JPH03137119A - Epoxy resin composition and semiconductor device sealed with the composition - Google Patents

Epoxy resin composition and semiconductor device sealed with the composition

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JPH03137119A
JPH03137119A JP27479089A JP27479089A JPH03137119A JP H03137119 A JPH03137119 A JP H03137119A JP 27479089 A JP27479089 A JP 27479089A JP 27479089 A JP27479089 A JP 27479089A JP H03137119 A JPH03137119 A JP H03137119A
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Abstract

PURPOSE:To provide the subject composition composed of a polyfunctional epoxy resin composition, a specific epoxy resin hardener and a flexibilizing agent, having excellent moldability and capable of giving a sealed semiconductor device having excellent moisture-resistant reliability, heat aging characteristics, reflow resistance, etc. CONSTITUTION:The objective composition having excellent adhesivity, electrical properties, heat-resistance, high-temperature mechanical strength and flame- retardancy is composed of (A) preferably 50-90 wt.% a >=2-functional epoxy resin composition, (B) preferably 10-50 wt.% of an epoxy resin hardener consisting of a combination of a novolak phenolic resin and a resol phenolic resin and (C) preferably 2-20 wt.% of a flexibilizing agent (preferably a silicone compound).

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、成形性、接着性、電気特性、耐熱性、高温の
機械強度および難燃性に優れたエポキシ樹脂組成物、お
よび該樹脂組成物で封止した樹脂封止型半導体装置に関
する。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention provides an epoxy resin composition with excellent moldability, adhesiveness, electrical properties, heat resistance, high-temperature mechanical strength, and flame retardancy, and the resin composition. The present invention relates to a resin-sealed semiconductor device sealed with a material.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体封止材料としては、エポキシ樹脂り硬化剤として
ノボラック型フェノール系樹脂に硬化促進剤を配合した
組成物が知られている。ノボラック型フェノール系樹脂
は酸無水物硬化に比べて吸湿特性が良好で、成形性が優
れているためである。
As a semiconductor encapsulation material, a composition in which a curing accelerator is blended with a novolak type phenolic resin as an epoxy resin curing agent is known. This is because novolak type phenolic resins have better moisture absorption properties and moldability than those cured with acid anhydride.

しかしながら、近年の半導体の集積度の上昇、パッケー
ジサイズやパッケージ形状、実装方式等の変遷に伴い、
耐熱性、耐湿性、低応力などを含めた信頼性の向上が望
まれている。例えば、パッケージの実装方式がビン挿入
型から表面実装型の移動に伴い、実装時にパッケージが
200℃以上の高温にさらされるようになって来たため
、封止品が熱的ストレスを受けた場合、封止樹脂、チッ
プ、フレーム等の熱膨張係数の違いによって大きな熱応
力が発生する。そのため、パッケージあるいはチップや
チップ表面に形成されているパッシベーション膜にクラ
ックを生じたり、チップ表面の配線の切断、短絡、位置
ずれ等をおこし、素子特性の変動や信頼性の低下が起こ
り易ぐなっている。また、従来のエポキシ樹脂では難燃
性を付与させるため、臭素化エポキシ樹脂などの臭素化
合物を添加している。
However, with the increase in the degree of integration of semiconductors in recent years, changes in package size, package shape, mounting method, etc.
Improvements in reliability, including heat resistance, moisture resistance, and low stress, are desired. For example, with the shift in package mounting methods from the bottle insertion type to the surface mount type, the package has come to be exposed to high temperatures of 200°C or more during mounting, so if the sealed product is subjected to thermal stress, Large thermal stress occurs due to differences in thermal expansion coefficients of the sealing resin, chip, frame, etc. As a result, cracks may occur in the package or chip or the passivation film formed on the chip surface, and wiring on the chip surface may be cut, short-circuited, or misaligned, resulting in variations in device characteristics and reduced reliability. ing. Furthermore, in order to impart flame retardancy to conventional epoxy resins, bromine compounds such as brominated epoxy resins are added.

しかし、樹脂封止半導体を200℃以」二の高温に長時
間放置しておくと、エポキシ樹脂組成物に含まれる臭素
が一部分解1m離し、金とアルミニウム接合部の腐食を
促進させ接続不良の原因となっている。そのため、この
臭素化合物の配合量はなるべく少なくすることが望まれ
ているが、封止品の難燃性が低下し規格を満足できなく
なる。
However, if a resin-encapsulated semiconductor is left at a high temperature of 200°C or higher for a long time, the bromine contained in the epoxy resin composition will partially decompose and release at a distance of 1 m, promoting corrosion of the gold and aluminum joint and causing poor connection. It is the cause. Therefore, it is desired to reduce the amount of this bromine compound blended as much as possible, but the flame retardance of the sealed product decreases and the standards cannot be met.

従来から、エポキシ樹脂の耐熱性を上げる方法きしては
、エポキシ樹脂の多官能化、ノボラック型フェノール樹
脂の高分子量化、酸無水物の多官能化などの手段が行わ
れている。また、エポキシ樹脂の難燃性向上に関しては
、エボ:1−シ樹脂に含まれる難燃剤の一部である3酸
化アンチモンの粒径を限定することにより、分jik性
を良くすることが特開昭63 269555号公報に提
案されている。さらに、エポキシ樹脂封止剤の信頼性を
自力させるだめの別の方法として、特開昭59−200
443号や特開昭59−200/144号各公報に記載
されているようにエポキシ樹脂硬化剤としてレゾール型
フェノール樹脂を用いる方法が行われている。
Conventionally, methods for increasing the heat resistance of epoxy resins include making the epoxy resin multifunctional, increasing the molecular weight of novolac type phenol resin, and making acid anhydride multifunctional. In addition, regarding improving the flame retardancy of epoxy resin, Japanese Patent Application Publication No. This was proposed in Publication No. 1983 269555. Furthermore, as another method for improving the reliability of epoxy resin sealants, we have proposed
As described in No. 443 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-200/144, a method using a resol type phenol resin as an epoxy resin curing agent has been carried out.

