JPH031379B2 - - Google Patents
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- JPH031379B2 JPH031379B2 JP9256886A JP9256886A JPH031379B2 JP H031379 B2 JPH031379 B2 JP H031379B2 JP 9256886 A JP9256886 A JP 9256886A JP 9256886 A JP9256886 A JP 9256886A JP H031379 B2 JPH031379 B2 JP H031379B2
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- JP
- Japan
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- pulsed
- evaporation
- molecular beam
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9256886A JPS62250167A (ja) | 1986-04-22 | 1986-04-22 | パルス分子線蒸着方法とその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9256886A JPS62250167A (ja) | 1986-04-22 | 1986-04-22 | パルス分子線蒸着方法とその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62250167A JPS62250167A (ja) | 1987-10-31 |
| JPH031379B2 true JPH031379B2 (enExample) | 1991-01-10 |
Family
ID=14058028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9256886A Granted JPS62250167A (ja) | 1986-04-22 | 1986-04-22 | パルス分子線蒸着方法とその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62250167A (enExample) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2771810B1 (fr) * | 1997-11-28 | 2000-02-11 | Sgs Thomson Microelectronics | Amelioration de la mesure d'epaisseur en temps reel d'un materiau depose dans une installation de depot par evaporation |
-
1986
- 1986-04-22 JP JP9256886A patent/JPS62250167A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62250167A (ja) | 1987-10-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |