JPH03133983A - 新規なピリドンカルボン酸またはその塩の可溶化法 - Google Patents
新規なピリドンカルボン酸またはその塩の可溶化法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、新規なピリドンカルボン酸またはその塩の可
溶化法に関する。ざらに詳細には、一般式、 「式中、Rは、水素原子を;R2は、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルコキシ基、保護されていてもよいヒドロキ
シル基、保護されていてもよいアミノ基、保護されてい
てもよい低級アルキルアミノ基またはジー低級アルキル
アミノ基を;R3は、水素原子、低級アルキル基、保護
されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい低級
アルキルアミノ基、ジー低級アルキルアミノ基、保護さ
れていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよい
アミン低級アルキル基、保護されていてもよい低級アル
キルアミノ低級アルキル基、ジー低級アルキルアミノ低
級アルキル基および保護されていてもよいヒドロキシ低
級アルキル基から選ばれる1つ以上の基を;R4は、水
素原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、保
護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、低級ア
ルキリデン基およびR4が結合する炭素原子とともにシ
クロアルカン環を形成する基から選ばれる1つ以上の基
を;Xは、ハロゲン原子を:およびAは、酸素原子もし
くは硫黄原子または低級アルキル基で置換されていても
よいイミノ基を示す。」で表わされる新規なピリドンカ
ルボン酸またはその塩に、カルシウム塩を添加すること
を特徴とする新規なピリドンカルボン酸またはその塩の
可溶化法に関する。
溶化法に関する。ざらに詳細には、一般式、 「式中、Rは、水素原子を;R2は、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルコキシ基、保護されていてもよいヒドロキ
シル基、保護されていてもよいアミノ基、保護されてい
てもよい低級アルキルアミノ基またはジー低級アルキル
アミノ基を;R3は、水素原子、低級アルキル基、保護
されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい低級
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れていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよい
アミン低級アルキル基、保護されていてもよい低級アル
キルアミノ低級アルキル基、ジー低級アルキルアミノ低
級アルキル基および保護されていてもよいヒドロキシ低
級アルキル基から選ばれる1つ以上の基を;R4は、水
素原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、保
護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、低級ア
ルキリデン基およびR4が結合する炭素原子とともにシ
クロアルカン環を形成する基から選ばれる1つ以上の基
を;Xは、ハロゲン原子を:およびAは、酸素原子もし
くは硫黄原子または低級アルキル基で置換されていても
よいイミノ基を示す。」で表わされる新規なピリドンカ
ルボン酸またはその塩に、カルシウム塩を添加すること
を特徴とする新規なピリドンカルボン酸またはその塩の
可溶化法に関する。
一般式[I]の化合物およびその塩は、10位に置換さ
れていてもよいシクロプロピル基が結合しているところ
に構造的特徴を有する新規な化合物であり、グラム陰性
菌およびグラム陰性菌、とりわけ抗生物質耐性菌に対し
て強力な抗菌作用を発揮するとともに、経口的または非
経口的投与により高い血中濃度が得られ、かつ安全性が
高いなどの優れた性質を有するものである。本発明は、
上記一般式[I]の化合物またはその塩の可溶化法に関
する。
れていてもよいシクロプロピル基が結合しているところ
に構造的特徴を有する新規な化合物であり、グラム陰性
菌およびグラム陰性菌、とりわけ抗生物質耐性菌に対し
て強力な抗菌作用を発揮するとともに、経口的または非
経口的投与により高い血中濃度が得られ、かつ安全性が
高いなどの優れた性質を有するものである。本発明は、
上記一般式[I]の化合物またはその塩の可溶化法に関
する。
[従来の技術]
従来のピリドンカルボン酸およびその塩の可溶化法とし
て、アルミニウム、マグネシウムまたは亜鉛を構成成分
とする金属化合物を添加する方法が知られている(特開
昭63−188626号)が、カルシウムを構成成分と
する金属化合物を添加する方法は知られていない。
て、アルミニウム、マグネシウムまたは亜鉛を構成成分
とする金属化合物を添加する方法が知られている(特開
昭63−188626号)が、カルシウムを構成成分と
する金属化合物を添加する方法は知られていない。
[発明が解決しようとする課題]
一方、前記した新規な一般式[I]の化合物およびその
塩の生理的条件での溶解度は未だ十分とは言えず、ざら
に溶解度を上げる技術の開発が望まれていた。
塩の生理的条件での溶解度は未だ十分とは言えず、ざら
に溶解度を上げる技術の開発が望まれていた。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、上記の実情に鑑み、一般式[I]の化合
物またはその塩を生理的条件にできるだけ近い状態で可
溶化する技術について研究した結果、本発明を完成する
に至った。
物またはその塩を生理的条件にできるだけ近い状態で可
溶化する技術について研究した結果、本発明を完成する
に至った。
なお、本明細書において特にことわらないかぎり、ハロ
ゲン原子とは、たとえば、フッPI子、塩衆原子、臭素
原子またはヨウ素原子を:アルキル基とは、たとえば、
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル、5ec−ブチル、tert−ブチル
、ペンチル、ヘキシルまたはオクチルなどのC1〜1o
アルキル基を:低級アルキル基とは、たとえば、上記し
たアルキル基のうちCアルキル基を:アルコキシ基とは
、1〜5 たとえば、−〇−アルキル基(アルキル基は、上記した
C アルキル基を示す。)を;低級ア1〜10 ルキルアミノ基とは、たとえば、メチルアミノ、エチル
アミノまたはプロピルアミノなとのCアルキルアミノ基
を;ジー低板アルキル1〜5 アミノ基とは、たとえば、ジメチルアミノなどのジーC
アルキルアミノ基を;アミノ低級ア1〜5 ルキル基とは、たとえば、アミノメチル、アミノエチル
またはアミノエチルなどのアミノ−C1〜5アルキル基
を;低級アルキルアミノ低級アルキル基とは、たとえば
、メチルアミノメチル、メチルアミノエチル、エチルア
ミンメチル、メチルアミノプロピルまたはプロピルアミ
ノエチルなどのCアルキルアミノ−Cアルキル 1〜5 1〜5 基をニジー低級アルキルアミノ低級アルキル基とは、た
とえば、ジメチルアミノメチル、ジエチルアミノメチル
、ジエチルアミノエチルまたはジメチルアミンプロピル
などのジーCアルキル1〜5 アミノ−Cアルキル基を:ヒドロキシ低級1へ5、 アルキル基とは、たとえば、ヒドロキシメチル、ヒドロ
キシエチルまたはヒドロキシプロピルなどのヒドロキシ
−〇 アルキル基を;ハロゲノ1〜5 低級アルキル基とは、たとえば、クロロメチル、ブロモ
メチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、クロロエ
チル、ジクロロエチル、トリクロロエチルまたはクロロ
プロピルなどのハロゲノ−Cアルキル基を;低級アルキ
リデン基とは、1〜5 たとえば、メチレン、エチリデン、プロピリデンまたは
イソプロピリデンなどのCアルキリ1〜5 デン基を;シクロアルカン環とは、たとえば、シクロプ
ロパン、シクロブタン、シクロペンタンまたはシクロヘ
キサンなどのCシクロアルカ3〜6 ン環をそれぞれ意味する。
ゲン原子とは、たとえば、フッPI子、塩衆原子、臭素
原子またはヨウ素原子を:アルキル基とは、たとえば、
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル、5ec−ブチル、tert−ブチル
、ペンチル、ヘキシルまたはオクチルなどのC1〜1o
アルキル基を:低級アルキル基とは、たとえば、上記し
たアルキル基のうちCアルキル基を:アルコキシ基とは
、1〜5 たとえば、−〇−アルキル基(アルキル基は、上記した
C アルキル基を示す。)を;低級ア1〜10 ルキルアミノ基とは、たとえば、メチルアミノ、エチル
アミノまたはプロピルアミノなとのCアルキルアミノ基
を;ジー低板アルキル1〜5 アミノ基とは、たとえば、ジメチルアミノなどのジーC
アルキルアミノ基を;アミノ低級ア1〜5 ルキル基とは、たとえば、アミノメチル、アミノエチル
またはアミノエチルなどのアミノ−C1〜5アルキル基
を;低級アルキルアミノ低級アルキル基とは、たとえば
、メチルアミノメチル、メチルアミノエチル、エチルア
ミンメチル、メチルアミノプロピルまたはプロピルアミ
ノエチルなどのCアルキルアミノ−Cアルキル 1〜5 1〜5 基をニジー低級アルキルアミノ低級アルキル基とは、た
とえば、ジメチルアミノメチル、ジエチルアミノメチル
、ジエチルアミノエチルまたはジメチルアミンプロピル
などのジーCアルキル1〜5 アミノ−Cアルキル基を:ヒドロキシ低級1へ5、 アルキル基とは、たとえば、ヒドロキシメチル、ヒドロ
キシエチルまたはヒドロキシプロピルなどのヒドロキシ
−〇 アルキル基を;ハロゲノ1〜5 低級アルキル基とは、たとえば、クロロメチル、ブロモ
メチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、クロロエ
チル、ジクロロエチル、トリクロロエチルまたはクロロ
プロピルなどのハロゲノ−Cアルキル基を;低級アルキ
リデン基とは、1〜5 たとえば、メチレン、エチリデン、プロピリデンまたは
イソプロピリデンなどのCアルキリ1〜5 デン基を;シクロアルカン環とは、たとえば、シクロプ
ロパン、シクロブタン、シクロペンタンまたはシクロヘ
キサンなどのCシクロアルカ3〜6 ン環をそれぞれ意味する。
以下に、本発明の詳細な説明する。
R3のカルボキシル保護基としては、たとえば、接触還
元、化学的還元もしくはその他の緩和な条件で処理する
ことにより脱離するエステル形成基、または生体内にお
いて容易に脱離するエステル形成基、または水もしくは
アルコールで処理することにより容易に脱離する有機シ
リル基、有機リン基もしくは有機スズ基などの特開昭5
9−80665号に記載された通常のカルボキシル保護
基などが挙げられる。
元、化学的還元もしくはその他の緩和な条件で処理する
ことにより脱離するエステル形成基、または生体内にお
いて容易に脱離するエステル形成基、または水もしくは
アルコールで処理することにより容易に脱離する有機シ
リル基、有機リン基もしくは有機スズ基などの特開昭5
9−80665号に記載された通常のカルボキシル保護
基などが挙げられる。
R2およびR3におけるアミノ基、低級アルキルアミノ
基、アミノ低級アルキル基および低級アルキルアミノ低
級アルキル基の保護基としては、通常当該分野で使用さ
れる保護基が挙げられ、たとえば、ホルミル、アセチル
、ベンジルおよび特開昭59−80665号に記載され
た通常のアミノ保護基などが挙げられる。
基、アミノ低級アルキル基および低級アルキルアミノ低
級アルキル基の保護基としては、通常当該分野で使用さ
れる保護基が挙げられ、たとえば、ホルミル、アセチル
、ベンジルおよび特開昭59−80665号に記載され
た通常のアミノ保護基などが挙げられる。
また、R2、R3およびR4におけるヒドロキシル基お
よびヒドロキシ低級アルキル基の保護基としては、通常
当該分野で使用される保護基が挙げられ、たとえば、水
またはアルコールで処理することにより容易に脱離する
有機シリル基およびホルミル、アセチル、ベンジルなど
の特開昭59−806654に記載された通常のヒドロ
キシル保護基などが挙げられる。
よびヒドロキシ低級アルキル基の保護基としては、通常
当該分野で使用される保護基が挙げられ、たとえば、水
またはアルコールで処理することにより容易に脱離する
有機シリル基およびホルミル、アセチル、ベンジルなど
の特開昭59−806654に記載された通常のヒドロ
キシル保護基などが挙げられる。
一般式[I]の化合物の塩としては、通常知られている
アミノ基などの塩基性基またはヒドロキシルもしくはカ
ルボキシル基などの酸性基における塩を挙げることがで
きる。塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、
臭化水素酸または硫酸などの鉱酸との塩;酒石酸、ギ酸
、クエン酸、トリクロロ酢酸またはトリフルオロ酢酸な
どの有機カルボン酸との塩:メタンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、メシチレンス
ルホン酸またはナフタレンスルホン酸などのスルホン酸
との塩を、また、酸性基における塩としては、たとえば
、ナトリウムまたはカリウムなどのアルカリ金属との塩
;カルシウムまたはマグネシウムなどのアルカリ土類金
属との塩:アンモニウム塩;トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N、N−ジ
メチルアニリン、N−メチルピペリジン、N−メチルモ
ルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、
プロ力イン、ジベンジルアミン、N−ベンジルーβ−フ
ェネチルアミン、1−エフエナミンまたはN、N−−ジ
ベンジルエチレンジアミンなどの含窒素有機塩基との塩
などを挙げることができる。
アミノ基などの塩基性基またはヒドロキシルもしくはカ
ルボキシル基などの酸性基における塩を挙げることがで
きる。塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、
臭化水素酸または硫酸などの鉱酸との塩;酒石酸、ギ酸
、クエン酸、トリクロロ酢酸またはトリフルオロ酢酸な
どの有機カルボン酸との塩:メタンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、メシチレンス
ルホン酸またはナフタレンスルホン酸などのスルホン酸
との塩を、また、酸性基における塩としては、たとえば
、ナトリウムまたはカリウムなどのアルカリ金属との塩
;カルシウムまたはマグネシウムなどのアルカリ土類金
属との塩:アンモニウム塩;トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N、N−ジ
メチルアニリン、N−メチルピペリジン、N−メチルモ
ルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、
プロ力イン、ジベンジルアミン、N−ベンジルーβ−フ
ェネチルアミン、1−エフエナミンまたはN、N−−ジ
ベンジルエチレンジアミンなどの含窒素有機塩基との塩
などを挙げることができる。
また、一般式[I]の化合物およびその塩において、異
性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体、互変異性体
など)が存在する場合、本発明方法は、それらすべての
異性体に対しても適用することができ、また、溶媒和物
、水和物およびすべての結晶形にも適用することができ
る。
性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体、互変異性体
など)が存在する場合、本発明方法は、それらすべての
異性体に対しても適用することができ、また、溶媒和物
、水和物およびすべての結晶形にも適用することができ
る。
また、本発明において使用されるカルシウム塩としては
、グルカル融カルシウムなどのD−糖駿カルシウム塩、
塩化カルシウム、乳酸カルシウム、エデト酸二す1〜リ
ウムカルシウム、グルコン酸力ルシウムなどの医薬品の
添加物として許容されるカルシウム塩が挙げられ、とり
わけ、塩化カルシウムが好ましい。これらカルシウム塩
は、一般式[I]の化合物またはその塩に対して、モル
比で0.1〜50倍モル添加すればよい。
、グルカル融カルシウムなどのD−糖駿カルシウム塩、
塩化カルシウム、乳酸カルシウム、エデト酸二す1〜リ
ウムカルシウム、グルコン酸力ルシウムなどの医薬品の
添加物として許容されるカルシウム塩が挙げられ、とり
わけ、塩化カルシウムが好ましい。これらカルシウム塩
は、一般式[I]の化合物またはその塩に対して、モル
比で0.1〜50倍モル添加すればよい。
また、塩基性物質を加えることが好ましく、その塩基性
物質としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
の無機塩基;エタノールアミン、トリスヒドロキシメチ
ルアミノメタンなどのアルカノールアミン類:エチレン
ジアミンなどのジアミン類;アルギニンなどの塩基性ア
ミノ酸類:N−メチルグルカミンなどの糖誘導体などの
有殿塩基が挙げられ、とりわけ、N−メチルグルカミン
が好ましい。これら塩基性物質は、一般式[I]の化合
物またはその塩に対して、モル比で0.1〜15倍モル
、好ましくは、0.3〜5倍モル添加すればよい。
物質としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
の無機塩基;エタノールアミン、トリスヒドロキシメチ
ルアミノメタンなどのアルカノールアミン類:エチレン
ジアミンなどのジアミン類;アルギニンなどの塩基性ア
ミノ酸類:N−メチルグルカミンなどの糖誘導体などの
有殿塩基が挙げられ、とりわけ、N−メチルグルカミン
が好ましい。これら塩基性物質は、一般式[I]の化合
物またはその塩に対して、モル比で0.1〜15倍モル
、好ましくは、0.3〜5倍モル添加すればよい。
本発明方法は、たとえば、つぎのように実施することが
できる。一般式[I]の化合物またはその塩を水に懸濁
させ、カルシウム塩を添加した後、必要に応じpH調整
して溶解させ、液剤を得ることができる。また、上記溶
液を凍結乾燥し、用時溶解型の製剤とすることができる
。本発明方法による製剤は、溶解時にpH4,5〜10
.5、好ましくは、pH5,5〜9.5の範囲になるよ
うに調整される。
できる。一般式[I]の化合物またはその塩を水に懸濁
させ、カルシウム塩を添加した後、必要に応じpH調整
して溶解させ、液剤を得ることができる。また、上記溶
液を凍結乾燥し、用時溶解型の製剤とすることができる
。本発明方法による製剤は、溶解時にpH4,5〜10
.5、好ましくは、pH5,5〜9.5の範囲になるよ
うに調整される。
本発明方法は、主として注射用、点眼用、点耳用、魚の
用または経口用の製剤に適用することができる。製剤調
製の際には、薬学的に許容される補助剤をざらに添加し
てもよい。補助剤としては、賦形剤、安定化剤、緩衝剤
、抗酸化剤、pH調整剤、矯味剤、無痛化剤または等張
化剤などが挙げられる。
用または経口用の製剤に適用することができる。製剤調