また、レゾール型フェノール樹脂とノボラック型フェノ
ール樹脂をエポキシ樹脂と併用して用いる方法が、特開
昭5(i−79170号、特開昭56−12!3263
号公報等に記載されているが、これらは接着剤とか塗料
としての用途であるため、可とう性とが樹脂の純度乏か
を問題とする必要はなかった。
Furthermore, a method of using a resol type phenolic resin and a novolac type phenolic resin in combination with an epoxy resin is disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 5 (Sho 5) (No.
However, since these are used as adhesives or paints, there is no need to consider whether flexibility or purity of the resin is insufficient.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかし、エポキシ樹脂の多官能化や硬化剤として用いる
フェノール樹脂の高分子■化では、樹脂組成物の硬化物
のガラス転移温度は上昇するが、接着性、耐湿性が逆に
従来よりも若干劣るため、電子部品用材料として実用化
することができなかった。また、エポキシ樹脂組成物に
含まれる3酸化アンチモンの粒径を規定しただけでは、
金・アルミニウム接合部腐食の原因となる臭素化合物の
配合量を大幅に低減することは非常に困難であった。一
方、エボ;1−シ樹脂の硬化剤としてレゾール型フェノ
ール樹脂を用いる場合は、レゾール型フェノール樹脂が
硬化時、水やホルムアルデヒドのような縮合副生物を生
成することや、接着性や耐湿性が若干劣るため、エポキ
シ樹脂の硬化を完全に進めるだけの量(当量)を配合し
た場合、電気特性や耐熱性が著しく低下する。
However, when polyfunctionalizing epoxy resins or converting phenolic resins used as curing agents into polymers, the glass transition temperature of the cured resin composition increases, but the adhesion and moisture resistance are slightly inferior to conventional methods. Therefore, it could not be put to practical use as a material for electronic components. Furthermore, if only the particle size of antimony trioxide contained in the epoxy resin composition is specified,
It has been extremely difficult to significantly reduce the amount of bromine compounds that cause corrosion of gold-aluminum joints. On the other hand, when resol type phenolic resin is used as a curing agent for Evo; Since it is slightly inferior, if an amount (equivalent) sufficient to completely advance the curing of the epoxy resin is added, the electrical properties and heat resistance will be significantly reduced.

本発明はこのような状況にかんがみてなされたものであ
り、その目的とするところは、成形性、接着性、電気特
性、耐熱性が良好で、臭素化合物の配合量を従来よりも
少なくして難燃性を付与できるエポキシ樹脂組成物反び
これを用いた樹脂封止型電子装置を提供することにある
The present invention was made in view of the above situation, and its purpose is to provide a material with good moldability, adhesiveness, electrical properties, and heat resistance, and with a lower amount of bromine compound than before. An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition that can impart flame retardancy and a resin-sealed electronic device using the same.

〔課題を解決するだめの手段〕[Failure to solve the problem]

上記目的を達成するために、本発明では、(a)2官能
以上のエポキシ樹脂組成物、■ ノボラック型フェノー
ル系樹脂とレゾール型フェノール系樹脂を併用しlこエ
ポキシ樹脂硬化剤、 (c)  可とう北側、 からなることを特徴とするエポキシ樹脂組成物としたも
のであり、上記可とう北側は、全樹脂組成物に対して2
〜20重辺%配合するのがよく、識号とう北側はシリコ
ーン化合物を用いるのがよい。また、上記エポキシ樹脂
組成物は、10倍量の120℃の熱水で100時間以上
加熱した場合に、該抽出液の電気伝導度が100μs/
cm以下、111]が3〜7、ハロゲンイオン量が20
 ppI!!以下であるのがよい。
In order to achieve the above object, the present invention provides (a) an epoxy resin composition having two or more functional functions; The flexible north side is an epoxy resin composition characterized by comprising:
It is preferable to mix up to 20% of the double side, and it is preferable to use a silicone compound for the north side of the sign. Further, when the above-mentioned epoxy resin composition is heated with 10 times the amount of hot water at 120°C for 100 hours or more, the electrical conductivity of the extract is 100 μs/
cm or less, 111] is 3 to 7, and the amount of halogen ions is 20
ppI! ! It is better if it is below.

また、上記目的を達成するために、本発明では、樹脂成
分が2官能以上のエポキシ樹脂50〜90重量%、ノボ
ラック型フェノール系樹脂とレゾール型フェノール系樹
脂を併用したエポキシ樹脂硬化剤10〜50重量%であ
り、かつ10倍量の120℃の熱水で100時間以上加
熱抽出した場合に、該抽出液の電気伝導度が100μs
/cm以下、pHが3〜7、ハロゲンイオン量が2op
pm以下であ7ることを特徴とするエポキシ樹脂組成物
としたものであり、」二記樹脂組成物は、無機質微粒子
からなる充てん剤を全組成物に対し55〜80容量%含
むのがよ(、充てん剤としては、平均粒径1〜30μm
の溶融シリカ、結晶性シリカ及びアルミナから選ばれる
少なくとも1種の無機質粒子を用いる。
In addition, in order to achieve the above object, in the present invention, the resin components include 50 to 90% by weight of an epoxy resin having two or more functions, and 10 to 50% by weight of an epoxy resin curing agent using a combination of a novolak type phenolic resin and a resol type phenolic resin. % by weight, and when heated and extracted with 10 times the amount of hot water at 120°C for 100 hours or more, the electrical conductivity of the extract is 100 μs.
/cm or less, pH is 3-7, amount of halogen ions is 2op
pm or less, and the resin composition described in "2" preferably contains 55 to 80% by volume of a filler made of inorganic fine particles based on the total composition. (As a filler, the average particle size is 1 to 30 μm.
At least one kind of inorganic particle selected from fused silica, crystalline silica, and alumina is used.

さらに、上記他の目的を達成するために、本発明では、
前記エポキシ樹脂組成物によって封止されている樹脂封
止型電子装置又は樹脂封止型半導体装置としたものであ
る。
Furthermore, in order to achieve the other objects mentioned above, in the present invention,
A resin-sealed electronic device or a resin-sealed semiconductor device is sealed with the epoxy resin composition.

本発明者等は、エポキシ樹脂の硬化性を完全にするとと
もに、樹脂硬化物の耐熱性、電気特性、接着性、耐湿性
を向上させるエポキシ樹脂硬化剤について種々検討した
。その結果、エポキシ樹脂硬化剤として、エポキシ基と
反応するフェノール系水酸基を有し、かつ硬化剤自身で
も硬化するレゾール型フェノール系樹脂を用いるだけで
はなく、さらにエポキシ基をすべて反応させるだけに必
要な水酸基を有するノボラック型フェノール系樹脂も合
わせて併用すれば、接着性や耐湿性を損わずに、しかも
エポキシ樹脂硬化物の耐熱性や高温機械的特性を向上で
きることを見出した。
The present inventors have conducted various studies on epoxy resin curing agents that perfect the curability of epoxy resins and improve the heat resistance, electrical properties, adhesiveness, and moisture resistance of cured resin products. As a result, we not only used a resol-type phenolic resin as an epoxy resin curing agent, which has a phenolic hydroxyl group that reacts with epoxy groups and which hardens itself, but also required the necessary amount to react all the epoxy groups. It has been found that when a novolac type phenolic resin having a hydroxyl group is also used, the heat resistance and high-temperature mechanical properties of the cured epoxy resin can be improved without impairing adhesiveness or moisture resistance.

