザ光を照射制御して該バン
プを加温・徐冷し、該バンプを減少することで情報を消
去する工程 のいずれか又はその組合せから成る光学情報の記録、再
生及び／又は消去方法、および７、上記第５項記載の記
録媒体にレーザ光を照射して情報の記録・再生及び／又
は消去を行うに際して、 （Ｉ）膨脹層に含まれる色素の吸収極大波長に対応した
波長［λ１］で発振する強いレーザ光を基板側から照射
制御することにより、該照射スポットを部分的に急加熱
・急冷し、膨脹層を膨らませ、これに接して積層された
保持層［ｃｌも熱膨脹することで、該層［ｃＩに接した
熱可塑性の低弾性率エラストマー層【８中に隆起部（バ
ンプ）を形成することで情報を記録する工程、 （ト）上記（Ｉ）の工程で記録されたバンプと非記録部
との、再生光に対する反射率の違いから記録を再生する
工程、 （ＩＩＩ）いったん形成した保持層のバンプに、保持層
に含まれる色素の吸収極大波長［λ１］で発振する弱い
レーザ光を照射制御して該バンプを加温・徐冷し、該バ
ンプを減少することで情報を消去する工程 のいずれか又はその組合せから成る光学情報の記録、再
生及び／又は消去方法である。

本発明に用いられるフィルム基板としては、光学的に透
明なものであれば使用できる。さらに好ましくは、レー
ザ光照射によって上昇しうる記録層の温度と同等の耐熱
性を有するものが望ましい。

こうした特徴を備えたフィルム基板の具体例としては、
ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリ
イミド、ポリエチレンナフタレート、ポリスルホン、ポ
リエーテルケトンなどが挙げられる。必要に応じて、こ
れらの基板フィルム上に設けられるハーフミラ−層とし
ては、空気との界面における反射率が少なくとも５０％
、好ましくは６０％以上の金属薄膜または色素薄膜が用
いられる。

金属薄膜の具体例としては、銀、アルミニウム、白金、
金、コバルト、チタン、ニラゲルなどが挙げられる。こ
れらの膜厚としては、５０ｎ１１〜２００ｎｉが好まし
い、これらの薄膜は、真空蒸着、スパッタや化学メツキ
などで設けることが可能である。

また、色素薄膜の具体例としては、後述の保持層用色素
［Ｄ１］および膨脹層用色素［Ｄ２］が使用可能である
。

本発明における記録層ｒｂｌ中の膨脹層［ｃｌは、レー
ザー照射により加熱した際に効果的に膨脹することが記
録特性を高める上で必要である。そして、記録により生
成したバンプを効率的に消去して元の状態に戻すために
は高いゴム弾性が要求される。したがって、膨脹層用の
樹脂としては高いゴム弾性を示し、かつレーザー光照射
により流動変形を起こさないことが必要である。また、
そのガラス転移温度は５０℃以下、好ましくは常温以下
であるものが用いられる。好適に用いられる膨脹層用樹
脂としては、天然ゴム；スチレン−ブタジェンゴム、ブ
タジェンゴム、インブレンゴム、ニトリルゴム、クロロ
プレンゴム、ブチルゴム、エチレン−プロピレンゴム、
ウレタンゴム、シリコーンゴムなどの合成ゴム；スチレ
ン系、オレフィン系、ウレタン系の熱可塑性エラストマ
ー；アミン架橋型、インシアネート架橋型、紫外線架橋
型のエラストマーが挙げられる。

本発明において、用いられる保持層［ｄ］は、記録時に
熱膨脹により膨脹層ＩＣＩとともに熱膨脹することによ
りバンプを形成し、冷却過程で該バンプを固定すること
が可能で、消去時にはバンプの固定を解除する役割を担
っている。従って、真作用を効率的に行なうために、ガ
ラス状態からゴム状態に変化する温度（ガラス転移温度
Ｔｇ）が重要になる。また、記録時に熱膨脹する際、流
動変形を起こさないことが重要である。その意味から、
本発明において用いられる保持層用樹脂は、弾性率が８
０ｋｇ／ｍｍ２以上、好ましくは１００ｋｇ／ｍｍ２以
上、かつ、Ｔｇが６０〜１５０℃の熱可塑性および熱硬
化性樹脂である。これらの具体例としては、ポリメチル
メタクレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド
樹脂等の熱可塑性樹脂およびその架橋物、エポキシ樹脂
、フェノール樹脂およびその架橋物、メラミン樹脂、エ
ポキシ（メタ）アクリレート樹脂、エポキシノボラック
（メタ）アクリレート樹脂、多官能（メタ）アクリレー
ト樹脂などの熱硬化型樹脂などが挙げられる。これらの
樹脂の内、エポキシ樹脂、エポキシ（メタ）アクリレー
ト樹脂、エポキシノボラック（メタ）アクリレート樹脂
、および多官能（メタ）アクリレート樹脂については紫
外線硬化をしてもよい、これらの中でも熱硬化型樹脂が
本発明において特に好適に用いられる。