製の際には、薬学的に許容される補助剤をざらに添加し
てもよい。補助剤としては、賦形剤、安定化剤、緩衝剤
、抗酸化剤、pH調整剤、矯味剤、無痛化剤または等張
化剤などが挙げられる。
つぎに、一般式[I]の化合物またはその塩の製造法に
ついて説明する。
ついて説明する。
一般式[I]の化合物またはその塩は、通常、公知の方
法を組み合わせることによって1昇ることができるが、
たとえば、つぎに示す製造ルートにしたがって製造する
ことができる。
法を組み合わせることによって1昇ることができるが、
たとえば、つぎに示す製造ルートにしたがって製造する
ことができる。
(以下余白)
[IbLまたはその塩
[Ia]またはその堪
[IC]またはその塩
「式中、R3、R4、AおよびXは、前記したと同様の
意味を:R1aは、水素原子またはR3と同様のカルボ
キシル保護基を:R1bは、R3と同様のカルボキシル
保護基を;R2aは、水素原子またはR2と同様のハロ
ゲン原子を;R2bは、R2と同様のアルコキシ基また
は保護されてい、でもよいヒドロキシ、ル基を:R2C
は、R2と同様の保護されていてもよいアミノ基、保護
されていてもよい低級アルキルアミノ基またはジー低級
アルキルアミノ基を:R5は、水素原子またはR2およ
びR3で述べたと同様のアミノ保護基を示す。」 一般式[n]、[11]、[IV]、[Vl、[V1]
、[Vl[]、[■]、[Ia]、[Ib]および[I
c]の化合物の塩としては、一般式[I]の化合物の塩
で説明したと同様の塩が挙げられる。
意味を:R1aは、水素原子またはR3と同様のカルボ
キシル保護基を:R1bは、R3と同様のカルボキシル
保護基を;R2aは、水素原子またはR2と同様のハロ
ゲン原子を;R2bは、R2と同様のアルコキシ基また
は保護されてい、でもよいヒドロキシ、ル基を:R2C
は、R2と同様の保護されていてもよいアミノ基、保護
されていてもよい低級アルキルアミノ基またはジー低級
アルキルアミノ基を:R5は、水素原子またはR2およ
びR3で述べたと同様のアミノ保護基を示す。」 一般式[n]、[11]、[IV]、[Vl、[V1]
、[Vl[]、[■]、[Ia]、[Ib]および[I
c]の化合物の塩としては、一般式[I]の化合物の塩
で説明したと同様の塩が挙げられる。
ついで、各工程について説明する。
(1) 一般式[I[1’lの化合物またはその塩は
、−般式[II]の化合物またはその塩を通常当該分野
で知られているケトエステル化反応に付すことによって
得ることができる。
、−般式[II]の化合物またはその塩を通常当該分野
で知られているケトエステル化反応に付すことによって
得ることができる。
(1) たとえば、−服代[nlの化合物またはその
塩のカルボキシル基を塩化チオニルなどのハロゲン化剤
で酸ハライドに誘導した後、マロン酸ジエステルのナト
リウムまたはエトキシマグネシウムなどの金属塩と反応
させ、含水溶媒中、p−トルエンスルホン酸またはトリ
フルオロ酢酸を用いて部分的にカルボキシル保護基を脱
離および脱炭酸反応に付すことによって、−服代[11
1]の化合物またはその塩に誘導することができる。
塩のカルボキシル基を塩化チオニルなどのハロゲン化剤
で酸ハライドに誘導した後、マロン酸ジエステルのナト
リウムまたはエトキシマグネシウムなどの金属塩と反応
させ、含水溶媒中、p−トルエンスルホン酸またはトリ
フルオロ酢酸を用いて部分的にカルボキシル保護基を脱
離および脱炭酸反応に付すことによって、−服代[11
1]の化合物またはその塩に誘導することができる。
酸ハライドとマロン酸ジエステルの金属塩との反応で使
用される溶媒としては、反応に悪影響をおよぼさないも
のであれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、
トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類ニジオ
キサン、テトラヒドロフランおよびジエチルエーテルな
どのエーテル類;塩化メチレン、クロロホルムおよびジ
クロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;並びにN。
用される溶媒としては、反応に悪影響をおよぼさないも
のであれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、
トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類ニジオ
キサン、テトラヒドロフランおよびジエチルエーテルな
どのエーテル類;塩化メチレン、クロロホルムおよびジ
クロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;並びにN。
N−ジメチルホルムアミドおよびN、N−ジメチルアセ
トアミドなどのアミド類などが挙げられ、また、これら
の溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
トアミドなどのアミド類などが挙げられ、また、これら
の溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
マロン酸ジエステルの金属塩の使用量は、−服代[I[
]の化合物の酸ハライドに対して、等モル以上、好まし
くは、1〜3倍モルである。
]の化合物の酸ハライドに対して、等モル以上、好まし
くは、1〜3倍モルである。
この反応は、通常、−50〜100℃で、5分〜30時
間実施すればよい。
間実施すればよい。
(11)別法として、たとえば、アンゲバンテ・ヘミ・
インターナショナル・エデイジョン・イン・イングリッ
シュ(Angew、 chem、 Int、 Ed、
Eng 1. )第18巻、第72頁(1979年)に
記載の方法に準じて、−服代[nlの化合物またはその
塩のカルボキシル基を、たとえば、N、N−一カルポニ
ルジイミダゾールで活性酸アミドに誘導した後、マロン
酸モノエステルのマグネシウム塩と反応させ、−服代[
II]の化合物またはその塩を得ることもできる。
インターナショナル・エデイジョン・イン・イングリッ
シュ(Angew、 chem、 Int、 Ed、
Eng 1. )第18巻、第72頁(1979年)に
記載の方法に準じて、−服代[nlの化合物またはその
塩のカルボキシル基を、たとえば、N、N−一カルポニ
ルジイミダゾールで活性酸アミドに誘導した後、マロン
酸モノエステルのマグネシウム塩と反応させ、−服代[
II]の化合物またはその塩を得ることもできる。
活性酸アミドとマロン酸モノエステルのマグネシウム塩
との反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をお
よぼさないものであれば特に限定されないが、具体的に
は前述の(1) (i)と同様の溶媒が挙げられる。
との反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をお
よぼさないものであれば特に限定されないが、具体的に
は前述の(1) (i)と同様の溶媒が挙げられる。
N、N”−カルボニルジイミダゾール
ロン酸モノエステルのマグネシウム塩の使用量は、−服
代[nlの化合物またはその塩に対して、それぞれ等モ
ル以上、好ましくは、1〜2倍モルでおる。
代[nlの化合物またはその塩に対して、それぞれ等モ
ル以上、好ましくは、1〜2倍モルでおる。
この反応は、通常、0〜100℃、好ましくは、10〜
80℃で、5分〜30時間実施すればよい。
80℃で、5分〜30時間実施すればよい。
(2) (i) −服代[V]の化合物またはその塩
は、−服代[I[1]の化合物またはその塩に、無水酢
酸中、オルトギ酸メチルまたはオルトギ酸エチルを反応
させた後、−服代[IV]の化合物またはその塩(光学
活性な一般式[IV]の化合物またはその塩を使用すれ
ば、光学活性な一般式[I]のピリドンカルボン酸また
はその塩へ誘導することができる。)を反応させること
によって得ることができる。
は、−服代[I[1]の化合物またはその塩に、無水酢
酸中、オルトギ酸メチルまたはオルトギ酸エチルを反応
させた後、−服代[IV]の化合物またはその塩(光学
活性な一般式[IV]の化合物またはその塩を使用すれ
ば、光学活性な一般式[I]のピリドンカルボン酸また
はその塩へ誘導することができる。)を反応させること
によって得ることができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をお
よぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば
、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化
水素類ニジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール
、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびジメチ
ルセロソルブなどのエーテル類;メタノール、エタノー
ルおよびプロパツールなどのアルコール類;塩化メチレ
ン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲシ
化炭化水素類:N,NージメチルホルムアミドおよびN
.N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;並びにジ
メチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げら
れ、また、これらの溶媒を一種または二種以上混合して
使用してもよい。
よぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば
、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化
水素類ニジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール
、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびジメチ
ルセロソルブなどのエーテル類;メタノール、エタノー
ルおよびプロパツールなどのアルコール類;塩化メチレ
ン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲシ
化炭化水素類:N,NージメチルホルムアミドおよびN
.N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;並びにジ
メチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げら
れ、また、これらの溶媒を一種または二種以上混合して
使用してもよい。
オルトギ酸メチルまたはオルトギ酸エチルの使用量は、
−服代[I[1]の化合物またはその塩に対して、それ
ぞれ等モル以上、好ましくは、約1〜10倍モルである
。
−服代[I[1]の化合物またはその塩に対して、それ
ぞれ等モル以上、好ましくは、約1〜10倍モルである
。
この反応は、通常、0〜150℃、好ましくは、50〜
150℃で、20分〜50時間実施すればよい。
150℃で、20分〜50時間実施すればよい。
ついで、−服代[IV]の化合物またはその塩を反応さ
せるには、この−服代[IV]の化合物またはその塩を
一般式[III]の化合物またはその塩に対して、等モ
ル以上使用し、通常、0〜100℃、好ましくは、1O
−S−60℃で、20分〜30R間実施すればよい。
せるには、この−服代[IV]の化合物またはその塩を
一般式[III]の化合物またはその塩に対して、等モ
ル以上使用し、通常、0〜100℃、好ましくは、1O
−S−60℃で、20分〜30R間実施すればよい。
(11)別法として、−服代[111]の化合物または
その塩に、N、N−ジメチルホルムアミドジメチルアセ
タールまたはN、N−ジメチルホルムアミドジエチルア
セタールなどのアセタール類を反応させた後、−服代[
1v]の化合物またはその塩(光学活性な一般式[1v
]の化合物またはその塩を使用すれば、光学活性な一般
式[I]のピリドンカルボン酸またはその塩へ誘導する
ことができる。)を反応させて、−服代[Vlの化合物
またはその塩へ誘導することもできる。
その塩に、N、N−ジメチルホルムアミドジメチルアセ
タールまたはN、N−ジメチルホルムアミドジエチルア
セタールなどのアセタール類を反応させた後、−服代[
1v]の化合物またはその塩(光学活性な一般式[1v
]の化合物またはその塩を使用すれば、光学活性な一般
式[I]のピリドンカルボン酸またはその塩へ誘導する
ことができる。)を反応させて、−服代[Vlの化合物
またはその塩へ誘導することもできる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をお
よぼさないものであれば特に限定されないが、具体的に
は前述の(2) (i)と同様の溶媒が挙げられる。
よぼさないものであれば特に限定されないが、具体的に
は前述の(2) (i)と同様の溶媒が挙げられる。
アセタール類の使用量は、−服代[1[1]の化合物ま
たはその塩に対して、等モル以上、好ましくは、約i、
o〜5.0倍モルである。
たはその塩に対して、等モル以上、好ましくは、約i、
o〜5.0倍モルである。
この反応は、通常、0〜100℃、好ましくは、50〜
85℃で、20分〜5oai!間実施すればよい。
85℃で、20分〜5oai!間実施すればよい。
ついで、−服代[IV]の化合物またはその塩を反応さ
せるには、この−服代[IV]の化合物またはその塩を
一般式[m]の化合物またはその塩に対して、等モル以
上使用し、通常、O〜100″C1好ましくは、10〜
60℃で、20分〜30時゛間実施すればよい。
せるには、この−服代[IV]の化合物またはその塩を
一般式[m]の化合物またはその塩に対して、等モル以
上使用し、通常、O〜100″C1好ましくは、10〜
60℃で、20分〜30時゛間実施すればよい。
(3) −服代(Vl ]の化合物またはその塩は、
−服代[Vlの化合物またはその塩を、フッ化塩もしく
は塩基の存在下または不存在下に閉環反応に付すことに
よって得ることができる。
−服代[Vlの化合物またはその塩を、フッ化塩もしく
は塩基の存在下または不存在下に閉環反応に付すことに
よって得ることができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をお
よぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば
、N、N−ジメチルホルムアミド6よびN、N−ジメチ
ルアセトアミドなどのアミド類;ジオキサン、アニソー
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジメ
チルセロソルブなどのエーテル類;並びにジメチルスル
ホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、また、
これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用しても
よい。
よぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば
、N、N−ジメチルホルムアミド6よびN、N−ジメチ
ルアセトアミドなどのアミド類;ジオキサン、アニソー
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジメ
チルセロソルブなどのエーテル類;並びにジメチルスル
ホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、また、
これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用しても
よい。
この反応で所望に応じて用いられるフッ化塩としては、
たとえば、フッ化ナトリウムまたはフッ化カリウムなど
が挙げられ、所望に応じて用いられる塩基としては、た
とえば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、カリウム
tert−ブトキシドまたは水素化ナトリウムなどが挙
げられ、それらの使用量は、−服代[Vlの化合物また
はその塩に対して、それぞれ等モル以上、好ましくは、
1.0〜1.5倍モルである。
たとえば、フッ化ナトリウムまたはフッ化カリウムなど
が挙げられ、所望に応じて用いられる塩基としては、た
とえば、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、カリウム
tert−ブトキシドまたは水素化ナトリウムなどが挙
げられ、それらの使用量は、−服代[Vlの化合物また
はその塩に対して、それぞれ等モル以上、好ましくは、
1.0〜1.5倍モルである。
この反応は、通常、0〜180℃で、5分〜30時間実
施すればよい。
施すればよい。
(4) (i) −服代[Ialの化合物またはその
塩は、−服代[v1]の化合物またはその塩を、フッ化
塩もしくは塩基の存在下または不存在下に閉環反応に付
すことによって得ることができる。
塩は、−服代[v1]の化合物またはその塩を、フッ化
塩もしくは塩基の存在下または不存在下に閉環反応に付
すことによって得ることができる。
この反応は、前述の(3)で説明した閉環反応と同様の
反応条件で*施すればよい。
反応条件で*施すればよい。
(in 別法として、−服代[Ialの化合物または
その塩は、−服代[Vlの化合物またはその塩を、フッ
化塩もしくは塩基の存在下または不存在下に閉環反応に
付すことによって得ることもできる。
その塩は、−服代[Vlの化合物またはその塩を、フッ
化塩もしくは塩基の存在下または不存在下に閉環反応に
付すことによって得ることもできる。
この反応で所望によって用いられるフッ化塩または塩基
の使用量は、−服代[Vlの化合物またはその塩に対し
て、それぞれ2倍モル以上である。
の使用量は、−服代[Vlの化合物またはその塩に対し
て、それぞれ2倍モル以上である。
この反応は、通常、0〜180℃で、5分〜30時間実
施すればよい。
施すればよい。
(5) −服代(Ib]の化合物またはその塩は、塩
基の存在下または不存在下、R2aがハロゲン原子であ
る一般式[Ialの化合物またはその塩に、−服代[V
I]のアルコール類またはその塩を反応させることによ
って得ることができる。
基の存在下または不存在下、R2aがハロゲン原子であ
る一般式[Ialの化合物またはその塩に、−服代[V
I]のアルコール類またはその塩を反応させることによ
って得ることができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をお
よぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば
、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化
水素類ニジオキサン、テトラヒドロフランおよびジエチ
ルエーテルなどのエーテル類;塩化メチレン、クロロホ
ルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類
;アセトニトリルなどのニトリル類;並びにN、N−ジ