また、レゾール型フェノール系樹脂を硬化剤の一部とし
て配合すると難燃剤、特に臭素化合物の量を低減しても
難燃性のUL規規格−0を達成できることが分かった。
It has also been found that when a resol-type phenolic resin is blended as part of the curing agent, flame retardancy of UL Standard-0 can be achieved even if the amount of flame retardant, especially bromine compound, is reduced.

さらに、レゾール型フェノール系樹脂と併用するノボラ
ック型フェノール系樹脂はエポキシ樹脂組成物の成形性
と電気特性を従来のエポキシ樹脂と同等かまたはそれ以
上にするために用いるものである。
Furthermore, the novolac type phenolic resin used in combination with the resol type phenolic resin is used to make the moldability and electrical properties of the epoxy resin composition equal to or higher than those of conventional epoxy resins.

本発明に用いるレゾール型フェノール系I II?とし
ては、フェノール、クレゾール、キシレノール、ビスフ
ェノールΔ等のフェノール類とホルムアルデヒドを触媒
の存在下で反応することにより得られる縮合生成物が用
いられる。これらの合成に使用できる触媒としては、ア
ンモニア、ヘキサミン、アミン類、アルカリ金属の酸化
物または水酸化物、有機金属塩もしくはこれら2 M1
以上を併用することができる。
Resol type phenol type I II? used in the present invention? As such, a condensation product obtained by reacting a phenol such as phenol, cresol, xylenol, or bisphenol Δ with formaldehyde in the presence of a catalyst is used. Catalysts that can be used for these synthesis include ammonia, hexamine, amines, alkali metal oxides or hydroxides, organic metal salts, or these 2M1
The above can be used together.

上記の樹脂の中で、半導体封止用としては特に、イオン
不純物が少なく、しかも120℃熱水で容易に樹脂硬化
物が加水分解してイオン性不純物を出さないものが有用
である。基本的には下記−数式(I)tたは(1)で示
される化学411青造を有するものが好ましいが、レゾ
ール型フェノール系樹脂製造に際しては未反応の原料を
少なくするために反応時間を長くし、樹脂の硬化性や流
動性との関係から分子量は400以上〜:3.000以
下と適度に大きくすることが望ましい。
Among the above-mentioned resins, those that contain few ionic impurities and do not easily hydrolyze in 120° C. hot water and do not emit ionic impurities are particularly useful for semiconductor encapsulation. Basically, it is preferable to have a chemistry 411 blue structure represented by the following formula (I)t or (1), but when producing resol type phenolic resin, the reaction time is It is desirable that the molecular weight is appropriately large, from 400 to 3.000, in view of the curability and fluidity of the resin.

l(11(+ のいずれかの基を意味し、それぞれ同じであっても異な
っても良い、mとnは1以上の整数を意味する。) また、未反応の原料やイオン性不純物を除去するため、
反応生成物は酸で中和後、水洗、或いは水蒸気蒸留し減
圧乾燥等を充分に行ったり、必要に応じてイオン交換樹
脂、イオン交換体等を用いてfIi製する。
l (11 (+ means any group, which may be the same or different, m and n are integers of 1 or more.) Also, unreacted raw materials and ionic impurities are removed. In order to
After neutralizing the reaction product with an acid, it is washed with water or subjected to steam distillation, dried under reduced pressure, etc., or, if necessary, is manufactured into fIi using an ion exchange resin, an ion exchanger, or the like.

本発明に用いるノボラック型フェノール系樹脂はフェノ
ール、クレゾール、キシレノール等のフェノール類とホ
ルムアルデヒドとをパラトルエンスルホン酸、塩酸、硫
酸、過塩累酸、しゅう酸等の酸性触媒下で反応すること
により得られる縮合生成物が用いられ、基本的には一般
式(Ill)で示される化学構造を有するものである。
The novolac type phenolic resin used in the present invention is obtained by reacting phenols such as phenol, cresol, and xylenol with formaldehyde under an acidic catalyst such as paratoluenesulfonic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, persalt acid, and oxalic acid. A condensation product is used, which basically has a chemical structure represented by the general formula (Ill).

3 (ここでR3はI−1,−CI+3のいずれかの基を意
味し、またnは1以上の整数を意味する。)得られるノ
ボラック型フェノール系樹脂の分子量を調整する方法は
、前記フェノール類とホルムアルデヒドのモル比及び使
用する触媒種と量により、コントロールが可能であるが
、樹脂の硬化性や流動性の点から分子量は400〜3.
000が望ましい。また、半導体封止用として用いるた
めにはイオン性不純物または未反応の原料が極力少ない
ものが好ましく、そのために反応生成物を水洗、或いは
水蒸気蒸留し減圧乾燥等を充分に行ったり、必要に応じ
てイオン交換樹脂、イオン交換体等を用いて精製するこ
とも可能である。
3 (Here, R3 means either group I-1 or -CI+3, and n means an integer of 1 or more.) The method for adjusting the molecular weight of the obtained novolac type phenolic resin is to Although the molecular weight can be controlled by changing the molar ratio of formaldehyde to formaldehyde and the type and amount of catalyst used, the molecular weight should be 400-3.
000 is desirable. In addition, in order to use it for semiconductor encapsulation, it is preferable to use a product with as little ionic impurities or unreacted raw materials as possible, and for this purpose, the reaction product should be thoroughly washed with water or steam distilled and dried under reduced pressure, or as necessary. It is also possible to purify using an ion exchange resin, an ion exchanger, etc.

本発明において、エポキシ樹脂硬化剤の配合割合として
は、硬化剤全量に対するノボラック型フェノール系樹脂
が5〜95重量%、レゾール型フェノール系樹脂が5〜
95重量%であることが好ましい。ノボラック型フェノ
ール系樹脂が5重量%以下となると、硬化剤としてのレ
ゾール型フェノール系樹脂が95重量%以上となり、樹
脂組成物の硬化反応時に生成する縮合副生物である水や
ホルムアルデヒドが硬化物物性に大きな影響、を与える
ことになる。例えば、硬化物内部や界面に微小ボイドが
形成され易くなったり、硬化物が脆くなり、また接着性
や耐湿性に低下が生じる。
In the present invention, the blending ratio of the epoxy resin curing agent is 5 to 95% by weight of novolak type phenolic resin and 5 to 95% by weight of resol type phenolic resin based on the total amount of curing agent.
Preferably it is 95% by weight. When the novolak type phenolic resin is 5% by weight or less, the resol type phenolic resin as a curing agent is 95% by weight or more, and water and formaldehyde, which are condensation by-products generated during the curing reaction of the resin composition, affect the physical properties of the cured product. It will have a big impact on. For example, microvoids are likely to be formed inside or at the interface of the cured product, the cured product becomes brittle, and adhesiveness and moisture resistance are reduced.