これらの樹脂のフィルム基板上への塗工法は特に制限は
無いが、グラビヤコート法、バーコード法、ドクターナ
イフ法、スピンコード法などが用いられる。なかでも、
大量製膜用にはグラビヤコート法が適している。その際
使用される好適な溶媒としては、ヘキサン、へ１タン、
シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素：ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素；メタノール、エ
タノール、ブタノールなどのアルコール類：クロロホル
ム、塩化メチレンなとのハロアルカン類；酢酸エチル、
酢酸ブチルなどのエステル類；アセトン、メチルエチル
ゲトン；メチルイソプチルゲトン、シクロヘキサノンな
どのケトン類：エチレングリコールモノメチルエーテル
、エチレングリコールモノブチルエーテルなどのグライ
ム類；テトラヒドロフラン、ジオキンなどのエーテル類
、ニトロメタン、アセトニトリルおよびそれらの混合物
が挙げられる。

また、膨脹層、保持層用樹脂として架橋型樹脂を用いた
場合には硬化が必要である。硬化法としては、熱硬化法
、紫外線硬化法、電子線照射法が用いられる。熱硬化法
としては通常ラジカル開始剤の共存下で加熱することに
より三次元架橋硬化される。熱硬化反応の温度としては
、用いる樹脂の種類にもよるが、５０〜２００℃、好ま
しくは７０〜１５０℃が好ましい、それ以下では熱硬化
反応が十分に進行せず好ましくはない、また、それ以上
では基板や色素の劣化を来すために好ましくない。

硬化時間は、一般には５分〜１０時間、好ましくは１０
分〜５時間の範囲で行なわれる。一方、紫外線硬化法の
場合は、塗工後紫外線照射をして硬化する。照射源とし
ては水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライド
ランプなどが好適に用いられる。光源のパワーは、１　
ｍＷ／ｊ　〜１　ｋＷ／ａ＃が用いられる。照射時間は
光源のパワーおよび光反応速度に依存するが、１秒〜１
時間、好ましくは１０秒〜１０分の間で行なわれる。膨
脹層の膜厚は一般には、０．１〜５μｍ、好ましくは０
．４〜３．０　μｍが用いられ、保持層の膜厚は０．１
〜３．０μｍ、好ましくは０．３〜２．０μｍが用いら
れる。これらの膜厚は、組み合わせる色素の吸光度や反
射率を考慮して決定される。基板上に高反射性層を設け
る場合、入射光が高反射性層まで届き、かつその反射層
で反射した光が再び媒体表面にもどるためには、入射光
の少なくとも１０％以上、好ましくは１５％以上が保持
層および膨脹層から成る二層媒体中を透過するように保
持層および膨脹層中の色素濃度と膜厚を制御することが
望ましい、また、媒体表面での反射光と前記金属層表面
からの多重反射光とが互いに光干渉で強めあうように記
録層［ｃＩの膜厚を設定し媒体の反射率を向上させるこ
とも可能である。

かくして形成した記録層の内、保持層表面には信号サー
ボ用のトラックが設けられる。このトラックは保持層の
表面側から予めパターン化されたマスクを使用したエン
ボス加工により形成することができる。

本発明の別の態様によれば、基板フィルム上に設けられ
たハーフミラ−層、およびこの上に熱可塑性の低弾性率
エラストマー層１月を介して保持層［ｃ］と膨脹層［ｄ
ｌがこの順に設けられる。この場合には、記録用のレー
ザ光は基板フィルム側から入社され、エラストマー層［
ｆｌおよび保持層［ｃ］を透過して膨脹層［ｄｌに到達
する。膨脹層中の色素がこのレーザ光を吸収することに
より、発熱することで膨脹し、この層に接する保持層も
熱ＩＩＢｆＩを起こす、かくして熱膨張した保持層は、
これにＦＪＩ接する低弾性率エラストマー層【日中に隆
起部（バンプ）を形成する。上記構成の媒体の場合は、
信号サーボ用のトラッキングは基板フィルム上に設けら
れる。この場合もトラッキングは、基板フィルム上にエ
ンボス加工することによって形成できる。