メチルホルムアミドお゛よびN、N−ジメチルアセトア
ミドなどのアミド類などが挙げられ、また、これらの溶
媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
よぼさない溶媒であれば特に限定されないが、たとえば
、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化
水素類ニジオキサン、テトラヒドロフランおよびジエチ
ルエーテルなどのエーテル類;塩化メチレン、クロロホ
ルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類
;アセトニトリルなどのニトリル類;並びにN、N−ジ
メチルホルムアミドお゛よびN、N−ジメチルアセトア
ミドなどのアミド類などが挙げられ、また、これらの溶
媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
また、この反応で所望に応じて用いられる塩基としては
、たとえば、ナトリウム、カリウム、カリウムtert
−ブトキシドまたは水素化ナトリウムなどが挙げられる
。
、たとえば、ナトリウム、カリウム、カリウムtert
−ブトキシドまたは水素化ナトリウムなどが挙げられる
。
一般式[VI]のアルコール類またはその塩および所望
に応じて用いられる塩基の使用量は、R2aがハロゲン
原子である一般式[Ia]の化合物またはその塩に対し
て、それぞれ等モル以上で必る。
に応じて用いられる塩基の使用量は、R2aがハロゲン
原子である一般式[Ia]の化合物またはその塩に対し
て、それぞれ等モル以上で必る。
この反応は、通常、0〜150℃で、10分〜20時間
実施すればよい。
実施すればよい。
(6) −服代[IC]の化合物またはその塩は、塩
基の存在下または不存在下、R2aがハロゲン原子であ
る一般式[Ia]の化合物またはその塩に一般式[■]
のアミン類またはその塩を反応させることによって得る
ことができる。
基の存在下または不存在下、R2aがハロゲン原子であ
る一般式[Ia]の化合物またはその塩に一般式[■]
のアミン類またはその塩を反応させることによって得る
ことができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響をお
よぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば
、前述の(5)と同様の溶媒が挙げられる。
よぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば
、前述の(5)と同様の溶媒が挙げられる。
また、この反応で所望に応じて用いられる塩基としては
、たとえば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチル
アミン、1,8−ジアザビシクロ−[5,4,0]ウン
デク−7−エン(DBU)、ピリジン、カリウムter
t−ブトキシド、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムまたは
水素化ナトリウムなどの有機または無機塩基が挙げられ
る。
、たとえば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチル
アミン、1,8−ジアザビシクロ−[5,4,0]ウン
デク−7−エン(DBU)、ピリジン、カリウムter
t−ブトキシド、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムまたは
水素化ナトリウムなどの有機または無機塩基が挙げられ
る。
−服代[■]のアミン類またはその塩の使用量は、−服
代[Ia]の化合物またはその塩に対して、好ましくは
、2〜10倍モルであるが、塩基を適宜使用することに
よって一般式[■コのアミン類またはその塩の使用量を
減らすことができる。
代[Ia]の化合物またはその塩に対して、好ましくは
、2〜10倍モルであるが、塩基を適宜使用することに
よって一般式[■コのアミン類またはその塩の使用量を
減らすことができる。
この反応は、通常、0〜150℃、好ましくは、15〜
100℃で、5分〜30時間実施すればよい。
100℃で、5分〜30時間実施すればよい。
また、−服代[工]の化合物またはその塩を、たとえば
、酸化反応、還元反応、転位反応、置換反応、ハロゲン
化反応、脱水反応および加水分解反応などの自体公知の
反応に付すことによって、またはそれらを適宜組み合わ
せることによって、他の一般式[I]の化合物またはそ
の塩に変換することができる。
、酸化反応、還元反応、転位反応、置換反応、ハロゲン
化反応、脱水反応および加水分解反応などの自体公知の
反応に付すことによって、またはそれらを適宜組み合わ
せることによって、他の一般式[I]の化合物またはそ
の塩に変換することができる。
一般式[II]、[1]、[IV]、[Vコ、[VI]
、[VI]および[■]の化合物において、アミノ基、
ヒドロキシル基またはカルボキシル基を有する化合物は
、あらかじめこれらの基を通常の保護基で保護しておき
、反応後、自体公知の方法でこれらの保護基を脱離する
ことができる。
、[VI]および[■]の化合物において、アミノ基、
ヒドロキシル基またはカルボキシル基を有する化合物は
、あらかじめこれらの基を通常の保護基で保護しておき
、反応後、自体公知の方法でこれらの保護基を脱離する
ことができる。
−服代[I]の化合物またはその塩を製造するための原
料である一般式[n]の化合物またはその塩は、新規化
合物であり、たとえば、つぎに示す製造ルートにしたが
って合成することができる。
料である一般式[n]の化合物またはその塩は、新規化
合物であり、たとえば、つぎに示す製造ルートにしたが
って合成することができる。
(iX下余白)
[1[clまたはその塩
1式中、Rla、 Rlb、 R2a;13ヨUXハ、
JfJ記シたと同様の意味を有し:R10は、R3と同
様のカルボキシル保護基を;R3aは、水素原子または
R3と同様の保護されていてもよいアミノ基、保護され
ていてもよい低級アルキルアミノ基、ジー低級アルキル
アミン基、°保護されていてもよいアミノ低級アルキル
基、保暉されていてもよい低級アルキルアミノ低級アル
キル基、ジー低級アルキルアミノ低級アルキル基もしく
は保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基を:
R3bは、R3と同様の低級アルキル基を:R3cは、
水素原子またはR3と同様の低級アルキル基を示す。」 一般式[X]、[XI] trcut [XVI] (
7)化合物もしくはそれらの塩において、2つのRlC
は同一または異なっていてもよい。
JfJ記シたと同様の意味を有し:R10は、R3と同
様のカルボキシル保護基を;R3aは、水素原子または
R3と同様の保護されていてもよいアミノ基、保護され
ていてもよい低級アルキルアミノ基、ジー低級アルキル
アミン基、°保護されていてもよいアミノ低級アルキル
基、保暉されていてもよい低級アルキルアミノ低級アル
キル基、ジー低級アルキルアミノ低級アルキル基もしく
は保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基を:
R3bは、R3と同様の低級アルキル基を:R3cは、
水素原子またはR3と同様の低級アルキル基を示す。」 一般式[X]、[XI] trcut [XVI] (
7)化合物もしくはそれらの塩において、2つのRlC
は同一または異なっていてもよい。
一般式[IX]、[XI]、[店]、E店]、[XV]
、 [X Vl ] 、 [X VI[コ 、
[XMIl] 、[IIal、[IIb]および[I
Icコの化合物の塩としでは、−服代[、I ]の化合
物の塩で説明したと同様の塩が挙げられる。
、 [X Vl ] 、 [X VI[コ 、
[XMIl] 、[IIal、[IIb]および[I
Icコの化合物の塩としでは、−服代[、I ]の化合
物の塩で説明したと同様の塩が挙げられる。
また、−服代[X]および[X[]の化合物の活性メチ
レンの塩としては、たとえば、ナトリウム、カリウム、
リチウムなどのアルシカリ金屈との塩が挙げられる。
レンの塩としては、たとえば、ナトリウム、カリウム、
リチウムなどのアルシカリ金屈との塩が挙げられる。
一般式[IX]の化合物またはその塩を米国特許用3.
590.036号に、記載の方法に準じて、−服代[X
]の化合物またはその塩と反応させることによって、−
服代[XI]の化合物またはその塩に誘導し、これを通
常の方法によって、脱保護および脱炭酸反応を行い、つ
いで、カルボキシル保護基を導入することによって、−
服代[XII]の化合物またはその塩に誘導することが
できる。
590.036号に、記載の方法に準じて、−服代[X
]の化合物またはその塩と反応させることによって、−
服代[XI]の化合物またはその塩に誘導し、これを通
常の方法によって、脱保護および脱炭酸反応を行い、つ
いで、カルボキシル保護基を導入することによって、−
服代[XII]の化合物またはその塩に誘導することが
できる。
これをケーミシエφベリヒテ(Chem、 Ber、
)第99巻、第2407頁(1966年)に記載の方法
に準じて、−服代[XI]の化合物またはその塩に誘導
することができる。
)第99巻、第2407頁(1966年)に記載の方法
に準じて、−服代[XI]の化合物またはその塩に誘導
することができる。
ざらに、−服代[Xll1]の化合物またはその塩をジ
アゾアルカンと反応させることによって、一般式[X
IV ]の化合物またはその塩に誘導することができる
。
アゾアルカンと反応させることによって、一般式[X
IV ]の化合物またはその塩に誘導することができる
。
一般式[na]の化合物またはその塩は、−服代[XV
Iの化合物またはその塩を、脱保護反応、還元反応、ア
ミノ化反応、クルチウス(Curt 1us)反応もし
くはアルキル化反応などの自体公知の反応に付すことに
よって、またはこれらの反応を適宜組み合わせることに
よって得ることができる。
Iの化合物またはその塩を、脱保護反応、還元反応、ア
ミノ化反応、クルチウス(Curt 1us)反応もし
くはアルキル化反応などの自体公知の反応に付すことに
よって、またはこれらの反応を適宜組み合わせることに
よって得ることができる。
−服代[IIb]の化合物またはその塩は、−服代[X
In1の化合物またはその塩を、通常の方法により、脱
保護および脱炭酸反応に付すことによって、−服代[X
Vl ]の化合物またはその塩に誘導し、ついで、こ
れをジアゾアルカンと1,3−双極子付加反応を行い、
ざらに加熱脱窒素反応させることによって得ることがで
きる。
In1の化合物またはその塩を、通常の方法により、脱
保護および脱炭酸反応に付すことによって、−服代[X
Vl ]の化合物またはその塩に誘導し、ついで、こ
れをジアゾアルカンと1,3−双極子付加反応を行い、
ざらに加熱脱窒素反応させることによって得ることがで
きる。
また、別法として一般式[lIb1の化合物またはその
塩は、通常の方法によって、−服代[店]の化合物もし
く、11その塩または一般式[習]の化合物もしくはそ
の塩を水素化ナトリウムなどの塩基の存在下に、ヨウ化
トリメチルスルホキソニウムと反応させ、−服代[XV
Iの化合物またはその塩に誘導し、ついで、これを通常
の脱保護および脱炭酸反応に付しても得ることができる
。
塩は、通常の方法によって、−服代[店]の化合物もし
く、11その塩または一般式[習]の化合物もしくはそ
の塩を水素化ナトリウムなどの塩基の存在下に、ヨウ化
トリメチルスルホキソニウムと反応させ、−服代[XV
Iの化合物またはその塩に誘導し、ついで、これを通常
の脱保護および脱炭酸反応に付しても得ることができる
。
−服代[X Vl ]の化合物またはその塩を臭素化ま
たは塩素化反応に付した後、たとえば、DBすなどの塩
基を作用させ、ついで、−服代[X]の化合物またはそ
の塩を反応させ、−服代[X Vl[]の化合物または
その塩に誘導し、ついで、これを通常の脱保護および脱
炭酸反応に付し、さらに、カルボキシル保護基を導入す
ることによって、服代[X■]の化合物またはその塩に
誘導することができる。ざらに、−服代[X■]の化合
物またはその塩を、脱保護反応、還元反応、アミノ化反
応、クルチウス反応もしくはアルキル化反応などの自体
公知の反応に付すことによって、またはこれらの反応を
適宜組み合わせることによって、−服代[I[C]の化
合物またはその塩を得ることができる。
たは塩素化反応に付した後、たとえば、DBすなどの塩
基を作用させ、ついで、−服代[X]の化合物またはそ
の塩を反応させ、−服代[X Vl[]の化合物または
その塩に誘導し、ついで、これを通常の脱保護および脱
炭酸反応に付し、さらに、カルボキシル保護基を導入す
ることによって、服代[X■]の化合物またはその塩に
誘導することができる。ざらに、−服代[X■]の化合
物またはその塩を、脱保護反応、還元反応、アミノ化反
応、クルチウス反応もしくはアルキル化反応などの自体
公知の反応に付すことによって、またはこれらの反応を
適宜組み合わせることによって、−服代[I[C]の化
合物またはその塩を得ることができる。
ざらに、−服代[IX]、[XI]、[X[]、[X1
1]、[■]、[XVI、[XVI]、[XVI[]、
l−;よび[X■]の化合物において、アミノ基、ヒド
ロキシル基またはカルボキシル基を有する化合物は、あ
らかじめこれらの基を通常の保護基で保護しておき、反
応後、自体公知の方法でこれらの保護基を脱離すること
ができる。
1]、[■]、[XVI、[XVI]、[XVI[]、
l−;よび[X■]の化合物において、アミノ基、ヒド
ロキシル基またはカルボキシル基を有する化合物は、あ
らかじめこれらの基を通常の保護基で保護しておき、反
応後、自体公知の方法でこれらの保護基を脱離すること
ができる。
上記した各反応において、異性体(たとえば、光学異性
体、幾何異性体、互変異性体など)が存在する場合、こ
れらすべての異性体を使用することができ、また、水和
物、溶媒和物およびすべての結晶形を使用することがで
きる。
体、幾何異性体、互変異性体など)が存在する場合、こ
れらすべての異性体を使用することができ、また、水和
物、溶媒和物およびすべての結晶形を使用することがで
きる。
上記した各反応において、各々の生成化合物がアミノ基
、ヒドロキシル基またはカルボキシル基を有する化合物
は、あらかじめこれらの基を通常の保護基で保護してお
き、反応後、自体公知の方法でこれらの保ff1lを脱
離することもできる。
、ヒドロキシル基またはカルボキシル基を有する化合物
は、あらかじめこれらの基を通常の保護基で保護してお
き、反応後、自体公知の方法でこれらの保ff1lを脱
離することもできる。
このようにして得られた一般式[I]の化合物またはそ
の塩は、抽出、晶出、カラムクロマトグラフィーなどの
常法にしたがって単離精製することができる。
の塩は、抽出、晶出、カラムクロマトグラフィーなどの
常法にしたがって単離精製することができる。
一般式[I]の化合物またはその塩に本発明方法を適用
して医薬として用いる場合、通常製剤化に使用される担
体を適宜用い、常法にしたがって、注射剤(溶液または
用時溶解型)、点眼剤、点耳剤、点鼻剤または経口剤な
どに調製すればよい。
して医薬として用いる場合、通常製剤化に使用される担
体を適宜用い、常法にしたがって、注射剤(溶液または
用時溶解型)、点眼剤、点耳剤、点鼻剤または経口剤な
どに調製すればよい。
また投与方法、投与量および投与回数は患者の年齢、体
重および症状に応じて適宜選択することができ、通常成
人に対しては、経口または非経口(たとえば、注射、点
眼、直腸部位への投与など)的投与により、0.1〜1
00 my/KV8を1〜数回に分割して投与すればよ
い。
重および症状に応じて適宜選択することができ、通常成
人に対しては、経口または非経口(たとえば、注射、点
眼、直腸部位への投与など)的投与により、0.1〜1
00 my/KV8を1〜数回に分割して投与すればよ
い。
[実施例]
つぎに、本発明を実施例を苧げて説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。
これらに限定されるものではない。
実施例1
(s)−10−(1−アミノシクロプロピル)−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7日−ピリドN、2.3−del [1゜4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボン110.0g、無水塩化カル
シウム1.67g、N−メチルグルカミン6.259お
よび注射用蒸留水適量を用いて、全徂で250m1とな
るように調製した溶液(pl−18,9)を、メンブラ
ンフィルタ−<0.221IIn>で滅Ep過した後、
2,5dずつバイアル瓶に分注して凍結乾燥し、注射用
粉末剤を得る。
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7日−ピリドN、2.3−del [1゜4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボン110.0g、無水塩化カル
シウム1.67g、N−メチルグルカミン6.259お
よび注射用蒸留水適量を用いて、全徂で250m1とな
るように調製した溶液(pl−18,9)を、メンブラ
ンフィルタ−<0.221IIn>で滅Ep過した後、
2,5dずつバイアル瓶に分注して凍結乾燥し、注射用
粉末剤を得る。
つぎに、本発明方法を適用することによる一般式[I]
の化合物の溶解度試験について述べる。
の化合物の溶解度試験について述べる。
皿簾底試囚
試験化合物
A : (s)−10−(1−アミノシクロ10ピル
)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7日−ピリド [1,2,3−del [1,4]ベンゾオキサジン
−6−カルボン酸 試験例1 大過剰の化合物Aを、塩化カルシウム水溶液(0,08
モル/Jりに懸濁させ、激しく撹拌した後、25℃で一
昼夜放置する。ついで、メンブランフィルタ−(0,2
2炊i)、で濾過した後、ン戸液中の試験化合物Aの含
量を高速液体クロマトグラフィーで測定し、溶解度を求
めた。なお、対照として、塩化カルシウム水溶液のかわ
りに、蒸留水に大過剰の試験化合物Aを懸濁させ、同様
にして炉液中の試験化合物Aの含量を測定し、溶解度を
求めた。
)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7日−ピリド [1,2,3−del [1,4]ベンゾオキサジン
−6−カルボン酸 試験例1 大過剰の化合物Aを、塩化カルシウム水溶液(0,08
モル/Jりに懸濁させ、激しく撹拌した後、25℃で一
昼夜放置する。ついで、メンブランフィルタ−(0,2
2炊i)、で濾過した後、ン戸液中の試験化合物Aの含
量を高速液体クロマトグラフィーで測定し、溶解度を求
めた。なお、対照として、塩化カルシウム水溶液のかわ
りに、蒸留水に大過剰の試験化合物Aを懸濁させ、同様
にして炉液中の試験化合物Aの含量を測定し、溶解度を
求めた。
その結果を表−1に示す。
表−1
試験例2
大過剰の試験化合物Aを、N−メチルグルカミン水溶液
(0,30モル/i)に懸濁させ、この懸濁液にN−メ