一方、ノボラック型フェノール系樹脂が95重量%以上
、レゾール型フェノール系樹脂が5重量%以下では、樹
脂硬化物の耐熱性や高温の機械強度の向上にはほとんど
効果がなく、また難燃性向上に対するレゾール型フェノ
ール系樹脂の寄与も期待できない。
On the other hand, if the novolac-type phenolic resin is 95% by weight or more and the resol-type phenolic resin is 5% by weight or less, there is little effect on improving the heat resistance and high-temperature mechanical strength of the cured resin, and there is also no improvement in flame retardancy. The contribution of resol-type phenolic resins to this cannot be expected either.

本発明に用いるエポキシ樹脂としては1分子内に2ヶ以
上のエポキシ基を含むエポキシ樹脂全般を意味するもの
であり、例えばビスフェノールAやフェノールノボラッ
ク樹脂とエビクロロヒドリンを反応させて得られるビス
フェノール系エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂
、またはそれらの臭素化エポキシ樹脂、シクロヘキセン
、シクロペンタジェン、ジシクロペンタジェンのような
脂環式化合物から得られるエポキシ樹脂、ビニルポリマ
ーから得られるエポキシ樹脂、グリゼ、リンのような多
価アルコールから得られるエポキシ樹脂またはそれらの
臭素化エポキシ樹脂などがあり、これらの少なくとも1
種が用いられる。ここで、臭素化エポキシ樹脂は難燃性
を付与するために用いられるが、その量はUV規規定−
0を満足していれば、少ない程、良い。また、これらの
エポキシ樹脂についても未反応の原料やイオン性不純物
が充分除去されたものでなければならない。これらエポ
キシ樹脂に対するノボラック型、レゾール型フェノール
系樹脂からなる硬化剤は0.5〜1.5当量配合するの
が好ましく、配合量としてはそれぞれエポキシ樹脂50
〜90重量%、硬化剤10〜50重量%であることが望
ましい。エボ;1−シ樹脂が50重量%以下になると、
樹脂硬化後もフェノール樹脂が有する水酸基が多量に残
るために電気特性並びに耐湿性が劣る。一方、エポキシ
樹1指の配合量が90重量%以上になると、逆にエポキ
シ樹脂の硬化が完全に行われないため、硬化物の耐熱性
および電気特性が劣る結果となる。さらに、これらエポ
キシ樹脂及びその硬化剤からなる組成物は半導体用とし
て用いるために、イオン不純物が充分除去されたもので
なければならず、樹脂成分を10倍量の120℃熱水で
100時間以上抽出した場合に、抽出液の電気伝導度が
100 μs/am2以下、g】11が3〜7、ハロゲ
ンイオン量が20 ppm以下であれば本発明の目的は
充分達成できる。
The epoxy resin used in the present invention refers to all epoxy resins containing two or more epoxy groups in one molecule, such as bisphenol-based resins obtained by reacting bisphenol A or phenol novolak resin with shrimp chlorohydrin. Epoxy resins, novolak-type epoxy resins, or their brominated epoxy resins, epoxy resins obtained from alicyclic compounds such as cyclohexene, cyclopentadiene, and dicyclopentadiene, epoxy resins obtained from vinyl polymers, glyze, phosphorus, etc. These include epoxy resins obtained from polyhydric alcohols such as
Seeds are used. Here, the brominated epoxy resin is used to impart flame retardancy, but the amount is determined according to the UV regulations.
As long as it satisfies 0, the less the better. Furthermore, these epoxy resins must be sufficiently free of unreacted raw materials and ionic impurities. It is preferable to mix 0.5 to 1.5 equivalents of the curing agent made of novolak type or resol type phenolic resin to these epoxy resins, and the amount of each is 50% of the epoxy resin.
It is desirable that the curing agent be 10 to 50% by weight. Evo; 1-When the resin is less than 50% by weight,
Even after the resin is cured, a large amount of hydroxyl groups possessed by the phenol resin remain, resulting in poor electrical properties and moisture resistance. On the other hand, if the amount of epoxy resin added exceeds 90% by weight, the epoxy resin will not be completely cured, resulting in poor heat resistance and electrical properties of the cured product. Furthermore, in order to use these epoxy resins and their curing agents for semiconductor applications, ionic impurities must be sufficiently removed. When extracted, the object of the present invention can be fully achieved if the electric conductivity of the extract is 100 μs/am2 or less, g]11 is 3 to 7, and the amount of halogen ions is 20 ppm or less.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じて、組成
物全体に対して55〜80容量%の無機充填剤を配合す
る。無機充填剤は硬化物の熱膨張係数や熱伝導率、弾性
率等の改良を目的に添加するものであり、この配合量が
55容量%未満ではこれらの特性の改良を充分に行えず
、また、80容量%を超えて配合した場合には材料の粘
度が著しく上昇し流動性が低下してしまうためである。
The epoxy resin composition of the present invention contains an inorganic filler in an amount of 55 to 80% by volume based on the total composition, if necessary. Inorganic fillers are added for the purpose of improving the coefficient of thermal expansion, thermal conductivity, modulus of elasticity, etc. of the cured product, and if the amount added is less than 55% by volume, these properties cannot be sufficiently improved. This is because if the content exceeds 80% by volume, the viscosity of the material will increase significantly and the fluidity will decrease.

無機充填剤としては種々の化合物が挙げられるが、電子
部品材料には熱化学的に安定な充填剤を用いることが重
要であり、具体的には溶融シリカ、結晶性シリカ、アル
ミナから選ばれる少なくともIMIの無機粒子が望まし
い。なお、これらの充填剤の平均粒径は1〜30μmの
範囲が望ましい。これは平均粒径がlA1m未満である
と樹脂組成物の粘度かに、 Rし流動性が著しく低下す
るためであり、また、30μmを超えると成形時に樹脂
成分と充填剤の分離が起きやすく硬化物が不均一になり
硬化物物性にばらつきが生じたり、狭い隙間への充填性
が悪くなるためである。
Various compounds can be used as inorganic fillers, but it is important to use thermochemically stable fillers for electronic component materials. IMI inorganic particles are preferred. Note that the average particle size of these fillers is preferably in the range of 1 to 30 μm. This is because if the average particle size is less than lA1m, the viscosity of the resin composition will increase and the fluidity will drop significantly, and if it exceeds 30μm, the resin component and filler will likely separate during molding and harden. This is because the product becomes non-uniform, resulting in variations in the physical properties of the cured product, and the ability to fill narrow gaps becomes poor.