本発明においては、さらに必要に応じて該膨脹層［ｄｌ
上に透明な保護層を設けることも可能である。かかる保
護層用の材料としては、膨脹層よりも常温での弾性率が
高く、光学的に透明かつ均質で表面硬度が高いものが好
適に使用される。その具体例としては、ポリメチルメタ
クリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリビ
ニルブチラール、ポリスルホン、フェノキシ樹脂などが
用いられる。

本発明の色素［Ｄｓ　］および［Ｄ２］は、それぞれ記
録過程および消去過程においてレーザー光を効率よく吸
収して熱に変換する役割をする。従って、記録用レーザ
ーおよび消去用レーザーの発振波長域に合致している色
素が選ばれる。そして、両レーザー光を選択的に吸収出
来るように、それぞれの発振波長域での吸収強度が過度
に重ならないことが好ましい、また、現状の光記録分野
で使用されているレーザーが半導体レーザーであること
から近赤外に吸収ピークを有する色素が好ましい、また
、読み取りはａ体表面の光反射を利用するために、保持
層での光反射率が高いことが要求される。この観点から
、色素［Ｄ２］は高反射率を有することが好ましい、も
ちろん吸収特性を効率的に行なうなめに、色素はそれぞ
れの樹脂に均一分散するように選択すべきである。好適
な色素［Ｄ１］および［Ｄ２］としては、シアニン系色
素、ビリリウム系色素、チアピリリウム系色素、スクワ
リリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレニウム系
色素などのポリメチン系色素：フタロシアニンやナフタ
ロシアニンなどのフタロシアニン系色素；ジチオール金
属錯体；ナフトキノン、アントラキノン系色素；トリフ
ェニルメタン系色素；アミニウム、ジインモニウム系色
素が挙げられる。

これらの色素を上記樹脂と組み合わせて使用する場合、
この混合比率（色素／樹脂）は色素の吸光度、膜厚にも
依存するが一般にはＯ，ＯＳ〜０．４ｗｔ７ｗｔ好まし
くは０．１〜Ｇ、３ｗｔ　／ｗｔである。

かくして得られた二層媒体の記録法・再生・消去は二種
類のレーザー光を照射することにより行なう、その際使
用するレーザーは、ヘリウムネオンレーザ−、アルゴン
レーザー、半導体レーザーなどが用いられるが、小型で
安価な半導体レーザーがより好ましい、以下、膨脹層色
素Ｄ１が８４０ｎｉ近傍に吸収を示し、保持層色素Ｄ２
が７８０ｎｍ近傍に吸収を示す媒体を例にとって説明す
る。記録は、８４０ｎｍのレーザー光を照射することに
より行なう、この際、主として膨脹層が光を吸収してバ
ンプを形成する。再生は、８４０ｎｍの弱いレーザー光
を照射し、記録部と未記録部との反射率の差を読みとる
ことにより行なわれる。消去は、７８０ｎ１１のレーザ
ー光を照射することにより行なわれる。

−数的に、記録は、５〜３０１１Ｍ、好ましくは７〜２
０１のパワーで５〜０．１μ秒照射する。再生は、０．
５〜３−１好ましくは０．７〜２．０ｍＭのパワーで５
〜０．１μ秒照射する。消去は、１〜２０ｍＷ、好まし
くは３〜１２ａｌｌのパワーでｏ、ｉ〜２（ｌ　ｍ秒照
射する。

本発明によるとバンプの形成と消滅による反射率の変化
を読みとることを基本原理とする記録媒体において優れ
た記録・消去特性が得られる。それとともに、製膜が低
温高速で行えるために、基板や使用色素の劣化を起こす
ことなく塗工・硬化が行え、かつ媒体コストが安価にな
ると言う工業上の利点も有している。

以下に、本発明を実施例に従ってさらに詳しく説明する
。

実施例１ 本発明の膨脹層として、市販のウレタンアクリレート（
エヘクリル−２２０、ダイセル−ｕｃＢ）を５ｗｔ％ク
ロロホルム溶液として用いた。の溶液中に固形分含量に
対して１０ｐｈｒのポリメチン系色素（ＩＲ−８２０５
、日本火薬■）および光重合開始剤として、ベンゾイン
エチルエーテルを３　ｐｈｒ溶解した。得られた溶液を
ポリエチレンテレフタレートフィルム（７５μｍ）上に
塗布したのち、溶媒を乾燥させた。しかるのち、塗膜に
高圧水銀灯（８０１１１／　ｃｄ　）を１０分間照射し
、フィルム形成ポリマーの架橋反応を行った。かくして
得られた厚さ３．３μｍの皮膜上に、予め固形分含量に
対して１７ｐｈｒのシアニン系色素（Ｎに−１２５、日
本感光色素■）と３　ｐｈｒのベンゾインエチルエーテ
ルをビスフェノール−Ｓ−エボキシアクリレート（新中
村化学■）の５ｗｔ％ＭＥＫ溶液に溶解して得た溶液を
塗布することにより、約０．７μｍの厚さの保持層を形
成した。