チルグルカミン水溶液と同容量の塩化カルシウム水溶液
(0,16モル/1)を加え、激しく撹拌した後、25
℃で一昼夜放置する。ついで、メンブランフィルター(
0,221IIn>でi濾過した後、炉液中の試験化合
物Aの含量を高速液体クロマトグラフィーで測定し、溶
解度を求めた。なお、対照として、N−メチルグルカミ
ン水溶液(0,15モル/i)に大過剰の試験化合物A
を懸濁させ、同様にして炉液中の試験化合物Aの含量を
測定し、溶解度を求めた。
(0,30モル/i)に懸濁させ、この懸濁液にN−メ
チルグルカミン水溶液と同容量の塩化カルシウム水溶液
(0,16モル/1)を加え、激しく撹拌した後、25
℃で一昼夜放置する。ついで、メンブランフィルター(
0,221IIn>でi濾過した後、炉液中の試験化合
物Aの含量を高速液体クロマトグラフィーで測定し、溶
解度を求めた。なお、対照として、N−メチルグルカミ
ン水溶液(0,15モル/i)に大過剰の試験化合物A
を懸濁させ、同様にして炉液中の試験化合物Aの含量を
測定し、溶解度を求めた。
その結果を表−2に示す。
表−2
[発明の効果]
以上の結果から、本発明方法を適用することによって、
−i式[I]の化合物またはその塩の溶解性が著しく改
善されることから、−服代[I]の化合物またはその塩
を医薬として投薬する上において経口投与のみならず非
経口投与、とりわけ注射投与に適用することが一層容易
となることが理解できる。
−i式[I]の化合物またはその塩の溶解性が著しく改
善されることから、−服代[I]の化合物またはその塩
を医薬として投薬する上において経口投与のみならず非
経口投与、とりわけ注射投与に適用することが一層容易
となることが理解できる。
つぎに、−服代[I]の化合物またはその塩の製造法を
参考例を挙げてざらに詳細に説明する。
参考例を挙げてざらに詳細に説明する。
なお、参考例中で用いられる記号は、それぞれつぎの意
味を有する。
味を有する。
Me:メチル
Et:エチル
Z:ベンジルレオキシ力ルボニル
+ : tert−ブチル
Boc:tert−ブトキシカルボニルTHP: 2−
テトラヒドロピラニル TFAニトリフルオロ酢酸 DMSOニジメチルスルホキシド D20二重水 また、カラムクロマトグラフィーにおける担体は、特に
ことわらない限り、キーセルゲル60.アート7734
(にieselgel 6o、^rt、 7734、メ
ルク社製)を用いた。ざらに溶離液における混合比は、
すべて容量比である。
テトラヒドロピラニル TFAニトリフルオロ酢酸 DMSOニジメチルスルホキシド D20二重水 また、カラムクロマトグラフィーにおける担体は、特に
ことわらない限り、キーセルゲル60.アート7734
(にieselgel 6o、^rt、 7734、メ
ルク社製)を用いた。ざらに溶離液における混合比は、
すべて容量比である。
(以下余白)
参考例1
60%水素化ナトリウム10.2gをN、N−ジメチル
ホルムアミド500dに懸濁させ、水冷下、マロン酸ジ
ーtert−ブチルエステル55.0gを1時間を要し
て滴下し、同温度で10分間撹拌した後、ペンタフルオ
ロ安息香酸メチルエステル48.09を加え、空温で2
時間撹拌する。反応液を水11および酢酸エチ・ル40
Mの混合液に加え、6N塩酸でpH3に調整した後、有
R層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる
。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をトリフルオ
ロ酢1 is。
ホルムアミド500dに懸濁させ、水冷下、マロン酸ジ
ーtert−ブチルエステル55.0gを1時間を要し
て滴下し、同温度で10分間撹拌した後、ペンタフルオ
ロ安息香酸メチルエステル48.09を加え、空温で2
時間撹拌する。反応液を水11および酢酸エチ・ル40
Mの混合液に加え、6N塩酸でpH3に調整した後、有
R層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる
。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をトリフルオ
ロ酢1 is。
dに溶解させ、空温で20時間撹拌する。減圧下に反応
液を濃縮し、得られた残留物にジエチルエーテル200
dおよび水600m1を加え、有機層を分取する。分取
した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水1/IM酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒
を留去し、得られた残留物にトルエン50dを加え、1
.5時間還流する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた
残留物にn−ヘキサンを加えて結晶をi戸数すれば、4
−カルボキシメチル−2,3,5,6−テトラフルオロ
安息香酸メチルエステル31.3g(収率55.5%)
を得る。
液を濃縮し、得られた残留物にジエチルエーテル200
dおよび水600m1を加え、有機層を分取する。分取
した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水1/IM酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒
を留去し、得られた残留物にトルエン50dを加え、1
.5時間還流する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた
残留物にn−ヘキサンを加えて結晶をi戸数すれば、4
−カルボキシメチル−2,3,5,6−テトラフルオロ
安息香酸メチルエステル31.3g(収率55.5%)
を得る。
IR(KBr)cm−1ニジ 1735.1720(s
h)C=O 同様にして、つぎの化合物を得る。
h)C=O 同様にして、つぎの化合物を得る。
04−カルボキシメチル−2,3,5−1〜リフルオロ
安息香酸エチルエステル IR(KBr)cm−’ ; v 1710C=O 参考例2 4−カルボキシメチル−2,3,5,6−テトラフルオ
ロ安息香酸メチルエステル31.3gをジエチルエーテ
ル50m1に溶解させ、空温でジフェニルジアゾメタン
−石油エーテル溶液を赤色が消失しなくなるまで滴下す
る。析出結晶を戸取すれば、4−ジフェニルメトキシカ
ルボニルメチル−2゜3.5.6−テトラフルオロ安息
@酸メチルエステル48.69 (収率95.7%)を
得る。
安息香酸エチルエステル IR(KBr)cm−’ ; v 1710C=O 参考例2 4−カルボキシメチル−2,3,5,6−テトラフルオ
ロ安息香酸メチルエステル31.3gをジエチルエーテ
ル50m1に溶解させ、空温でジフェニルジアゾメタン
−石油エーテル溶液を赤色が消失しなくなるまで滴下す
る。析出結晶を戸取すれば、4−ジフェニルメトキシカ
ルボニルメチル−2゜3.5.6−テトラフルオロ安息
@酸メチルエステル48.69 (収率95.7%)を
得る。
IR(にBr)cm−1ニジ 1730C:O
同様にして、つぎの化合物を得る。
04−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−2゜3.
5−トリフルオロ安息香酸エチルエステルIR(にBr
)cm−1ニジ 1730C=O 参考例3 4−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−2゜3.5
.6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステル48.6
9をN、N−ジメチルホルムアミド486威に溶解させ
、パラホルムアルデヒド3.549およびナトリウムメ
チラート61mgを加え、空温で2時間撹拌する。反応
液に酢酸エチル300dおよび水800m1を加え;有
機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる
。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロ
マトグラフィー(溶離液;トルエン:酢酸エチル=10
:1)で精製すれば、4−(1−ジフェニルメトキシカ
ルボニル−2−ヒドロキシエチル)−2,3,5゜6−
テトラフルオロ安息香酸メチルエステル35.01j(
収率67.0%)を得る。
5−トリフルオロ安息香酸エチルエステルIR(にBr
)cm−1ニジ 1730C=O 参考例3 4−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−2゜3.5
.6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステル48.6
9をN、N−ジメチルホルムアミド486威に溶解させ
、パラホルムアルデヒド3.549およびナトリウムメ
チラート61mgを加え、空温で2時間撹拌する。反応
液に酢酸エチル300dおよび水800m1を加え;有
機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる
。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロ
マトグラフィー(溶離液;トルエン:酢酸エチル=10
:1)で精製すれば、4−(1−ジフェニルメトキシカ
ルボニル−2−ヒドロキシエチル)−2,3,5゜6−
テトラフルオロ安息香酸メチルエステル35.01j(
収率67.0%)を得る。
IRに−ト) cm−1: l) 1735C=O
同様にして、つぎの化合物を得る。
o4−(1−ジフェニルメトキシカルボニル−2−ヒド
ロキシエチル)−2,3,5−トリフルオロ安息香酸エ
チルエステル −1゜ IRに−ト>cm、νc=o 1720参考例4 4−(1−ジフェニルメトキシカルボニル−2−ヒドロ
キシエチル)−2,3,5,6−テトラフルオロ安息香
酸メチルエステル35.09を塩化メチレン175m1
に溶解させ、水冷下、メタンスルホニルクロリド7.9
gを加えた後、トリエチルアミン16.89を10分間
を要して滴下し、同温度で1時間撹拌する。反応液に水
200威を加え、2N塩酸で1)Hlに調整した後、有
機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる
。ついで、減圧下に溶媒を留去すれば、4−(1−ジフ
ェニルメトキシカルボニルビニル テトラフルオロ安息香酸メチルエステル33、Og(収
率97.9%)を)qる。
ロキシエチル)−2,3,5−トリフルオロ安息香酸エ
チルエステル −1゜ IRに−ト>cm、νc=o 1720参考例4 4−(1−ジフェニルメトキシカルボニル−2−ヒドロ
キシエチル)−2,3,5,6−テトラフルオロ安息香
酸メチルエステル35.09を塩化メチレン175m1
に溶解させ、水冷下、メタンスルホニルクロリド7.9
gを加えた後、トリエチルアミン16.89を10分間
を要して滴下し、同温度で1時間撹拌する。反応液に水
200威を加え、2N塩酸で1)Hlに調整した後、有
機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる
。ついで、減圧下に溶媒を留去すれば、4−(1−ジフ
ェニルメトキシカルボニルビニル テトラフルオロ安息香酸メチルエステル33、Og(収
率97.9%)を)qる。
IRに−ト) cm” : v 1730C=O
同様にして、つぎの化合物を得る。
o4−(1−ジフェニルメトキシカルボニルビニル)−
2,3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル IRに−ト) cm−’ ; v 1720C=0 参考例5 4−(1−ジフェニルメトキシカルボニルビニル)−2
,3,゛5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル3.
089をジエチルエーテル30m1に溶解させ、水冷下
、N−メチル−N−二トロソウレア2.09から調製し
た、ジアゾメタン−ジエチルエーテル溶液を加え、変温
で12時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られ
た残留物をトルエン30mffに溶解させ、60℃で1
時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留
物をカラムクロマトグラフィー(溶離液:トルエン)で
精製すれば、4−(1−ジフェニルメトキシカルボニル
−2−メチルビニル)−2,3,5−トリフルオロ安息
香酸エチルエステル2.909 (収率91.2%)を
得る。
2,3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル IRに−ト) cm−’ ; v 1720C=0 参考例5 4−(1−ジフェニルメトキシカルボニルビニル)−2
,3,゛5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル3.
089をジエチルエーテル30m1に溶解させ、水冷下
、N−メチル−N−二トロソウレア2.09から調製し
た、ジアゾメタン−ジエチルエーテル溶液を加え、変温
で12時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られ
た残留物をトルエン30mffに溶解させ、60℃で1
時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留
物をカラムクロマトグラフィー(溶離液:トルエン)で
精製すれば、4−(1−ジフェニルメトキシカルボニル
−2−メチルビニル)−2,3,5−トリフルオロ安息
香酸エチルエステル2.909 (収率91.2%)を
得る。
IRに−ト) cm−1: v 1715C=O
参考例6
4−(1−ジフェニルメトキシカルボニルビニル)−2
,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステル
3,2gをアニソール15rn1に溶解させ、トリフル
オロ酢酸15m1を加えた後、変温で1時間撹拌する。
,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステル
3,2gをアニソール15rn1に溶解させ、トリフル
オロ酢酸15m1を加えた後、変温で1時間撹拌する。
減圧下に反応液を濃縮し1.得られた残留物にn−ヘキ
サン20威を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でp
H7,5に調整した後、水層を分取する。分取した水層
に酢酸エチル50dを加え、6N塩酸でI)Hlに調整
した後、有機層を分取する。
サン20威を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でp
H7,5に調整した後、水層を分取する。分取した水層
に酢酸エチル50dを加え、6N塩酸でI)Hlに調整
した後、有機層を分取する。
分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。ついで、減圧下
に溶媒を留去すれば、4−(1−力ルボキシビニル)−
2,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステ
ル1゜9g(収率95.0%)を得る。
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。ついで、減圧下
に溶媒を留去すれば、4−(1−力ルボキシビニル)−
2,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステ
ル1゜9g(収率95.0%)を得る。
−1゜
IR(KBr)cm、νc=o 1730,1695同
様にして、つぎの化合物を得る。
様にして、つぎの化合物を得る。
o4−(1−カルボキシビニル
トリフルオロ安息香酸エチルエステル
IR(にBr)cm−1;ν 1710,1695(S
h)C=O 参考例7 4−(1−カルボキシビニル 6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステル3.03を
N,N−ジメチルホルムアミド20威に溶解させ、13
0〜140℃で1.5時間撹拌する。減圧下に反応液を
濃縮し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー(
溶離液;トルエン二〇ーヘキサン=1=1)で精製すれ
ば、2,3,5.6−テトラフルオロ−4−ビニル安息
香酸メチルエステル2、09(収率79,1%)を得る
。
h)C=O 参考例7 4−(1−カルボキシビニル 6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステル3.03を
N,N−ジメチルホルムアミド20威に溶解させ、13
0〜140℃で1.5時間撹拌する。減圧下に反応液を
濃縮し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー(
溶離液;トルエン二〇ーヘキサン=1=1)で精製すれ
ば、2,3,5.6−テトラフルオロ−4−ビニル安息
香酸メチルエステル2、09(収率79,1%)を得る
。
IR にート) cm−1ニジ 1740C=O
同様にして、つぎの化合物を得る。
02、3.5−トリフルオロ−4−ビニル安息香酸エチ
ルエステル IR にート>cm−’ニジ 1720C=O 参考例8 2、3.5.6−テトラフルオロ−4−ビニル安息香酸
メチルエステル280gをジエチルエーテル10mlに
溶解させ、氷冷下、N−メチル−N−二トロソウレア3
.09から調製した、ジアゾメタン−ジエチルエーテル
溶液を加え、変温で2時間撹拌する。減圧下に反応液を
濃縮し、得られた残留物をキシレン15mlに溶解させ
、1時間還流する。
ルエステル IR にート>cm−’ニジ 1720C=O 参考例8 2、3.5.6−テトラフルオロ−4−ビニル安息香酸
メチルエステル280gをジエチルエーテル10mlに
溶解させ、氷冷下、N−メチル−N−二トロソウレア3
.09から調製した、ジアゾメタン−ジエチルエーテル
溶液を加え、変温で2時間撹拌する。減圧下に反応液を
濃縮し、得られた残留物をキシレン15mlに溶解させ
、1時間還流する。
ついで、減圧下に反応液を濃縮すれば、4−シクロプロ
ピル−2.3,5.6−テトラフルオロ安息香酸メチル
エステル2.19 (収率99.1%)を得る。
ピル−2.3,5.6−テトラフルオロ安息香酸メチル
エステル2.19 (収率99.1%)を得る。
IRにート) cm” : シ1735C;O
同様にして、つぎの化合物を得る。
o4−シクロプロピル−2.3.5−トリフルオロ安息
香酸エチルエステル IRにート)Cm−1ニジ、。’1715参考例9 60%水素化ナトリウム3.7gをN、N−ジメチルホ
ルムアミド330 mf!に懸濁させ、水冷下、ヨウ化
トリメチルスルホキソニウム20.2gを加え、空温で
1時間撹拌した後、4−(1−ジフェニルメトキシカル
ボニルビニル)−2,3,5,6−テトラフルオロ安息
香酸メチルエステル33.0gを加え、同温度で2時間
撹拌する。反応液に酢酸エチル・30ht)および水9
00dを加え、2N塩酸でl)1′11に調整した後、