さらに、本発明の組成物にはこの他必要に応じて、硬化
物の強じん化や低弾性率化のための可とう化剤を用いる
ことができる。可とう化剤の配合量は全樹脂組成物に対
し2〜20重量%であることが好ましい。これは可とう
化剤の配合量が2重量%以下では硬化物の強じん化や低
弾性率化に対してほとんど効果が無く、20重量%以上
では、スパイラルフローが極端に短かくなったり、可と
う化剤が樹脂硬化物表面に浮き出てくることによって、
成形用金型の汚れが顕著になってしまうためである。可
とう化剤としてはエポキシ樹脂組成物と非相溶型のもの
がガラス転移温度を下げずに1α化物の低弾性率化をで
きることから、ブタジェン・アクリロニトリル共重合体
やそれらの末端または側鎮丁ミノ基、カルボキシル基変
性共重合体やアクリロニトリル・ブタジェン・スチレン
共重合体等のブタジェン糸回とう化剤や末端または側鎖
アミン基、水酸基、エポキシ基、カルボキシル基、変性
シリコーン樹脂系可とう化剤等が用いられるが、耐水性
や高純度の点から、シリコーン糸回どう化剤が特に有用
である。
Furthermore, in the composition of the present invention, a flexibilizing agent may be used to strengthen the cured product and lower the modulus of elasticity, if necessary. The amount of the softening agent blended is preferably 2 to 20% by weight based on the total resin composition. This is because if the blending amount of the softening agent is less than 2% by weight, it will have almost no effect on toughening the cured product or lowering the elastic modulus, and if it is more than 20% by weight, the spiral flow will become extremely short. As the softening agent rises to the surface of the cured resin,
This is because the mold becomes noticeably dirty. As a plasticizing agent, one that is incompatible with the epoxy resin composition can lower the elastic modulus of the 1α compound without lowering the glass transition temperature. Butadiene yarn stiffening agents such as mino- and carboxyl-modified copolymers and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers, terminal or side chain amine groups, hydroxyl groups, epoxy groups, carboxyl groups, and modified silicone resin-based softening agents Silicone thread-threading agents are particularly useful from the viewpoint of water resistance and high purity.

本発明の組成物にはこの他必要に応じて、樹脂の硬化反
応を促進するだめの硬化触媒、樹脂成分と充填剤の接着
性を高めるためのカップリング剤、着色のために染料や
顔料、硬化物の金型からの離形性を改良するための離形
剤等の各種添加剤を発明の目的を損なわない範囲におい
て用いることができる。硬化触媒としてはトリフェニル
ホスフィン、テトラフェニルホスニウムテトラフェニル
ボレート等の含りん有機塩基性化合物まtこはこれらの
テトラ置換ボロン塩、ベンジルジメチルアミン等の3級
アミン、1.8−ジアザビシクロ (5,4,0)−ウ
ンデセン、イミダゾール等の少なくとも1種を、さらに
カップリング剤としてはエポキシシラン、アミノシ、ラ
ン等の少なくとも1種類を用いるのが好ましい。
In addition, the composition of the present invention may optionally contain a curing catalyst to accelerate the curing reaction of the resin, a coupling agent to improve the adhesion between the resin component and the filler, and a dye or pigment for coloring. Various additives such as a mold release agent for improving the mold releasability of the cured product from the mold can be used within the range that does not impair the purpose of the invention. As curing catalysts, phosphorus-containing organic basic compounds such as triphenylphosphine and tetraphenylphosium tetraphenylborate, tetra-substituted boron salts thereof, tertiary amines such as benzyldimethylamine, and 1,8-diazabicyclo (5 , 4,0)-undecene, imidazole, etc., and at least one coupling agent such as epoxysilane, aminosilane, oran, etc. is preferably used.

充填剤や可とう化剤やこれらの各添加剤は樹脂成分と同
様にイオン性不純物を多量に含むと製品の各種信頼性を
著しく低下させる。そのため、これらの各添加剤につい
ても10倍量の120℃熱水で10(1時間以上の抽出
を行った場合、抽出液の電気伝導度が100μs/cm
以下、pl+が3〜7、ハロゲンイオン抽出量が201
]I’lll以下であることが必要である。
If fillers, flexibilizers, and their respective additives contain large amounts of ionic impurities, like resin components, they will significantly reduce the reliability of various products. Therefore, for each of these additives, the electrical conductivity of the extract is 100 μs/cm when extracted with 10 times the amount of 120°C hot water (1 hour or more).
Below, pl+ is 3 to 7, halogen ion extraction amount is 201
]I'llll or less.

〔作 用〕[For production]

本発明のエポキシ樹脂組成物の耐熱性や高温の機械強度
が、これまでの成形用樹脂に比べて優れているのは、エ
ポキシ樹脂硬化剤の一部に、自らも硬化するレゾール型
フェノール系樹脂を用いているため、であり、さらにこ
の樹脂は難燃性向上に対しても大きな役割を果している
。また、硬化剤として併用するノボラック型フェノール
系樹脂は、エポキシ樹脂の硬化を完全に行わせるために
用いられるものであり、ノボラック型フェノール系樹脂
による樹脂硬化物の接着性、耐湿性の低下を防ぐように
作用する。
The heat resistance and high-temperature mechanical strength of the epoxy resin composition of the present invention are superior to conventional molding resins because part of the epoxy resin curing agent is a resol-type phenolic resin that hardens itself. Furthermore, this resin also plays a major role in improving flame retardancy. In addition, the novolac type phenolic resin used together as a curing agent is used to completely cure the epoxy resin, and prevents the novolac type phenolic resin from reducing the adhesiveness and moisture resistance of the cured resin. It works like this.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例に従がい具体的に説明するが、本
発明はこれらに限定されない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained according to Examples, but the present invention is not limited thereto.