得られた二層構成媒体の反射率は１５％であった。

この媒体に８３０ｎＩＩの発振波長と先頭出力１０ｍＷ
の半導体レーザ光を、１μ秒間照射したところ、媒体表
面に直径２．０μｍの明瞭な隆起部（バンプ）の形成が
認められた。引続き、この記録スポット上に、７５００
１の発振波長と先頭出力５ｍＷの半導体レーザ光を７μ
秒間照射したところ、上記のバンプは顕微鏡観察では確
認できない程度に消滅した。

この結果から、上記の記録媒体は記録・消去の可能な光
学情報記録媒体となりうることが分かった。

実施例２ 実施例１において、保持層樹脂および色素としてに−２
１５およびビスフェノール−８−エポキシアクリレート
を用いる代わりに、予め１０ｗｔ％トリｎ−ヘキシルシ
リコンナフタロシアニンをポリメチルメタクリレートに
溶解したトルエンの５ｗｔ％溶液を用いることにより、
約１．１μｍの厚さの皮膜を形成させた。得られた二層
構成媒体の反射率は２３％であった。この媒体に８３０
ｎｍの発振波長と先頭出力１０ｍＷの半導体レーザ光を
、１μ秒間照射したところ、媒体表面に直径２．０μｍ
の明瞭な隆起部（バンプ）の形成が認められた。引続き
、この記録スポット上に、７８０ｎ−の発振波長と先頭
出力５１Ｈの半導体レーザ光を７μ秒間照射したところ
、上記のバンプは顕微鏡観察では確認できない程度に消
滅した。この結果から、上記の記録媒体は記録・消去の
可能な光学情報記録媒体となりうることが分かった。

実施例３ 実施例１において、ビスフェノール−８−エポキシアク
リレートを用いる代わりに、１．１−シクロヘキシレン
ビスフェノール−Ａ−ポリカーボネートを用いて同様に
二層媒体を作成した。この媒体に実施例１と同様に発振
波長８３０ｎｍ　、強度１０１１Ｗの記録用レーザ光を
１μ秒間照射したところ、明瞭なバンプ形成が認められ
た。また、このバンプは７８０ｎｎ　、７１１Ｍのレー
ザ光を１０μ秒間照射することにより消去できた。

実施例４ 実施例１において、膨脹層用の色素としてポリメチン系
色素（ＩＲ−８２０）を用いる代わりに、テトラ第三級
アミルバナジルオキシフタロシアニンを用いて同様の光
照射条件下で光照射を行い、膨脹層を硬化した。

さらに保持層としてビスフェノール−８−エポキシアク
リレートを用いる代わりに、ビスフェノール−Ａ−ジグ
リシジルエーテルとトリエチレンテトラミンの等当量混
合物を用いて５ｗｔ％のクロロホルム溶液とした。この
中にω−シアノプロピルシリコンナフタロシアニンを樹
脂固形分に対して２０ｐｈｒになる様に添加した。かく
して得た溶液を上記膨脹層上に塗布した後、同様に二層
媒体を作成した。この媒体に実施例１と同一条件下で８
３０ｎｌの発振波長と先頭出力１０ｍＷの半導体レーザ
光を、ＩＭＨｚのパルス信号として照射したところ、媒
体表面に直径１．８μｍの明瞭な隆起部（バンブ）の形
成が認められた。引続き、この記録スポット上に、同一
レーザ光（出カフｍＷ）を連続照射したところ、上記の
バンプ顕微鏡観察では確認できない程度に消滅していた
。スポット上に、７８０ｎｌ　、出カフＩＩＨの連続光
を照射したところ、上記のバンプは顕微鏡観察では確認
できない程度に消滅していた。この結果から、上記の記
録媒体は記録・消去の可能な光学情報記録媒体となりう
ることが分った。