有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムク
ロマトグラフィー(溶離液;トルエン)で精製すれば、
4−(1−ジフェニルメトキシカルボニルシクロプロピ
ルル)−2,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸メチ
ルエステル22.5g(収率66.1%)を得る。
香酸エチルエステル IRにート)Cm−1ニジ、。’1715参考例9 60%水素化ナトリウム3.7gをN、N−ジメチルホ
ルムアミド330 mf!に懸濁させ、水冷下、ヨウ化
トリメチルスルホキソニウム20.2gを加え、空温で
1時間撹拌した後、4−(1−ジフェニルメトキシカル
ボニルビニル)−2,3,5,6−テトラフルオロ安息
香酸メチルエステル33.0gを加え、同温度で2時間
撹拌する。反応液に酢酸エチル・30ht)および水9
00dを加え、2N塩酸でl)1′11に調整した後、
有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムク
ロマトグラフィー(溶離液;トルエン)で精製すれば、
4−(1−ジフェニルメトキシカルボニルシクロプロピ
ルル)−2,3,5,6−テトラフルオロ安息香酸メチ
ルエステル22.5g(収率66.1%)を得る。
IRに−ト) cm” ; v 1735C=0
同様にして、つぎの化合物を得る。
o4−(1−ジフェニルメトキシカルボニルシクロプロ
ピル 香酸エチルエステル IR (にBr)cm−1: v 1725C=O o4− (1−ジフェニルメトキシカルボニル−2−メ
チルシクロプロピル)−2.3.5−トリフルオロ安息
香酸エチルエステル IRにート) cm−1; シ1715C=O 参考例10 4−(1−ジフェニルメトキシカルボニルシクロプロピ
ル)−2.3,5.6−テトラフルオロ安息香酸メチル
エステル22. 5 9をアニソール60dに溶解さ°
せ、トリフルオロ酢M80mf!を加え、空温で2時間
撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物に
n−ヘキサンを加えて結晶をン戸数すれば、4−(1−
カルボキシシクロプロピル)−2、3,5.6−テトラ
フルオロ安息香酸メチルエステル12.7g(収率88
.8%)を得る。
ピル 香酸エチルエステル IR (にBr)cm−1: v 1725C=O o4− (1−ジフェニルメトキシカルボニル−2−メ
チルシクロプロピル)−2.3.5−トリフルオロ安息
香酸エチルエステル IRにート) cm−1; シ1715C=O 参考例10 4−(1−ジフェニルメトキシカルボニルシクロプロピ
ル)−2.3,5.6−テトラフルオロ安息香酸メチル
エステル22. 5 9をアニソール60dに溶解さ°
せ、トリフルオロ酢M80mf!を加え、空温で2時間
撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物に
n−ヘキサンを加えて結晶をン戸数すれば、4−(1−
カルボキシシクロプロピル)−2、3,5.6−テトラ
フルオロ安息香酸メチルエステル12.7g(収率88
.8%)を得る。
IR ( KBr)cm−’ ニジ 1745, 16
90C;O 同様にして、つぎの化合物を得る。
90C;O 同様にして、つぎの化合物を得る。
o4−(1−カルボキシシクロプロピル)−2。
3、5−トリフルオロ安息@酸エチルエステルIR(K
Br)ri−1ニジ1715.1685C:0 04−(1−カルボキシ−2−メチルシクロプロピル)
−2.3.5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル IR(にBr)cm−’ ニジ 1715,1690C
=O 参考例11 4−(1−カルボキシシクロプロピル 3、5.6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステル5
00mJをバーナー直火で約20秒間反応させ、脱炭酸
を完結させる。得られた残留物をカラムクロマトグラフ
ィー(溶離液;トルエン)で精製すれば、4−シクロプ
ロピル−2.3,5.6−テトラフルオロ安息香酸メチ
ルエステル210mff (、収率49.5%)を1昇
る。
Br)ri−1ニジ1715.1685C:0 04−(1−カルボキシ−2−メチルシクロプロピル)
−2.3.5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル IR(にBr)cm−’ ニジ 1715,1690C
=O 参考例11 4−(1−カルボキシシクロプロピル 3、5.6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステル5
00mJをバーナー直火で約20秒間反応させ、脱炭酸
を完結させる。得られた残留物をカラムクロマトグラフ
ィー(溶離液;トルエン)で精製すれば、4−シクロプ
ロピル−2.3,5.6−テトラフルオロ安息香酸メチ
ルエステル210mff (、収率49.5%)を1昇
る。
同様にして、つぎの化合物を得る。
04−シクロプロピル−2.3.5−トリフルオロ安息
香酸エチルエステル これらの化合物の物性は、参考例8で得られたものと一
致した。
香酸エチルエステル これらの化合物の物性は、参考例8で得られたものと一
致した。
参考例12
4−(1−カルボキシシクロプロピル)−2。
3、5.6−テトラフルオロ安息香酸メチルエステル9
.0gをN,N−ジメチルホルムアミド90mlに溶解
させ、氷冷下、クロル炭酸エチル4.0’jaよびトリ
エチルアミン3.79を加え、同温度で30分間撹拌す
る。ついで、水冷下、アジ化ナトリウム2.69を加え
、同温度で1時間撹拌する。反応液に酢酸エチル150
mflおよび水300威を加え、2N塩酸でpH1に調
整した後、有機層を分取する。
.0gをN,N−ジメチルホルムアミド90mlに溶解
させ、氷冷下、クロル炭酸エチル4.0’jaよびトリ
エチルアミン3.79を加え、同温度で30分間撹拌す
る。ついで、水冷下、アジ化ナトリウム2.69を加え
、同温度で1時間撹拌する。反応液に酢酸エチル150
mflおよび水300威を加え、2N塩酸でpH1に調
整した後、有機層を分取する。
分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をジオキリン90mおよびベン
ジルアルコール8.19に溶解させ、1時間還流する。
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をジオキリン90mおよびベン
ジルアルコール8.19に溶解させ、1時間還流する。
減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物をカラムクロ
マトグラフィー(溶離液;トルエン)で精製すれば、4
−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロビ
ル)−2、3,5.6−テトラフルオロ安息香酸メチル
エステル10.6g(収率86.9%)を得る。
マトグラフィー(溶離液;トルエン)で精製すれば、4
−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロビ
ル)−2、3,5.6−テトラフルオロ安息香酸メチル
エステル10.6g(収率86.9%)を得る。
IR(にBr) cm”’ ; シ1740,1700
C:0 同様にして、つぎの化合物を得る。
C:0 同様にして、つぎの化合物を得る。
o4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプ
ロピル)−2,3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエ
ステル IR(にBr) cm” ;ν 1735.1700C
=O o4−(’l−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−
メチルシクロプロピル)−2.3,、5−トリフルオロ
安息香酸エチルエステル IR にート) cm−’ : シ1710C:O 参考例13 (1) 2.3.5−トリフルオロ−4−ビニル安息
香酸エチルエステル15.65 9を塩化メチレン1B
0rrIlに溶解させ、臭素11.4gを加え、空温で
3時間撹拌する。反応液に水100 mI2を加えた後
、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を塩化メ
チレン100dに溶解させ、水冷下、1、8−ジアザビ
シクロ[5.4.01ウンデク−7−ニン20.7gを
加え、空温で1時間撹拌する。
ロピル)−2,3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエ
ステル IR(にBr) cm” ;ν 1735.1700C
=O o4−(’l−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−
メチルシクロプロピル)−2.3,、5−トリフルオロ
安息香酸エチルエステル IR にート) cm−’ : シ1710C:O 参考例13 (1) 2.3.5−トリフルオロ−4−ビニル安息
香酸エチルエステル15.65 9を塩化メチレン1B
0rrIlに溶解させ、臭素11.4gを加え、空温で
3時間撹拌する。反応液に水100 mI2を加えた後
、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物を塩化メ
チレン100dに溶解させ、水冷下、1、8−ジアザビ
シクロ[5.4.01ウンデク−7−ニン20.7gを
加え、空温で1時間撹拌する。
反応液に水100−を加え、2N塩酸でl)8 1.5
に調整した後、有機層を分取する。分取した有機層を水
および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去した後、得られ
た残留物をN,N−ジメチルホルムアミド30dに溶解
させる。
に調整した後、有機層を分取する。分取した有機層を水
および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去した後、得られ
た残留物をN,N−ジメチルホルムアミド30dに溶解
させる。
(2) 60%水素化ナトリウム1.909をN.、
N−ジメチルホルムアミド150dに懸濁させ、水冷下
、マロン酸ジーtertーブチルエステル10.15g
を15分間を要して滴下し、同温度で1時間撹拌する。
N−ジメチルホルムアミド150dに懸濁させ、水冷下
、マロン酸ジーtertーブチルエステル10.15g
を15分間を要して滴下し、同温度で1時間撹拌する。
この反応液に水冷下、(1)で得られたN,N−ジメチ
ルホルムアミド溶液を5分間を要して滴下し、空温で1
2時間撹拌する。反応液を酢酸エチル250dおよび水
300dの混合液に加え、2N塩酸でpH3に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄した後、無水ti酸マグネシウムで乾
燥ざぜる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカ
ラムクロマトグラフィー(溶離液;トルエン)で精製す
れば、4−(2,2−ジーtertーブトキシカルボニ
ルシクロプロピル エチルエステル12.69g(収率42,0%)を得る
。
ルホルムアミド溶液を5分間を要して滴下し、空温で1
2時間撹拌する。反応液を酢酸エチル250dおよび水
300dの混合液に加え、2N塩酸でpH3に調整した
後、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和
食塩水で順次洗浄した後、無水ti酸マグネシウムで乾
燥ざぜる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカ
ラムクロマトグラフィー(溶離液;トルエン)で精製す
れば、4−(2,2−ジーtertーブトキシカルボニ
ルシクロプロピル エチルエステル12.69g(収率42,0%)を得る
。
−1。
IR(にBr)cm.νc=o 1720(sh)、1
710参考例14 4−(2,2−ジーtertーブトキシカルボニルシク
ロプロピル)−2,’3.5ートリフルオロ安息香敢エ
チルエステル9.39にトリフルオロ酢酸187を加え
た後、空温で12時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮
し、得られた残留物をバーナー直火で約20秒間反応さ
せ、脱炭酸を完結させる。得られた残留物にジエチルエ
ーテル100mlおよび水200 Idを加え、10%
炭酸ナトリウム水溶液でI)119、5に調整した後、
水層を分取する。分取した水層にジエチルエーテル10
0 dを加え、2N塩酸でplll.5に調整した後、
有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水Ia酸マグネシウムで乾燥さ
せる。ついで、減圧下に溶媒を留去すれば、4−(2−
カルボキシシクロプロピル)−2.3.5−トリフルオ
ロ安息香酸エチルエステル3.309 (収率54.7
%)を得る。
710参考例14 4−(2,2−ジーtertーブトキシカルボニルシク
ロプロピル)−2,’3.5ートリフルオロ安息香敢エ
チルエステル9.39にトリフルオロ酢酸187を加え
た後、空温で12時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮
し、得られた残留物をバーナー直火で約20秒間反応さ
せ、脱炭酸を完結させる。得られた残留物にジエチルエ
ーテル100mlおよび水200 Idを加え、10%
炭酸ナトリウム水溶液でI)119、5に調整した後、
水層を分取する。分取した水層にジエチルエーテル10
0 dを加え、2N塩酸でplll.5に調整した後、
有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水Ia酸マグネシウムで乾燥さ
せる。ついで、減圧下に溶媒を留去すれば、4−(2−
カルボキシシクロプロピル)−2.3.5−トリフルオ
ロ安息香酸エチルエステル3.309 (収率54.7
%)を得る。
−1。
IR(にBr)cm,νc=o 1725(Sh)、1
700参考例15 4−(2−カルボキシシクロプロピル 3、5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル1、00
9を酢ltertーブチル10mlに溶解させ、70%
過塩素酸水溶液0.2戒を加え、空温で1時間撹拌する
。反応液に酢酸エチル40IIIIlおよび水20dを
加え、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽
和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカ
ラムクロマトグラフィー(溶離液;n−ヘキサン:トル
エン=1:1)で精製すれば、4−(2−tert−ブ
トキシカルボニルシクロプロピル エチルエステル0.819(収率68.1%)を1qる
。
700参考例15 4−(2−カルボキシシクロプロピル 3、5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル1、00
9を酢ltertーブチル10mlに溶解させ、70%
過塩素酸水溶液0.2戒を加え、空温で1時間撹拌する
。反応液に酢酸エチル40IIIIlおよび水20dを
加え、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽
和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカ
ラムクロマトグラフィー(溶離液;n−ヘキサン:トル
エン=1:1)で精製すれば、4−(2−tert−ブ
トキシカルボニルシクロプロピル エチルエステル0.819(収率68.1%)を1qる
。
IRにート) cm” : v 1720C:O
参考例16
4−(2−カルボキシシクロプロピル)−2゜3.5−
トリフルオロ安息香酸エチルエステル6.009を無水
テトラヒドロフラン60或に溶解させ、水冷下、1Mボ
ランのテトラヒドロフラン溶液42dを加え、空温で1
.5時間撹拌する。反応液を酢酸エチル100dおよび
水100 dの混合液に加え、2N塩酸でI)81に調
整した後、有機層を分取する。
トリフルオロ安息香酸エチルエステル6.009を無水
テトラヒドロフラン60或に溶解させ、水冷下、1Mボ
ランのテトラヒドロフラン溶液42dを加え、空温で1
.5時間撹拌する。反応液を酢酸エチル100dおよび
水100 dの混合液に加え、2N塩酸でI)81に調
整した後、有機層を分取する。
分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー(
溶離液;トルエン:酢酸エチル=4:1)で精製すれば
、4−(2−ヒドロキシメチルシクロプロピル)−2,
3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル4.40
9 (収率77.1%)を得る。
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー(
溶離液;トルエン:酢酸エチル=4:1)で精製すれば
、4−(2−ヒドロキシメチルシクロプロピル)−2,
3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル4.40
9 (収率77.1%)を得る。
IRに−ト) cm” : シ1720C=O
参考例17
4−(2−ヒドロキシメチルシクロプロピル)−2,3
,5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル4.00g
を塩化メチレン60dに溶解させ、氷冷下、トリエチル
アミン1□629iよびメタンスルホニルクロリド1.
84gを加え、空温で2時間撹拌する。反応液に水60
戴を加え、2N塩酸でpH1に調整した後、有機層を分
取する。分取した有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物をN、N−ジメチルホルムアミド60mに溶
解させ、氷冷下、tert−ブチルメチルイミノカルボ
キシレートのカリウム塩3゜429を加え、空温で48
時間撹拌する。反応液を酢酸エチル1007!および水
100 dの混合液に加え、2N塩酸でpH1,5に調
整した後、有機層を分取する。分取した有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物
をカラムクロマトグラフィー(溶離液;トルエン:酢酸
エチル=20:1)で精製すれば、4− [2−(N−
tert−ブトキシカルボニル−N−メトキシカルボニ
ルアミノメチル)シクロプロピル]−2.3.5−トリ
フルオロ安息香酸エチルエステル5.229 (収率8
2.9%)を得る。
,5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル4.00g
を塩化メチレン60dに溶解させ、氷冷下、トリエチル
アミン1□629iよびメタンスルホニルクロリド1.