製造例1 〔レゾール型フェノール樹脂の合成1〕51のフラスコ
にフェノール500g、30%のホルマリン550g並
びに酢酸亜鉛5gを加え、攪拌しながら徐々に加熱し、
還流しながら90℃で2時間加熱した。その後、フラス
コ内を20 mm11gに減圧し、縮合水並びに未反応
j&分を除去した。つぎに、この反応生成物に300g
のアセトンを加えて反応化成物を溶解し、さらにイオン
交換水31を加え50℃で30分間激しく攪拌した。冷
却後上部の水層を除去し、再び反応生成物を300gの
アセトンに溶解しこの溶液にイオン交換水31を加え5
0℃で30分間激しく攪拌し、冷却後上部の水層を除去
した。この操作を5回繰り返した後、反応生成物を減圧
しながら40℃で48h乾煙し目的とするレゾール型フ
ェノール樹脂(A)を得た。
Production Example 1 [Synthesis of resol type phenolic resin 1] 500 g of phenol, 550 g of 30% formalin, and 5 g of zinc acetate were added to a flask No. 51, and gradually heated while stirring.
The mixture was heated at 90° C. for 2 hours under reflux. Thereafter, the pressure inside the flask was reduced to 20 mm and 11 g to remove condensed water and unreacted water. Next, add 300g of this reaction product to
of acetone was added to dissolve the reaction compound, and further ion-exchanged water 31 was added and vigorously stirred at 50° C. for 30 minutes. After cooling, the upper aqueous layer was removed, and the reaction product was dissolved again in 300 g of acetone, and ion-exchanged water 31 was added to this solution.
The mixture was vigorously stirred at 0° C. for 30 minutes, and after cooling, the upper aqueous layer was removed. After repeating this operation five times, the reaction product was dried and smoked at 40° C. for 48 hours under reduced pressure to obtain the desired resol type phenol resin (A).

こうして得られたレゾール型フェノール樹脂(A>の数
平均分子量は710、軟化温度は75℃、フリーフェノ
ール含有量は0.3重量%、180℃のゲル化時間(J
 I S−に−5り0!l、熱板法による)は45秒で
あった。また、レゾール型フェノール樹脂5gにイオン
交換水50gを加え120℃で120時間加熱し抽出液
の特性を調べた結果、抽出液のpHは3.8、電気伝導
度は55μs/ にm、イオン性不純物CIイオンが2
.51111m、口rイオン、N11.イオンがipp
m以下であった。
The number average molecular weight of the resol type phenolic resin (A>) thus obtained was 710, the softening temperature was 75°C, the free phenol content was 0.3% by weight, and the gelation time at 180°C (J
I S-ni-5ri0! 1, by hot plate method) was 45 seconds. In addition, we added 50 g of ion-exchanged water to 5 g of resol-type phenolic resin, heated it at 120°C for 120 hours, and investigated the characteristics of the extract. As a result, the pH of the extract was 3.8, the electrical conductivity was 55 μs/m, and the ionicity of the extract was 3.8. Impurity CI ion is 2
.. 51111m, mouth r ion, N11. ion is ipp
m or less.

製造例2 〔レゾール型フェノール樹脂の合成2〕52のフラスコ
にビスフェノールへ570g1ホルムアルデヒ7ド75
g1バラホルムアルデヒド800g並びに水酸化ナトリ
ウム水溶液IOgを加え、攪拌しながら徐々に加熱し、
還流しながら90℃で4時間加熱した。イオン交換水3
1を加えて反応を停止し、酢酸で中和した後、有機均分
と水を分離させた。この有機物をアセトン150gに溶
解しこの溶液にイオン交換水0.71を加え50℃で3
0分間激しく攪拌し、冷却後上部の水層を除去した。こ
の操作を5回繰り返した後、反応生成物を減圧しなから
4()℃で24h乾燥し目的とするレゾール型フェノー
ル樹脂(B)を得た。
Production Example 2 [Synthesis of resol type phenolic resin 2] 570 g of bisphenol in 52 flasks 1 75 formaldehyde
g1 800g of formaldehyde and IOg of sodium hydroxide aqueous solution were added and gradually heated while stirring,
The mixture was heated at 90° C. for 4 hours under reflux. Ion exchange water 3
1 was added to stop the reaction, and after neutralization with acetic acid, the organic fraction and water were separated. This organic substance was dissolved in 150 g of acetone, and 0.71 g of ion-exchanged water was added to this solution, and the mixture was heated at 50°C for 30 min.
After stirring vigorously for 0 minutes and cooling, the upper aqueous layer was removed. After repeating this operation five times, the reaction product was dried at 4()° C. for 24 hours without reducing the pressure to obtain the desired resol type phenol resin (B).

こうして得られたレゾール型フェノール樹脂(B)の数
平均分子量は680、軟化温度は78℃、フリービスフ
ェノールA含有量は約7重量%、180℃のゲル化時間
は25秒であった。
The resol type phenolic resin (B) thus obtained had a number average molecular weight of 680, a softening temperature of 78°C, a free bisphenol A content of about 7% by weight, and a gelation time at 180°C of 25 seconds.

また、このレゾール型フェノール樹脂の抽出液特性を製
造例1と同様の方法で行った結果、抽出液のfll+は
4.5、電気伝導度は25μs/cm。
Further, the properties of the extract of this resol type phenol resin were determined in the same manner as in Production Example 1, and the result was that the extract had flI+ of 4.5 and electrical conductivity of 25 μs/cm.

イオン性不純物C1イオンが2.8 ppm 、口rイ
オン、N114イオンが1 ppm以下であった。
The ionic impurity C1 ion was 2.8 ppm, and the amount of ions and N114 ions was 1 ppm or less.

〔実施例1〜12] 樹脂成分として0−タレゾールノボラック型エポキシ樹
脂(エポキシ当量195、軟化温度75〜80℃)、臭
累化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当ff
1394、軟化温度65℃)、硬化剤としてノボラック
型フェノール樹脂(水酸基当量106、軟化温度65℃
)および製造例1または製造例2で得られた精製後のレ
ゾール型フェノール樹脂、可とう化剤として側鎖エポキ
シ変性シリコーン樹脂(分子量73、(ioo、エポキ
シ当量3.900)、硬化触媒として第1表に示す各種
化合物、充填剤として平均粒径6μmの角形の溶融シリ
カと平均粒径30μmの球形の溶融シリカの30/70
混合品、難燃化助剤として三酸化アンチモン粉末、カッ
プリング剤としてエポキシシラン、離型剤としてモンタ
ン酸エステルロウ、着色剤としてカーボンブラックを用
い、第1表に示す配合割合で成形材料を作製した。各素
材の混練には、直径20インチ、の二軸ロールを用い、
U−ル表面温度約65〜80℃で約10分間の混練を行
った。
[Examples 1 to 12] As resin components, 0-talesol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent weight 195, softening temperature 75 to 80°C), odor-accumulating bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent ff
1394, softening temperature 65°C), novolak type phenolic resin as curing agent (hydroxyl equivalent: 106, softening temperature 65°C)
) and the purified resol-type phenolic resin obtained in Production Example 1 or Production Example 2, a side chain epoxy-modified silicone resin (molecular weight 73, (ioo, epoxy equivalent weight 3.900) as a softening agent, Various compounds shown in Table 1, as fillers, 30/70 of prismatic fused silica with an average particle size of 6 μm and spherical fused silica with an average particle size of 30 μm
Using a mixed product, antimony trioxide powder as a flame retardant aid, epoxy silane as a coupling agent, montanic acid ester wax as a mold release agent, and carbon black as a coloring agent, a molding material was prepared at the mixing ratio shown in Table 1. did. For kneading each material, a twin-screw roll with a diameter of 20 inches is used.
Kneading was carried out for about 10 minutes at a U-ru surface temperature of about 65 to 80°C.