展層を形成した。この媒体の反射率は２０．５％であっ
た。この媒体に実施例１と同一条件でレーザ光照射を行
ったところ、１．６μｍ径のくぼみが形成した。これに
７ｍＷのレーザを照射したところ、顕微鏡では観察でき
ない程度に消去された。この結果から、上記の記録媒体
は記録・消去の可能な光学情報記録媒体となりうろこと
が分がっな。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、光学的に透明な高分子フィルム［ａ］およびこの上
   に形成された記録層［ｂ］とから成る光学記録媒体にお
   いて、前記記録層［ｂ］が、レーザ光照射に伴う発熱に
   より変形しうる膨脹層［ｃ］と保持層［ｄ］との積層体
   から構成され、該膨脹層と保持層中に吸収波長域が完全
   には重ならない、異なる近赤外吸収色素［Ｄ＿１］およ
   び［Ｄ＿２］が含まれており、かつ近赤外光に対して上
   記記録層の反射率が少なくとも１０％以上になるように
   上記色素の含有量、記録層［ｂ］の厚みが調節されて成
   る光学記録用フロッピーディスクおよびテープ。 ２、上記保持層および膨脹層の樹脂がいずれも紫外光ま
   たは可視光を照射することによつて架橋・硬化したもの
   であり、１）該保持層は常温での弾性率が１００ｋｇ／
   ｍｍ＾２以上であってガラス転移温度が７０〜１５０℃
   の範囲にあること、２）該膨脹層は５０℃以下のガラス
   転移温度を有し、常温でゴム弾性体であることを特徴と
   する光学記録用フロッピーディスクおよびテープ。 ３、上記第１項記載の保持層［ｃ］上に、記録信号用サ
   ーボトラックが設けられていることを特徴とする光学記
   録用フロッピーディスクおよびテープ。 ４、上記第１項記載の保持層［ｃ］上にハーフミラー層
   ［ｅ］が設けられていることを特徴とする光学記録用フ
   ロッピーディスクおよびテープ。 ５、上記第１項記載の媒体が、記録信号用のサーボトラ
   ックを設けた高分子フィルム、必要に応じてこの上に設
   けられたハーフミラー層、およびこの上に熱可塑性の低
   弾性率エラストマー層［ｆ］／保持層［ｃ］／膨脹層［
   ｄ］がこの順に設けられており、さらに必要に応じてこ
   の上に膨脹層［ｄ］の弾性率よりも大きな弾性率を有す
   る透明な保護層［ｆ］が設けられている事を特徴とする
   光学記録用フロッピーディスクおよびテープ。 ６、上記第１−４項記載の記録媒体に基板上の保持層側
   から （ I ）該記録層［ｂ］の内、膨脹層に含まれる色素の
   吸収極大波長に対応した波長［λ＿１］で発振する強い
   レーザ光を照射制御することにより、該照射スポットを
   部分的に急加熱・急冷し、膨脹層およびこれに接して積
   層された保持層［ｃ］に隆起部（バンプ）を形成するこ
   とで情報を記録する工程、 （II）予め保持層上に設けられた信号サーボ用トラッキ
   ングにサーボ用信号光を導入しながら、上記（ I ）の
   工程で記録されたバンプと非記録部との、再生光に対す
   る反射率の違いから記録を再生する工程、ならびに （III）いったん形成した保持層のバンプに、上記波長
   ［λ＿１］とは異なる、保持層に含まれる色素の吸収極
   大波長［λ＿２］を有する弱いレーザ光を照射制御して
   該バンプを加温・徐冷し、該バンプを減少することで情
   報を消去する工程 のいずれか、又はその組合せから成る光学情報の記録、
   再生及び／又は消去方法。 ７、上記第５項記載の記録媒体に （ I ）膨脹層に含まれる色素の吸収極大波長に対応し
   た波長［λ＿１］で発振する強いレーザ光を基板側から
   照射制御することにより、該照射スポットを部分的に急
   加熱・急冷し、膨脹層を膨らませ、これに接して積層さ
   れた保持層［ｃ］も熱膨脹することで、該層［ｃ］に接
   した熱可塑性の低弾性率エラストマー層［ｆ］中に隆起
   部（バンプ）を形成することで情報を記録する工程、 （II）上記（ I ）の工程で記録されたバンプと非記録
   部との、再生光に対する反射率の違いから記録を再生す
   る工程、 （III）いったん形成した保持層のバンプに、保持層に
   含まれる色素の吸収極大波長［λ＿１］で発振する弱い
   レーザ光を照射制御して該バンプを加温・徐冷し、該バ
   ンプを減少することで情報を消去する工程 のいずれか、又はその組合せから成る光学情報の記録、
   再生及び／又は消去方法。