84gを加え、空温で2時間撹拌する。反応液に水60
戴を加え、2N塩酸でpH1に調整した後、有機層を分
取する。分取した有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物をN、N−ジメチルホルムアミド60mに溶
解させ、氷冷下、tert−ブチルメチルイミノカルボ
キシレートのカリウム塩3゜429を加え、空温で48
時間撹拌する。反応液を酢酸エチル1007!および水
100 dの混合液に加え、2N塩酸でpH1,5に調
整した後、有機層を分取する。分取した有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物
をカラムクロマトグラフィー(溶離液;トルエン:酢酸
エチル=20:1)で精製すれば、4− [2−(N−
tert−ブトキシカルボニル−N−メトキシカルボニ
ルアミノメチル)シクロプロピル]−2.3.5−トリ
フルオロ安息香酸エチルエステル5.229 (収率8
2.9%)を得る。
IRに−ト)cm−1ニジ 1780.1740(s
h)。
h)。
C;0
715
参考例18
4− [2−(N −tert−7トーt−/力/lz
ホニルーN−メトキシカルボニルアミノメチル ロピル]ー2.3.5ートリフルオロ安息香酸エチルエ
ステル5.22gをエタノール60威に溶解させ、1N
水酸化ナトリウム水溶液60威を加え、空温で2時間撹
拌する。反応液に水60mlを加え、6N塩酸でI)H
8に調整した後、酢酸エチル150dを加え、水層を分
取する。分取した水層に酢酸エチル100威を加え、6
N塩酸でl)H2に調整した後、有機層を分取する。分
取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。ついで、減圧下に
溶媒を留去すれば、4−(2−tert−ブトキシカル
ボニルアミノメチルシクロプロピル)−2.3.5−1
−リフルオロ安息香酸440g (収率98.1%)を
得る。
ホニルーN−メトキシカルボニルアミノメチル ロピル]ー2.3.5ートリフルオロ安息香酸エチルエ
ステル5.22gをエタノール60威に溶解させ、1N
水酸化ナトリウム水溶液60威を加え、空温で2時間撹
拌する。反応液に水60mlを加え、6N塩酸でI)H
8に調整した後、酢酸エチル150dを加え、水層を分
取する。分取した水層に酢酸エチル100威を加え、6
N塩酸でl)H2に調整した後、有機層を分取する。分
取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。ついで、減圧下に
溶媒を留去すれば、4−(2−tert−ブトキシカル
ボニルアミノメチルシクロプロピル)−2.3.5−1
−リフルオロ安息香酸440g (収率98.1%)を
得る。
IR(にBr) cm” ニジ 1720, 1700
C=O 参考例19 4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロ
ピル)−2.3,5.6−テトラフルオロ安息香酸メチ
ルエステル1.8gをメタノール14mlおよびジオキ
サン147!の混合液に溶解させ、1N水酸化ナトリウ
ム水溶液14mlを加え、空温で1時間撹拌する。反応
液に水50m(!を加え、2N塩酸でpH1に調整した
後、酢酸エチル507を加え、有機層を分取する。分取
した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物にn−ヘキサンを加えて結晶をi戸
数すれば、4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノ
シクロプロピル)−2.3,5.6−テトラフルオロ安
卑香酸1.7g(収率97.7%)を得る。
C=O 参考例19 4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロ
ピル)−2.3,5.6−テトラフルオロ安息香酸メチ
ルエステル1.8gをメタノール14mlおよびジオキ
サン147!の混合液に溶解させ、1N水酸化ナトリウ
ム水溶液14mlを加え、空温で1時間撹拌する。反応
液に水50m(!を加え、2N塩酸でpH1に調整した
後、酢酸エチル507を加え、有機層を分取する。分取
した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物にn−ヘキサンを加えて結晶をi戸
数すれば、4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノ
シクロプロピル)−2.3,5.6−テトラフルオロ安
卑香酸1.7g(収率97.7%)を得る。
IR(KBr) cm−’ ;ν 1735C=O
同様にして、表−3の化合物を得る。
(以下余白)
表−3
参考例20
(1) (i) 4−(1−ベンジルオキシカルボ二
ルアミノシクロプロピル)−2,3,5,6−テトラフ
ルオロ安息香11.50gに塩化チオニル4.66gお
よびN、N−ジメチルホルムアミド0.1miを加え、
40〜50℃で1時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮
し、得られた残留物をトルエン20威に溶解させる。
ルアミノシクロプロピル)−2,3,5,6−テトラフ
ルオロ安息香11.50gに塩化チオニル4.66gお
よびN、N−ジメチルホルムアミド0.1miを加え、
40〜50℃で1時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮
し、得られた残留物をトルエン20威に溶解させる。
(ii) 60%水素化ナトリウム470mgを無水
テトラヒドロフラン10m1に懸澗させ、氷冷下、te
rt−ブチル=エチル=マロナート2.2ogを15分
間を要して滴下し、同温度で20分間撹拌する。ついで
、反応液を一20℃に冷却し、同温度で(i)で得られ
たトルエン溶液を10分間を要して滴下し、−20〜−
10℃で309間撹拌する。反応液に酢酸エチル20d
および水20dを加え、2N塩酸でpH1に調整した後
、有機層を分取する。分取した有数層を水および飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去した後1.得られた残留物に
トリフルオロ酢1iomf!を加え、空温で12時間攪
拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物に酢
酸エチル20mおよび水20dを加えた後、有機層を分
取する。分取した有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;トル
ニジ:酢酸エチル=20:1)で精製すれば、4−(1
−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピル)−
2,・3.5.6−チトラフルオロベンゾイル酢酸エチ
ルエステル1.569(収率87.6%)を得る。
テトラヒドロフラン10m1に懸澗させ、氷冷下、te
rt−ブチル=エチル=マロナート2.2ogを15分
間を要して滴下し、同温度で20分間撹拌する。ついで
、反応液を一20℃に冷却し、同温度で(i)で得られ
たトルエン溶液を10分間を要して滴下し、−20〜−
10℃で309間撹拌する。反応液に酢酸エチル20d
および水20dを加え、2N塩酸でpH1に調整した後
、有機層を分取する。分取した有数層を水および飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去した後1.得られた残留物に
トリフルオロ酢1iomf!を加え、空温で12時間攪
拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物に酢
酸エチル20mおよび水20dを加えた後、有機層を分
取する。分取した有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;トル
ニジ:酢酸エチル=20:1)で精製すれば、4−(1
−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピル)−
2,・3.5.6−チトラフルオロベンゾイル酢酸エチ
ルエステル1.569(収率87.6%)を得る。
IR(KBr) cm−1ニジ 1γ10C=O
同様にして、つぎの化合物を得る。
04−シクロプロピル−2,3,5,6−チトラフルオ
ロベンゾイル酢酸エチルエステルIRに−ト) cm−
1: シ1745.1705C=0 (2) 4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノ
シクロプロピルル 安息香酸7.509を無水テトラヒドロフラン75威に
溶解させ、水冷下、N、N−一カルポニルジイミダゾー
ル4.999を加え、空温で1時間撹拌した後、エトキ
シカルボニル酢酸のマグネシウム塩4.40gを加え、
同温度で20時間撹拌する。反応液を酢酸エチル15(
7!および水20Mの混合液に加え、2N塩酸でpH1
に調整した後、有機層を分取する。
ロベンゾイル酢酸エチルエステルIRに−ト) cm−
1: シ1745.1705C=0 (2) 4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノ
シクロプロピルル 安息香酸7.509を無水テトラヒドロフラン75威に
溶解させ、水冷下、N、N−一カルポニルジイミダゾー
ル4.999を加え、空温で1時間撹拌した後、エトキ
シカルボニル酢酸のマグネシウム塩4.40gを加え、
同温度で20時間撹拌する。反応液を酢酸エチル15(
7!および水20Mの混合液に加え、2N塩酸でpH1
に調整した後、有機層を分取する。
分取した有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水お
よび飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;トルエン:酢
酸エチル=50 : 1)で精製すれば、4−(1−ペ
ンジルレオキシ力ルポ二ルアミノシクロプロピル)−2
,3,5−トリフルオロベンゾイル酢酸エチルエステル
ajog(収率90.6%)を得る。
よび飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;トルエン:酢
酸エチル=50 : 1)で精製すれば、4−(1−ペ
ンジルレオキシ力ルポ二ルアミノシクロプロピル)−2
,3,5−トリフルオロベンゾイル酢酸エチルエステル
ajog(収率90.6%)を得る。
IRに−ト) cm−1ニジ 1725.1700(
Sh)C:O 同様にして、表−4の化合物を得る。
Sh)C:O 同様にして、表−4の化合物を得る。
表−4
(以下余白)
一一一斗一一一
参考例21
(1) 4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノ
シクロプロピル ベンゾイル酢酸エチルエステル3.009をベンゼン3
0mlに溶解させ、N,N−ジメチルホルムアミドジメ
チルアセタール3.’69gを加え、30分間還流する
。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物を、トルエ
ン15mIlに溶解させ、叶lー2ーアミノー1ープロ
パツール518mJを加え、空温で17時間撹拌する。
シクロプロピル ベンゾイル酢酸エチルエステル3.009をベンゼン3
0mlに溶解させ、N,N−ジメチルホルムアミドジメ
チルアセタール3.’69gを加え、30分間還流する
。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物を、トルエ
ン15mIlに溶解させ、叶lー2ーアミノー1ープロ
パツール518mJを加え、空温で17時間撹拌する。
減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物をカラムクロ
マトグラフィー(溶離液;トルエン:酢酸エチル=5:
1)で精製すれば、2− [4−(1−ベンジルオキシ
カルボニルアミノシクロプロピル)−2.3.5−トリ
フルオロベンゾイル]−3− (2−ヒドロキシ−1−
メチルエチルアミノ)アクリル酸エチルエステル3.0
9g(収率86.1%)を得る。
マトグラフィー(溶離液;トルエン:酢酸エチル=5:
1)で精製すれば、2− [4−(1−ベンジルオキシ
カルボニルアミノシクロプロピル)−2.3.5−トリ
フルオロベンゾイル]−3− (2−ヒドロキシ−1−
メチルエチルアミノ)アクリル酸エチルエステル3.0
9g(収率86.1%)を得る。
IR(KBr) cmτ1;ν 1690C:O
同様にして、表−5の化合物を1qる。
は、それぞれ、つぎの式の置換基を示す。
(以下余白)
人−5(続き)
<2) 4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノ
シクロプロビル)−2,3,5−トリフルオロベンゾイ
ル酢酸エチルエステルsoomgをベンゼン5dに溶解
させ、N、N−ジメチルホルムアミドジメチルアセター
ル411myを加え、40分間還流する。減圧下に反応
液を濃縮し、得られた残留物をエタノール5dに溶解さ
せ、2−7ミノチオエタノール・塩酸塩157/Jif
fおよびトリエチルアミン139#I9を加え、空温で
16時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた
残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液:トルエン
:酢酸エチル=5=1)で精製すれば、2− [4−(
1−ペンジルレオキシ力ルポ二ルアミノシクロプロピル
)−2゜3.5−トリフルオロベンゾイル]−3−(2
−メルカプトエチルアミノ テル250my (収率41.7%)を得る。
シクロプロビル)−2,3,5−トリフルオロベンゾイ
ル酢酸エチルエステルsoomgをベンゼン5dに溶解
させ、N、N−ジメチルホルムアミドジメチルアセター
ル411myを加え、40分間還流する。減圧下に反応
液を濃縮し、得られた残留物をエタノール5dに溶解さ
せ、2−7ミノチオエタノール・塩酸塩157/Jif
fおよびトリエチルアミン139#I9を加え、空温で
16時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた
残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液:トルエン
:酢酸エチル=5=1)で精製すれば、2− [4−(
1−ペンジルレオキシ力ルポ二ルアミノシクロプロピル
)−2゜3.5−トリフルオロベンゾイル]−3−(2
−メルカプトエチルアミノ テル250my (収率41.7%)を得る。
IR(にBr) cm−1;ν 1695C:O
参考例22
2−(4−シクロプロピル−2.3,5.6−チトラフ
ルオロベンゾイル)−3−(2−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチルアミノ)アクリル酸エチルエステル3oomg
をN,N−ジメチルホルムアミド3dに溶解ざぜ、炭酸
カリウム130myを加え、80〜90℃で30分間撹
拌する。反応液に水20成を加えて析出結晶を枦取すれ
ば、7−シクロブロピルー5.6.8−トリフルオロ−
1−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1,4−
ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸エチル
エステル240mg (収率84、5%)を得る。
ルオロベンゾイル)−3−(2−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチルアミノ)アクリル酸エチルエステル3oomg
をN,N−ジメチルホルムアミド3dに溶解ざぜ、炭酸
カリウム130myを加え、80〜90℃で30分間撹
拌する。反応液に水20成を加えて析出結晶を枦取すれ
ば、7−シクロブロピルー5.6.8−トリフルオロ−
1−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1,4−
ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸エチル
エステル240mg (収率84、5%)を得る。
IR(にBr) にB−1; v 1725.170
5C=O 同様にして、つぎの化合物を得る。
5C=O 同様にして、つぎの化合物を得る。
0 (S)−7− (1−ベンジルオキシカルボニルア
ミノシクロプロビル)−6.8−ジフルオロ=1 −
[2 − (N−tert−ブトキシカルボニル−N−
メチルアミン)−1−メチルエチル]−1。
ミノシクロプロビル)−6.8−ジフルオロ=1 −
[2 − (N−tert−ブトキシカルボニル−N−
メチルアミン)−1−メチルエチル]−1。
4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸エ
チルニスデル IR(KtSr) に(B−1;ν 1720. 16
80C=0 参考例23 トリフルオロ酢酸2iに、水冷下、 (S)−7−(1
−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピル)−
6,8−ジフルオロ−1−[2−(N−tert−ブト
キシカルボニル−N−メチルアミノ)−1−メチルエチ
ル]−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカ
ルボン酸エチルエステル300 mgを加え、同温度で
2.5時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られ
た残留物に酢酸エチル20m!および水10m1を加え
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH8に調整した後
、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。
チルニスデル IR(KtSr) に(B−1;ν 1720. 16
80C=0 参考例23 トリフルオロ酢酸2iに、水冷下、 (S)−7−(1
−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピル)−
6,8−ジフルオロ−1−[2−(N−tert−ブト
キシカルボニル−N−メチルアミノ)−1−メチルエチ
ル]−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカ
ルボン酸エチルエステル300 mgを加え、同温度で
2.5時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られ
た残留物に酢酸エチル20m!および水10m1を加え
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH8に調整した後
、有機層を分取する。分取した有機層を水および飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。
ついで、減圧下に溶媒を留去すれば、(S)−7−(1
−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピル −メチルアミノ)−1−メチルエチル]−1.4−ジヒ
ドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸エチルエス
テル240mg(収率96.0%)を得る。
−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピル −メチルアミノ)−1−メチルエチル]−1.4−ジヒ
ドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸エチルエス
テル240mg(収率96.0%)を得る。
IR(にBr) cm−1; シ1720, 1685
C=O 参考例24 7−シクロブロピルー5.6.8−トリフルオロ−1−
(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1.4−ジヒ
ドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸エチルエス
テル170Ir1gをN,N−ジメチルホルムアミド1
.7mlに溶解させ、60%水素化ナトリウム201n
’Jを加え、80〜90℃で15時間撹拌する。反応液
を酢酸エチル57!アよび水5dの混合液に加え、2N
塩酸でpH1.5に調整した後、析出結晶を炉取すれば
、10−シクロプロピル−8,9−ジフルオロ−3−メ
チル−7−オキツプ2,3−ジヒドロ−°7H−ピリド
[1. 2. 3 −de][1.4]ベンゾオキサジ
ン−6−カルボン酸エチルエステル63#Iff (収
率39.1%)を得る。
C=O 参考例24 7−シクロブロピルー5.6.8−トリフルオロ−1−
(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−1.4−ジヒ
ドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸エチルエス
テル170Ir1gをN,N−ジメチルホルムアミド1
.7mlに溶解させ、60%水素化ナトリウム201n
’Jを加え、80〜90℃で15時間撹拌する。反応液
を酢酸エチル57!アよび水5dの混合液に加え、2N
塩酸でpH1.5に調整した後、析出結晶を炉取すれば
、10−シクロプロピル−8,9−ジフルオロ−3−メ
チル−7−オキツプ2,3−ジヒドロ−°7H−ピリド
[1. 2. 3 −de][1.4]ベンゾオキサジ
ン−6−カルボン酸エチルエステル63#Iff (収
率39.1%)を得る。
IR(KBr) cm−1 ニジ 1725, 169
0C=O 参考例25 (S)−7−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシ
クロプロピル)−6.8−ジフルオロ−1−[2−(N
−メチルアミノ)−1−メチルエチル]−1.4−ジヒ
ドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸エチルエス
テル240mgをN,N−ジメチルホルムアミド5mf
!に溶解ざぜ、炭酸カリウム80m3を加え、下振で6
時間撹拌する。反応液を酢酸エチル2(7および水2(
7の混合液に加え、2N塩酸でpH3に調整した後、有
機層を分取する。
0C=O 参考例25 (S)−7−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシ
クロプロピル)−6.8−ジフルオロ−1−[2−(N
−メチルアミノ)−1−メチルエチル]−1.4−ジヒ
ドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸エチルエス
テル240mgをN,N−ジメチルホルムアミド5mf
!に溶解ざぜ、炭酸カリウム80m3を加え、下振で6
時間撹拌する。反応液を酢酸エチル2(7および水2(
7の混合液に加え、2N塩酸でpH3に調整した後、有
機層を分取する。
分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥ざぜる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物にジエチルエーテルを加えて結
晶をン戸数すれば、(S)−10−(1−ベンジルオキ
シカルボニルアミノシクロプロピル)−9−フルオロ−
1,3−ジメチル−7−オキソ−2.3−ジヒドロ−1
H,7H−ピリドN.2.3−de]キノキサリン−6
−カルボン酸エチルエステル120#+3(収率52.
2%)を得る。
、無水硫酸マグネシウムで乾燥ざぜる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物にジエチルエーテルを加えて結
晶をン戸数すれば、(S)−10−(1−ベンジルオキ
シカルボニルアミノシクロプロピル)−9−フルオロ−
1,3−ジメチル−7−オキソ−2.3−ジヒドロ−1
H,7H−ピリドN.2.3−de]キノキサリン−6
−カルボン酸エチルエステル120#+3(収率52.