〔比較例1〜9〕 比較例1では、エポキシ樹脂として多量のイオン不純物
を含む0−タレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポ
キシ当量210、軟化温度73℃、120℃/20時間
の抽出液特性においてpHが4.0、電気伝導度が10
5 us/cm。
[Comparative Examples 1 to 9] In Comparative Example 1, an 0-talesol novolac type epoxy resin containing a large amount of ionic impurities was used as an epoxy resin (epoxy equivalent: 210, softening temperature: 73°C, pH in extract liquid characteristics at 120°C/20 hours). is 4.0, electrical conductivity is 10
5 us/cm.

イオン性不純物CIイオンが42 ppm 、口rイオ
ンが25 ppm )を用い、他の成分は前記実施例と
同じ素材によって第1表に示す配合割合で前記と同様に
して成形材料を作製した。比較例2から9までは、前記
実施例と同じ素材を用い、同様の条件で成形材料を作製
した。
A molding material was prepared in the same manner as above using the ionic impurities (CI ions at 42 ppm and R ions at 25 ppm), using the same materials as the other components as in the previous example, and using the compounding ratios shown in Table 1. In Comparative Examples 2 to 9, molding materials were produced using the same materials and under the same conditions as in the Examples.

〔実施例13〜16) 樹脂成分から可とう化剤を除くほかは、前記実施例と同
じ素材を用い、第2表に示す配合割合で成形材料を作製
した。
[Examples 13 to 16] Molding materials were prepared using the same materials as in the above Examples, except that the plasticizing agent was removed from the resin component, and with the blending ratios shown in Table 2.

〔比較例10〜12) 比較例1Oは、比較例1と同様の0−・クレゾール型エ
ポキシ樹脂を用いた。他の比較例については前記実施例
と同じ素材を用い、第2表に示す配合割合で前記と同様
にして計3柚類の成形材料を作製した。
[Comparative Examples 10 to 12] In Comparative Example 1O, the same 0-cresol type epoxy resin as in Comparative Example 1 was used. For other comparative examples, a total of three yuzu molding materials were prepared in the same manner as above using the same materials as in the above-mentioned examples and at the compounding ratios shown in Table 2.

こうして得られた各成形材料の180℃における成形性
と、金型温度180t、成形圧カフkg/cm2、成形
時間90秒で成形した後、180℃で6時間の後硬化を
行った成形品の諸物性並びに成形品を、100 Mqs
l+以下に粉砕し、各粉末5gに50gのイオン交換水
をを加え、120℃で120時間加熱し、その後の水の
pH、電気伝導度並びに抽出されたイオン不純物を比較
した。これらの結果を、第1表および第2表にまとめて
示す。なお、第1表右よび第2表における配合割合はす
べて重量部で表わしである。また、表中に記号で示した
硬化触媒はDL3U:1゜8−ジアザビシクロ(5,4
,0”)−ウンデセン、TPP−に:テトラフェニルホ
スホニウムデトラフェニルボレート、2 P 4 M 
I−I Z : 2−フェニル−4−メチル−5−ヒド
ロキシメチルイミダゾール、2P4BH2:2−7エニ
ルー4−ベンジル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール
である。
The moldability of each of the molding materials obtained in this way at 180°C and the molded products molded at a mold temperature of 180 t, molding pressure cuff kg/cm2, and molding time of 90 seconds, and then post-cured at 180°C for 6 hours. Various physical properties and molded products, 100 Mqs
50 g of ion-exchanged water was added to 5 g of each powder, heated at 120° C. for 120 hours, and the pH, electrical conductivity, and extracted ionic impurities of the subsequent water were compared. These results are summarized in Tables 1 and 2. All compounding ratios in Table 1 right and Table 2 are expressed in parts by weight. In addition, the curing catalyst indicated by the symbol in the table is DL3U: 1°8-diazabicyclo(5,4
,0'')-undecene, TPP-: tetraphenylphosphonium detraphenylborate, 2P4M
I-IZ: 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2P4BH2:2-7enyl-4-benzyl-5-hydroxymethylimidazole.

第1表から明らかなように本発明の樹脂組成物は硬化剤
としてノボラック型フェノール樹脂とレゾール型フェノ
ール樹脂を併用することによって、樹脂硬化物の電気特
性、接着性を従来のエポキシ樹脂成形材料とほぼ同等に
保ちつつ、しかも耐熱性並びに高温の機械強度の向上を
図っているがことが分かる。さらに、実施例2と比較例
4を比較した場合、レゾール型フェノール樹脂の配合に
より臭素化エポキシ樹脂の同じ配合量で難燃性が向上し
ている。また、成形性についても、一般に用いられてい
るエポキシ樹脂系の成形材料と同様な条件で成形が可能
である。本発明の可とう北側を含む樹脂組成物において
、可とう北側の配合量が2重量%以下では樹脂の低弾性
率化に対してほとんど効果が無く、20重量%以上では
金型汚れとスパイラルフローの低下が著しくなる。一方
、第2表から明らかなように、本発明の可とう北側を含
まない樹脂組成物は樹脂の弾性率が若干高くなるものの
、他の特性については第1表とほぼ同様な特性を示して
いることが分かる。
As is clear from Table 1, the resin composition of the present invention uses a novolac type phenolic resin and a resol type phenolic resin together as a curing agent, so that the electrical properties and adhesive properties of the cured resin are superior to those of conventional epoxy resin molding materials. It can be seen that the heat resistance and high-temperature mechanical strength are improved while maintaining the same properties. Furthermore, when Example 2 and Comparative Example 4 are compared, the flame retardance is improved by blending the resol type phenol resin with the same blending amount of the brominated epoxy resin. In addition, regarding moldability, it is possible to mold under the same conditions as those for commonly used epoxy resin molding materials. In the resin composition containing the flexible north side of the present invention, if the amount of the flexible north side is less than 2% by weight, it will have little effect on lowering the elastic modulus of the resin, and if it is more than 20% by weight, it will cause mold stains and spiral flow. The decrease becomes significant. On the other hand, as is clear from Table 2, although the resin composition of the present invention that does not include the flexible north side has a slightly higher resin modulus, other properties show almost the same properties as in Table 1. I know that there is.

次に、上記成形材料の一部を用いて、表面にアルミニウ
ムのジグザグ配線を形成したシリコンチップを銅系のリ
ードフレームに搭載し、更にチップ表面にアルミニウム
電極とリードフレーム間を金線(φ30μm)でワイヤ
ボンディングした半導体装置を封止し各種信頼性試験を
行った。その結果を第3表と第4表に示した。
Next, using part of the above molding material, a silicon chip with aluminum zigzag wiring formed on the surface is mounted on a copper lead frame, and a gold wire (φ30 μm) is further connected between the aluminum electrode and the lead frame on the chip surface. The wire-bonded semiconductor devices were sealed and various reliability tests were conducted. The results are shown in Tables 3 and 4.

第3表と第4表から明らかなように、本発明の封止品は
比較例と比べると、耐湿信頼性、高温放置特性、リフロ
ー時のパッケージの耐クラツク性が優れていることが分
かる。また、比較例1並びにlOの結果から明らかなよ
うに、成形材料の純度が悪い場合にはパッケージの各種
信頼性が大幅に低下することが分かる。そのため、成形
材料の純度がパッケージの信頼性に対して非常に重要な
因子となる。
As is clear from Tables 3 and 4, the sealed products of the present invention are superior in moisture resistance reliability, high temperature storage characteristics, and package crack resistance during reflow, compared to the comparative examples. Furthermore, as is clear from Comparative Example 1 and the IO results, it can be seen that when the purity of the molding material is poor, various reliability of the package is significantly reduced. Therefore, the purity of the molding material is a very important factor for the reliability of the package.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明のノボラック型フェノール樹脂とレゾール型フェ
ノール樹脂を併用した硬化剤を用いたエポキシ樹脂組成
物による成形材料は成形性が従来のエポキシ樹脂と同様
に良好であり、また、この成形材料で封止した半導体装
置は耐湿信頼性、高温放置特性、耐リフロー性などの各
種信頼性が優れている。従って、本発明によって電子電
気機器用の封止材料ばかりでなく、高耐熱性や良好な接
首性を要求する電子電気機器用の接着剤あるいは絶縁材
料等としても有用なエポキシ、樹脂組成物を提供できる
ことが明らかである。
A molding material made of an epoxy resin composition using a curing agent that combines a novolac type phenolic resin and a resol type phenolic resin of the present invention has good moldability similar to conventional epoxy resins, and can be sealed with this molding material. The developed semiconductor device has excellent reliability such as humidity resistance, high temperature storage characteristics, and reflow resistance. Therefore, the present invention provides epoxy and resin compositions that are useful not only as sealing materials for electronic and electrical equipment, but also as adhesives and insulating materials for electronic and electrical equipment that require high heat resistance and good neck attachment. It is clear that it can be provided.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、(a)2官能以上のエポキシ樹脂組成物、(b)ノ
ボラック型フェノール系樹脂とレゾール型フェノール系
樹脂を併用したエポキシ 樹脂硬化剤、 (c)可とう化剤、 からなることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 2、可とう化剤の配合量が、全樹脂組成物に対し2〜2
0重量%である請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。 3、可とう化剤が、シリコーン化合物である請求項1又
は2記載のエポキシ樹脂組成物。 4、請求項1記載のエポキシ樹脂組成物が、10倍量の
120℃の熱水で100時間以上加熱した場合に、該抽
出液の電気伝導度が100μs/cm以下、pHが3〜
7、ハロゲンイオン量が20ppm以下であることを特
徴とするエポキシ樹脂組成物。 5、樹脂成分が2官能以上のエポキシ樹脂50〜90重
量%、ノボラック型フェノール系樹脂とレゾール型フェ
ノール系樹脂を併用したエポキシ樹脂硬化剤10〜50
重量%であり、かつ10倍量の120℃の熱水で100
時間以上加熱抽出した場合に、該抽出液の電気伝導度が
100μs/cm以下、pHが3〜7、ハロゲンイオン
量が20ppm以下であることを特徴とするエポキシ樹
脂組成物。 6、請求項5記載において、無機質微粒子からなる充て
ん剤が全組成物に対し55〜80容 量%含有すること
を特徴とするエポキシ樹脂組成物。 7、請求項6記載において、充てん剤が平均粒径1〜3
0の溶融シリカ、結晶性シリカ 及びアルミナから選ばれる少なくとも1種の無機質粒子
であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 8、請求項1〜7のいずれか1項記載のエポキシ樹脂組
成物によって封止されていることを特徴とする樹脂封止
型電子装置。 9、請求項8記載において、エポキシ樹脂組成物によっ
てトランスファモールドされていることを特徴とする樹
脂封止型電子装置。 10、請求項1〜7のいずれか1項記載のエポキシ樹脂
組成物によって封止されていることを特徴とする樹脂封
止型半導体装置。
[Claims] 1. (a) an epoxy resin composition having two or more functionalities, (b) an epoxy resin curing agent using a combination of a novolak type phenolic resin and a resol type phenolic resin, (c) a flexibilizing agent, An epoxy resin composition comprising: 2. The blending amount of the softening agent is 2 to 2 with respect to the total resin composition.
The epoxy resin composition according to claim 1, which has a content of 0% by weight. 3. The epoxy resin composition according to claim 1 or 2, wherein the softening agent is a silicone compound. 4. When the epoxy resin composition according to claim 1 is heated with 10 times the amount of hot water at 120°C for 100 hours or more, the electric conductivity of the extract is 100 μs/cm or less, and the pH is 3 to 3.
7. An epoxy resin composition characterized in that the amount of halogen ions is 20 ppm or less. 5. Epoxy resin curing agent containing 50 to 90% by weight of an epoxy resin whose resin component is bifunctional or higher, and a combination of novolac type phenolic resin and resol type phenolic resin 10 to 50%
% by weight, and 100% with 10 times the amount of hot water at 120°C.
An epoxy resin composition characterized in that the electric conductivity of the extract is 100 μs/cm or less, the pH is 3 to 7, and the amount of halogen ions is 20 ppm or less when extracted by heating for a period of time or more. 6. The epoxy resin composition according to claim 5, wherein the filler made of inorganic fine particles is contained in an amount of 55 to 80% by volume based on the total composition. 7. In claim 6, the filler has an average particle size of 1 to 3.
An epoxy resin composition comprising at least one kind of inorganic particle selected from zero fused silica, crystalline silica, and alumina. 8. A resin-sealed electronic device, characterized in that it is sealed with the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 7. 9. The resin-sealed electronic device according to claim 8, wherein the electronic device is transfer molded using an epoxy resin composition. 10. A resin-sealed semiconductor device, characterized in that it is sealed with the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 7.
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