2%)を得る。
IR(にBr) cm−’ : シ1715C=O
参考例26
2− [4− (1−ベンジルオキシカルボニルアミノ
シクロプロピル)−2.3.5−トリフルオロベンゾイ
ル]−3−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチルアミノ
)アクリル酸エチルエステル3、079をN.N−ジメ
チルホルムアミド25dに溶解させ、水冷下、60%水
素化ナトリウム519myを加え、下振で18時間撹拌
する。反応液を酢酸エチル507および水50dの混合
液に加え、2N塩酸でpH1に調整した後、有機層を分
取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下
に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラ
フィー(溶離液:トルエン:酢酸エチル=1:1)で精
製すれば、io−(1−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−
オキソ−2.3−ジヒドロ−7日−ピリドN,2.3−
de] [1.4]ペンゾオキザジン−6−カルボン酸
エチルエステル760 mg(収率26.9%)を得る
。
シクロプロピル)−2.3.5−トリフルオロベンゾイ
ル]−3−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチルアミノ
)アクリル酸エチルエステル3、079をN.N−ジメ
チルホルムアミド25dに溶解させ、水冷下、60%水
素化ナトリウム519myを加え、下振で18時間撹拌
する。反応液を酢酸エチル507および水50dの混合
液に加え、2N塩酸でpH1に調整した後、有機層を分
取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下
に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラ
フィー(溶離液:トルエン:酢酸エチル=1:1)で精
製すれば、io−(1−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−
オキソ−2.3−ジヒドロ−7日−ピリドN,2.3−
de] [1.4]ペンゾオキザジン−6−カルボン酸
エチルエステル760 mg(収率26.9%)を得る
。
IR(にBr) cm” ;ν 1715C=0
同様にして、表−6の化合物を1qる。
なお、表−6中のR2は、っぎの式の置換基を示す。
(以下余白)
人−6
IR(K8r) cm” ; v 1720C;O
れぞれ、つぎの式の置換基を示す。
(以下余白
参考例21
2−[4−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシク
ロプロビル)−2,3,5,6−チトラフルオロベンゾ
イル]−3−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチルアミ
ノ)アクリル酸エチルエステル2.079をN、N−ジ
メチルホルムアミド20m1に溶解させ、炭酸カリウム
1.179を加え、90〜100℃で3.5時間撹拌す
る。反応液を酢酸エチル40rniおよび水4Mの混合
液に加え、2N塩酸でpil、5に調整した後、有機層
を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチルエーテ
ルを加えて結晶を枦取すれば、1O−(1−ベンジルオ
キシカルボニルアミノシクロプロビル)−8゜9−ジフ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2゜3−ジヒドロ−
7日−ピリド[1,2,3−delN、4]ベンゾオキ
サジン−6−カルボン酸エチルエステル1.40g(収
率72.9%)を得る。
ロプロビル)−2,3,5,6−チトラフルオロベンゾ
イル]−3−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチルアミ
ノ)アクリル酸エチルエステル2.079をN、N−ジ
メチルホルムアミド20m1に溶解させ、炭酸カリウム
1.179を加え、90〜100℃で3.5時間撹拌す
る。反応液を酢酸エチル40rniおよび水4Mの混合
液に加え、2N塩酸でpil、5に調整した後、有機層
を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチルエーテ
ルを加えて結晶を枦取すれば、1O−(1−ベンジルオ
キシカルボニルアミノシクロプロビル)−8゜9−ジフ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2゜3−ジヒドロ−
7日−ピリド[1,2,3−delN、4]ベンゾオキ
サジン−6−カルボン酸エチルエステル1.40g(収
率72.9%)を得る。
ケ
戊 −
7(杜さ)
参考例28
10−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプ
ロピル ラヒドロピラニルオキシメチル)−7−オキソ−2、3
−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2.3−del[1.
4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチルエステル
90m’jをエタノール2dに溶解させ、p−トルエン
スルホン酸・1水和物1omgを加え、下振で4時間撹
拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物にエ
タノールを加えて結晶をン戸数すれば、10−(1−ベ
ンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピル ロキシメチル−7−オキソ−2.3−ジヒドロ−7日−
ピリド[1,2.3−del [1.4]ベンゾオキサ
ジン−6−カルボン酸エチルエステル47m9 (収率
61.0%)を得る。
ロピル ラヒドロピラニルオキシメチル)−7−オキソ−2、3
−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2.3−del[1.
4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチルエステル
90m’jをエタノール2dに溶解させ、p−トルエン
スルホン酸・1水和物1omgを加え、下振で4時間撹
拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた残留物にエ
タノールを加えて結晶をン戸数すれば、10−(1−ベ
ンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピル ロキシメチル−7−オキソ−2.3−ジヒドロ−7日−
ピリド[1,2.3−del [1.4]ベンゾオキサ
ジン−6−カルボン酸エチルエステル47m9 (収率
61.0%)を得る。
IR(K[Sr) cm−1ニジ 1715C=O
参考例29
10−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプ
ロピル メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
[1,2,3−del [1,4]ベンゾオキサジン
−ローカルポン酸エチルエステル380 mgを塩化メ
チレン4dに懸濁させ、水冷下、トリエチルアミン23
0mEIおよびメタンスルホニルクロリド260 mF
Iを加え、下部で30分間撹拌する。反応液に塩化メチ
レン10m17および水10m1を加え、2N塩酸でp
H1に調整した後、°有機層を分取する。分取した有機
層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物にベンゼン4.4威および1,8−ジアザビ
シクロ−[5,4,01ウンデク−7一エン175m!
!Fを加え、1時間還流する。
ロピル メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
[1,2,3−del [1,4]ベンゾオキサジン
−ローカルポン酸エチルエステル380 mgを塩化メ
チレン4dに懸濁させ、水冷下、トリエチルアミン23
0mEIおよびメタンスルホニルクロリド260 mF
Iを加え、下部で30分間撹拌する。反応液に塩化メチ
レン10m17および水10m1を加え、2N塩酸でp
H1に調整した後、°有機層を分取する。分取した有機
層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物にベンゼン4.4威および1,8−ジアザビ
シクロ−[5,4,01ウンデク−7一エン175m!
!Fを加え、1時間還流する。
反応液を酢酸エチル20ml1および水20mf!の混
合液に加え、2N塩酸で1)Hlに調整した後、有機層
を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマト
グラフィー(溶離液:トルエン:酢酸エチル=3:2)
で精製すれば、1O−(1−ベンジルオキシカルボニル
アミノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メチレン
−7−オキソ−2゜3−ジヒドロ−7H−ピリドN、2
,3−de]N、4]ベンゾオキサジン−6−カルボン
酸エチルエステル260mg(収率71.0%)を得る
。
合液に加え、2N塩酸で1)Hlに調整した後、有機層
を分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマト
グラフィー(溶離液:トルエン:酢酸エチル=3:2)
で精製すれば、1O−(1−ベンジルオキシカルボニル
アミノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メチレン
−7−オキソ−2゜3−ジヒドロ−7H−ピリドN、2
,3−de]N、4]ベンゾオキサジン−6−カルボン
酸エチルエステル260mg(収率71.0%)を得る
。
IR(にBr) cm−’ ニジ 1720.1685
C=O 参考例30 (S)−10−(2−tert−ブトキシカルボニルシ
クロプロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキ
ソ−2,・3−ジヒドロ−7H−ピリド[1゜2、3−
del [1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン
酸エチルエステル 酢酸Srdlを加えた後、下部で1時間撹拌する。減圧
下に反応液を濃縮し、得られた残留物にジエチルエーテ
ルを加えて結晶をン戸数すれば、(s)、−i。
C=O 参考例30 (S)−10−(2−tert−ブトキシカルボニルシ
クロプロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキ
ソ−2,・3−ジヒドロ−7H−ピリド[1゜2、3−
del [1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン
酸エチルエステル 酢酸Srdlを加えた後、下部で1時間撹拌する。減圧
下に反応液を濃縮し、得られた残留物にジエチルエーテ
ルを加えて結晶をン戸数すれば、(s)、−i。
−(2−カルボキシシクロプロピル)−9−フルオロ−
3−メチル−7−オキソ−2.3−ジヒドロ−7H−ピ
リド[1,2.3−del [1.4]ベンゾオキサ
ジン−6−カルボン酸エチルエステル460m!J(収
率92,9%)を得る。
3−メチル−7−オキソ−2.3−ジヒドロ−7H−ピ
リド[1,2.3−del [1.4]ベンゾオキサ
ジン−6−カルボン酸エチルエステル460m!J(収
率92,9%)を得る。
IR(KBr) cm−1: v 1720C=0
参考例31
(S)−10− (2−カルボキシシクロプロピル)−
9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2。
9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2。
3−ジヒドロ−7日−ピリド[’1. 2. 3−de
l[1.4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチル
エステル200m9をN.N−ジメチルホルムアミド4
dに懸濁させ、水冷下、クロル炭酸エチル70m3およ
びトリエチルアミン85mgを加え、同温度で15分間
撹拌する。ついで、水冷下、アジ化ナトリウム45m3
を加え、同温度で1時間撹拌する。反応液にクロロホル
ム20rd!および水20威を加え、2N塩酸でpH1
に調整した後、有機層を分取する。
l[1.4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチル
エステル200m9をN.N−ジメチルホルムアミド4
dに懸濁させ、水冷下、クロル炭酸エチル70m3およ
びトリエチルアミン85mgを加え、同温度で15分間
撹拌する。ついで、水冷下、アジ化ナトリウム45m3
を加え、同温度で1時間撹拌する。反応液にクロロホル
ム20rd!および水20威を加え、2N塩酸でpH1
に調整した後、有機層を分取する。
分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下にFJ’
Sを留去し、得られた残留物にジオキサン5戒およびベ
ンジルアルコール115m,9を加え、100’Cで1
.5時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた
残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホ
ルム:エタノール=15:1)で精製すれば、(S)−
10− (2−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロ
プロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−
2.3ージヒドローフHーピリド[1,2.3−del
[1.4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチル
エステル160 1nl (収率64.0%)を得る。
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下にFJ’
Sを留去し、得られた残留物にジオキサン5戒およびベ
ンジルアルコール115m,9を加え、100’Cで1
.5時間撹拌する。減圧下に反応液を濃縮し、得られた
残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホ
ルム:エタノール=15:1)で精製すれば、(S)−
10− (2−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロ
プロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−
2.3ージヒドローフHーピリド[1,2.3−del
[1.4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチル
エステル160 1nl (収率64.0%)を得る。
IR(KBr) cm” : シ1715C=0
参考例32
10−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプ
ロピル)−9−フルオロ−3−フルオロメチル−7−オ
キソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2.3−
(IO3 [1.4]ベンゾオキサジン−6−カルボン
酸エチルエステル52m3に30%臭化水素−酢酸溶液
1mlを加え、下部で1時間撹拌する。減圧下に反応液
を濃縮し、得られた残留物にジエチルエーテル10ml
および水20威を加えた後、水層を分取する。分取した
水層に酢酸エチル20威を加え、飽和炭酸水系ナトリウ
ム水溶液でpH8、5に調整した後、有機層を分取する
。分取した有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムp乾燥させる。ついで、減圧下に溶媒を留
去すれば、1O−(1−アミノシクロプロピル)−9−
フルオロ−3−フルオロメチル−7−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7日−ピットN、2゜3−de] [1,
4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチルエステル
35mg(収率90.8%)を得る。
ロピル)−9−フルオロ−3−フルオロメチル−7−オ
キソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2.3−
(IO3 [1.4]ベンゾオキサジン−6−カルボン
酸エチルエステル52m3に30%臭化水素−酢酸溶液
1mlを加え、下部で1時間撹拌する。減圧下に反応液
を濃縮し、得られた残留物にジエチルエーテル10ml
および水20威を加えた後、水層を分取する。分取した
水層に酢酸エチル20威を加え、飽和炭酸水系ナトリウ
ム水溶液でpH8、5に調整した後、有機層を分取する
。分取した有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムp乾燥させる。ついで、減圧下に溶媒を留
去すれば、1O−(1−アミノシクロプロピル)−9−
フルオロ−3−フルオロメチル−7−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7日−ピットN、2゜3−de] [1,
4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチルエステル
35mg(収率90.8%)を得る。
If?(KBr) cm−’、ニジ 1705C=Q
参考例33
(S)−10−< 1−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−
オキソ−2,3−ジヒド0−7H−ピリド[1,2,3
−de] N、4]ベンゾオキサジン−6−カルボン
酸エチルエステル 100mに溶解させ、5%パラジウム−炭素2gを加え
、常圧下部で、水素気流中、2時間撹拌する。
ノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−
オキソ−2,3−ジヒド0−7H−ピリド[1,2,3
−de] N、4]ベンゾオキサジン−6−カルボン
酸エチルエステル 100mに溶解させ、5%パラジウム−炭素2gを加え
、常圧下部で、水素気流中、2時間撹拌する。
反応液を濾過し、減圧下に濃縮乾固した後、得られた残
留物に塩化メチレン200mf2および水200!nf
!を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7.7
に調整する。有機層を分取し、水および飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチルエーテ
ルを加えて結晶を枦取すれば、(S)−10− (1−
アミノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メチル−
7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2
.3−de] [1。
留物に塩化メチレン200mf2および水200!nf
!を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7.7
に調整する。有機層を分取し、水および飽和食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減
圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチルエーテ
ルを加えて結晶を枦取すれば、(S)−10− (1−
アミノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メチル−
7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2
.3−de] [1。
4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチルエステル
6、43y (収率89.2%)を−得る。
6、43y (収率89.2%)を−得る。
IR(にC!Ir) cm−1: シ1705C=O
参考例34
(S)−10−(1−アミノシクロプロピル)−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒド0ー
7Hーピリド[1. 2. 3 −de] [1。
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒド0ー
7Hーピリド[1. 2. 3 −de] [1。
4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチルエステル
200mlをアセトニトリル2dおよびメタノール4d
の混合液に懸濁させ、37%ホルマリン23(Myおよ
びシアノ水素化ホウ素ナトリウム73m9を加え、下部
で2時間撹拌する。反応液に酢酸0、1mを加えた後、
減圧下に濃縮し、得られた残留物にクロロホルム20m
lおよび水20dを加え、2N塩酸でpH1に調整した
後、水層を分取する。分取した水層にクロロホルム20
dを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でl))17
.5に調整した後、有機層を分取する。分取した有機層
を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られ
た残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロ
ホルム:、エタノール=20:1)で精製すれば、(S
)−10− (1−ジメチルアミノシクロプロピル)−
9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2。
200mlをアセトニトリル2dおよびメタノール4d
の混合液に懸濁させ、37%ホルマリン23(Myおよ
びシアノ水素化ホウ素ナトリウム73m9を加え、下部
で2時間撹拌する。反応液に酢酸0、1mを加えた後、
減圧下に濃縮し、得られた残留物にクロロホルム20m
lおよび水20dを加え、2N塩酸でpH1に調整した
後、水層を分取する。分取した水層にクロロホルム20
dを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でl))17
.5に調整した後、有機層を分取する。分取した有機層
を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られ
た残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロ
ホルム:、エタノール=20:1)で精製すれば、(S
)−10− (1−ジメチルアミノシクロプロピル)−
9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2。
3−ジヒドロ−7H−ピット[1, 2. 3 −de
][1.4]ベンゾオキサジン−ローカルポン酸エチル
エステル100m3 (収率47.6%)を得る。
][1.4]ベンゾオキサジン−ローカルポン酸エチル
エステル100m3 (収率47.6%)を得る。
IR(KBr) cm” : v 1715C:0
参考例35
(S)−10− (1−アミノシクロプロピル)−9−
フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ
−7H−ピリド[1,2.3−de] [1。
フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ
−7H−ピリド[1,2.3−de] [1。
4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチルエステル
6、439を塩化メチレン3.Wに懸濁させ、氷冷下、
無水酢fi2.277を加えて下部で1時間撹拌する。
6、439を塩化メチレン3.Wに懸濁させ、氷冷下、
無水酢fi2.277を加えて下部で1時間撹拌する。
反応液に水3077を加え、析出結晶をン戸数すれば、
(S)−10− (1−アセチルアミノシクロプロピル
)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7H−ピット[1,2。
(S)−10− (1−アセチルアミノシクロプロピル
)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−
ジヒドロ−7H−ピット[1,2。
3−de] [1.4]ベンゾオキサジン−6−カル
ボン酸エチルエステル5.857 (収率81.1%)
を得る。
ボン酸エチルエステル5.857 (収率81.1%)
を得る。
IR(KBr) 01B−1;ν 1710,1665
C=0 参考例36 (S)−10−(1−アセチルアミノシクロプロピル)
−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2、3−ジ
ヒドロ−7日−ピット[1,2.3−de] [1.
4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチルエステル
300mgを無水テトラヒドロフラン3dおよび無水ヘ
キサメチルホスホリックトリアミド1mlに溶解させ、
水冷下、60%水素化ナトリウム30mを加え、同温度
で30分間撹拌する。ついで、水冷下、ヨウ化メチル3
40m3を加え、下部で1時間撹拌する。反応液にクロ
ロホルム20miおよび水20m1を加え、2N塩酸で
DH2に調整した後、有機層を分取する。分取した有機
層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロ
ロホルム:エタノール=15 : 1 )で精製すれば
、(S)−10−[1−(N−7セチルーN−メチルア
ミノ)シクロプロピル]−9−フルオロ−3−メチル−
7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1;
2.3−de] [1,4]ベンゾオキサジン−6−カ
ルボン酸エチルエステル100my(収率19.2%)
を得る。
C=0 参考例36 (S)−10−(1−アセチルアミノシクロプロピル)
−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2、3−ジ
ヒドロ−7日−ピット[1,2.3−de] [1.
4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチルエステル
300mgを無水テトラヒドロフラン3dおよび無水ヘ
キサメチルホスホリックトリアミド1mlに溶解させ、
水冷下、60%水素化ナトリウム30mを加え、同温度
で30分間撹拌する。ついで、水冷下、ヨウ化メチル3
40m3を加え、下部で1時間撹拌する。反応液にクロ
ロホルム20miおよび水20m1を加え、2N塩酸で
DH2に調整した後、有機層を分取する。分取した有機
層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得ら
れた残留物をカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロ
ロホルム:エタノール=15 : 1 )で精製すれば
、(S)−10−[1−(N−7セチルーN−メチルア
ミノ)シクロプロピル]−9−フルオロ−3−メチル−
7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1;
2.3−de] [1,4]ベンゾオキサジン−6−カ
ルボン酸エチルエステル100my(収率19.2%)
を得る。
IR(にBr) cm−’ ニジ 1715.1645
C:O 参考例37 10−シクロプロピル−9−フルオロ−3−メチル−7
−オキソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2,
3de] [1,4]ベンゾオキ”Jジン−6−カル
ボン酸エチルエステル250mgに1N水酸化ナトリウ
ム水溶液2.5d、エタノール2,5dおよびジオキサ
ン2,5mlを加え、空温で1.5時間撹拌する。反応
液に水10meおよび酢酸エチル20dを加え、2N塩
酸でpH3に調整した後、有機層を分取する。分取した
有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物にジエチルエーテルを加えて結晶を枦取
すれば、10−シクロプロピル−9−フルオロ−3−メ
チル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[
1,2,3−de] [1,4]ベンゾオキサジン−
6−カルボン(B 200Iny (収率87.3%)
を得る。
C:O 参考例37 10−シクロプロピル−9−フルオロ−3−メチル−7
−オキソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2,
3de] [1,4]ベンゾオキ”Jジン−6−カル
ボン酸エチルエステル250mgに1N水酸化ナトリウ
ム水溶液2.5d、エタノール2,5dおよびジオキサ
ン2,5mlを加え、空温で1.5時間撹拌する。反応
液に水10meおよび酢酸エチル20dを加え、2N塩
酸でpH3に調整した後、有機層を分取する。分取した
有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物にジエチルエーテルを加えて結晶を枦取
すれば、10−シクロプロピル−9−フルオロ−3−メ
チル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[
1,2,3−de] [1,4]ベンゾオキサジン−
6−カルボン(B 200Iny (収率87.3%)
を得る。
融点:263〜265℃
(再結晶溶ts:クロロホルムーメタノール)IR(に
Br) cm” : 1.t 1710C=O NHR(dl−TEA)δ値: 0690〜2.00(7M、m)。
Br) cm” : 1.t 1710C=O NHR(dl−TEA)δ値: 0690〜2.00(7M、m)。
2、10〜2.70(IH,m)。
4、30〜5.35 (3H,m)。
7、91 (ill、 d、J=10.5H2)。
9.26(IH,s)
同様にして、表−8の化合物を得る。
は、それぞれ、つぎの式の置換基を示す。
(以下余白)
表−8
(珪こ
参考例38
10−(1−ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプ
ロピル)−8,9−ジフルオロ−3−メチル−7−オキ
ソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2,3−d
el [1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸
200m5をN、N−ジメチルホルムアミド2rdに溶
解させ、ベンジルアミン319nr3を加え、90〜1
00℃で4.5時間撹拌する。反応液を酢酸エチル5威
および水5rrdlの混合液に加え、2N塩酸でpH1
に調整した後、有機層を分取する。
ロピル)−8,9−ジフルオロ−3−メチル−7−オキ
ソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2,3−d
el [1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸
200m5をN、N−ジメチルホルムアミド2rdに溶
解させ、ベンジルアミン319nr3を加え、90〜1
00℃で4.5時間撹拌する。反応液を酢酸エチル5威
および水5rrdlの混合液に加え、2N塩酸でpH1
に調整した後、有機層を分取する。
分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物にジエチルエーテルを加えて結
晶をン戸数すれば、8−ベンジルアミノ−10−(1−
ペンジルレオキシ力ルポ二ルアミノシクロプロビル)−
9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7日−ピリド[1,2,3−del M、 4]
ペンツオキサジン−ローカルポン酸iiomy(収率4
6.4%)を得る。
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物にジエチルエーテルを加えて結
晶をン戸数すれば、8−ベンジルアミノ−10−(1−
ペンジルレオキシ力ルポ二ルアミノシクロプロビル)−
9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7日−ピリド[1,2,3−del M、 4]
ペンツオキサジン−ローカルポン酸iiomy(収率4
6.4%)を得る。
IR(KBr) cm” ニジ 1710C=O
同様にして、つぎの化合物を得る。
08−ベンジルアミノ−10−シクロプロピル−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7日−ピリド[1,2,3−del[1,4]ベンゾオ
キサジン−6−カルボン酸−1゜ IR(KBr) cm 、νc=o 169り参考側
39 ベンジルアルコール230 mgをN、N−ジメチルホ
ルムアミド2mlに溶解させ、水冷下、60%水素化ナ
トリウム85m5を加え、下部で30分間撹拌する。
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7日−ピリド[1,2,3−del[1,4]ベンゾオ
キサジン−6−カルボン酸−1゜ IR(KBr) cm 、νc=o 169り参考側
39 ベンジルアルコール230 mgをN、N−ジメチルホ
ルムアミド2mlに溶解させ、水冷下、60%水素化ナ
トリウム85m5を加え、下部で30分間撹拌する。
ついで、水冷下、1O−(1−ベンジルオキシカルボニ
ルアミノシクロプロピル)−8,9−ジフルオロ−3−
メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピット
[1,2,3−del [1,4]ベンゾオキサジン
−6−カルボン1250m1を加え、下部で7時間撹拌
する。反応液を酢酸エチル15m1および水15mの混
合液に加え、2Nm酸でpH1に調整した後、有機層を
分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグ
ラフィ=(溶離液;クロロホルム:エタノール=10:
1)で精製すれば、8−ベンジルオキシ−10−(1−
ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピル)−9
−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2゜3−ジヒド
0−7H−ピリド[1,2,3−del[1,4]ベン
ゾオキサジン−6−カルボン酸73.0m!9(収率2
4.6%)を得る。
ルアミノシクロプロピル)−8,9−ジフルオロ−3−
メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピット
[1,2,3−del [1,4]ベンゾオキサジン
−6−カルボン1250m1を加え、下部で7時間撹拌
する。反応液を酢酸エチル15m1および水15mの混
合液に加え、2Nm酸でpH1に調整した後、有機層を
分取する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグ
ラフィ=(溶離液;クロロホルム:エタノール=10:
1)で精製すれば、8−ベンジルオキシ−10−(1−
ベンジルオキシカルボニルアミノシクロプロピル)−9
−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2゜3−ジヒド
0−7H−ピリド[1,2,3−del[1,4]ベン
ゾオキサジン−6−カルボン酸73.0m!9(収率2
4.6%)を得る。
IR(にBr) cm−1; シ1715C:O
同様にして、つぎの化合物を得る。
08−ベンジルオキシ−10−シクロプロピル−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロー
フ日−ビリド[1,2,3−del[1,4]ベンゾオ
キサジン−6−カルボン酸IR(KBr) cm−’
;ν 1720C:0 参考例40 8−ベンジルアミノ−10−(1−ベンジルオキシカル
ボ二ルアミノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メ
チル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[
1,2,3−del [1,4]ベンゾオキサジン−
6−カルボン@90、Qmgを酢酸9mlに溶解させ、
5%パラジウム−炭素80.0mgを加え、常圧¥温で
、水素気流中、2時間撹拌する。
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロー
フ日−ビリド[1,2,3−del[1,4]ベンゾオ
キサジン−6−カルボン酸IR(KBr) cm−’
;ν 1720C:0 参考例40 8−ベンジルアミノ−10−(1−ベンジルオキシカル
ボ二ルアミノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メ
チル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[
1,2,3−del [1,4]ベンゾオキサジン−
6−カルボン@90、Qmgを酢酸9mlに溶解させ、
5%パラジウム−炭素80.0mgを加え、常圧¥温で
、水素気流中、2時間撹拌する。
反応液を濾過した後、炉液に2N塩!5mを加え、減圧
下に濃縮し、得られた残留物にエタノールを加えて結晶
を枦取すれば、8−アミノ−10−(1−アミノシクロ
プロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2,3−del
N、 4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸の塩酸
塩45.9In91 (収率76.9%)を得る。
下に濃縮し、得られた残留物にエタノールを加えて結晶
を枦取すれば、8−アミノ−10−(1−アミノシクロ
プロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2,3−del
N、 4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸の塩酸
塩45.9In91 (収率76.9%)を得る。
融点:277〜281℃
(再結溶媒:エタノール−メタノール)IR(にar)
cm−1; シ1695C=O N)IR(dl−TEA)δ値; 1.30〜2.20(7H,m)。
cm−1; シ1695C=O N)IR(dl−TEA)δ値; 1.30〜2.20(7H,m)。
4、40〜5.40(3N、 m)。
9、25 (1)1. S)
は、それぞれ、つぎの式の置換基を示す。
(以下余白)
参考例41
8−ベンジルアミノ−10−シクロプロピル−9−フル
オロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7
8−ピリド[1,2,3−del [1゜4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボンf1.50m3を酢酸5dに
溶解させ、5%パラジウム−炭素50m3を加え、常圧
空温で、水素気流中、1.5時間撹拌する。反応液を濾
過し、減圧下に濃縮乾固した後、得られた残留物にエタ
ノールを加えて結晶をン戸数すれば、8−アミノ−10
−シクロプロピル−9−フルオロ−3−メチル−7−オ
キソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2,3−
del [1゜4]ベンゾオキサジン−6−カルボン
酸19.7mg(収率50.5%)を得る。
オロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7
8−ピリド[1,2,3−del [1゜4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボンf1.50m3を酢酸5dに
溶解させ、5%パラジウム−炭素50m3を加え、常圧
空温で、水素気流中、1.5時間撹拌する。反応液を濾
過し、減圧下に濃縮乾固した後、得られた残留物にエタ
ノールを加えて結晶をン戸数すれば、8−アミノ−10
−シクロプロピル−9−フルオロ−3−メチル−7−オ
キソ−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2,3−
del [1゜4]ベンゾオキサジン−6−カルボン
酸19.7mg(収率50.5%)を得る。
融点;280℃以上
(再結溶媒;クロロホルム−エタノール)IR(にBr
) cm−’ ;ν 1705C=O N)IR(dl−TEA)δ値: 1.10〜2.00(7H,m)。
) cm−’ ;ν 1705C=O N)IR(dl−TEA)δ値: 1.10〜2.00(7H,m)。
2、10〜2.60(IH,m)。
4、30〜5.40(3H,m)。
9.32(1M、S)
同様にして、つぎの化合物を得る。
010−シクロプロピル−9−フルオロ−8−ヒドロキ
シ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H
−ピリド[1,2,3−del [1゜4]ベンゾオ
キザジン−6−カルボン酸融点;262〜263℃ (再結溶媒;エタノール) IR(KBr) cm−’ : シ1720C=O NMR(d6−D)IsO)δ値; 0.90〜1.60(7H,m)。
シ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H
−ピリド[1,2,3−del [1゜4]ベンゾオ
キザジン−6−カルボン酸融点;262〜263℃ (再結溶媒;エタノール) IR(KBr) cm−’ : シ1720C=O NMR(d6−D)IsO)δ値; 0.90〜1.60(7H,m)。
1.80〜2.40(IH,m)。
4、20〜5.20(38,m) 。
8、93(IH,s)
参考例42
(S)−10−[1−(N−アセチル−N−メチルアミ
ノ)シクロプロピル]−9−フルオロ−3−メチル−7
−オキソ−2,3−ジヒドロ−78−ピリド[1,2,
3−del [1,4コベンゾオキサジンー6−カル
ボン醗エチルエステル90mgに6N塩酸2.5dを加
えた後、4時間速流する。減圧下に反応液を濃縮し、得
られた残留物にエタノールを加えて結晶を枦取すれば、
(S) −10−(1−メチルアミノシクロプロピル)
−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジ
ヒドロ−7日−ピリド[1,2,3−del [1,4
]ベンゾオキサジン−ローカルポン酸の塩酸塩50m’
j (収率62.5%)を得る。
ノ)シクロプロピル]−9−フルオロ−3−メチル−7
−オキソ−2,3−ジヒドロ−78−ピリド[1,2,
3−del [1,4コベンゾオキサジンー6−カル
ボン醗エチルエステル90mgに6N塩酸2.5dを加
えた後、4時間速流する。減圧下に反応液を濃縮し、得
られた残留物にエタノールを加えて結晶を枦取すれば、
(S) −10−(1−メチルアミノシクロプロピル)
−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジ
ヒドロ−7日−ピリド[1,2,3−del [1,4
]ベンゾオキサジン−ローカルポン酸の塩酸塩50m’
j (収率62.5%)を得る。
融点;240〜244°C
(再結溶媒二6N塩酸−エタノール)
IR(KBr) cm−’ ;ν 1720C=O
NMR(dl−TEA)δ値;
1.30〜2.20(7M、III)。
3、03(3tl、 S) 。
4.70〜5.50(3N、m)。
8.10(IH,d、J=10.0H219、46(I
H,S) 同様にして、表−10の化合物を得る。
H,S) 同様にして、表−10の化合物を得る。
それぞれ、つぎの式の置換基を示す。
参考例43
30%臭化水累−酢酸溶液0.5mlに、水冷下、(S
)−10−(2−ベンジルオキシカルボニルアミノシク
ロプロビル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2,3−de
l N、 4]ペンツオキサジン−6−カルボン酸5o
mgを加え、同温度で1時間撹拌する。減圧下に反応液
を濃縮し、得られた残留物にクロロホルム5dおよび水
5II!I!を加え、水層を分取する。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物にジエチルエーテルを加えて結
晶を戸数すれば、(S)−10−(2−アミノシクロプ
ロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2
,3−ジヒドローフ日−ビリド[1,2,3−deコ[
1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸の臭化水素
酸塩30mg (収率68.2%)を得る。
)−10−(2−ベンジルオキシカルボニルアミノシク
ロプロビル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7日−ピリド[1,2,3−de
l N、 4]ペンツオキサジン−6−カルボン酸5o
mgを加え、同温度で1時間撹拌する。減圧下に反応液
を濃縮し、得られた残留物にクロロホルム5dおよび水
5II!I!を加え、水層を分取する。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物にジエチルエーテルを加えて結
晶を戸数すれば、(S)−10−(2−アミノシクロプ
ロピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2
,3−ジヒドローフ日−ビリド[1,2,3−deコ[
1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸の臭化水素
酸塩30mg (収率68.2%)を得る。
融点;245〜250℃
(再結溶ts:エタノール)
IR(にBr) cm−’ ;ν 1700C=O
NMR(dl−TEA)δ値:
1.1072.30(5H,m)。
2.80〜3.40(11,m)。
3、50〜4.10(IN、 III)。
4、40〜5.50(31−1,l1l)。
7、98(IH,d、 J=1o、 01lz)。
9、40(IH,S)
同様にして、つぎの化合物を得る。
o (S)−10−(1−アミノシクロプロピル)−9
−フルオロ−3−メチレン−7−オキソ−2゜3−ジヒ
ド0−7H−ピリド[1,2,3−del[1,4]ベ
ンゾオキサジン−6−カルボン酸の臭化水素酸塩 触点:270〜275℃ (再結溶媒;エタノール−メタノール)IR(KBr)
cm−1: v 1705C=O NHR(d、 −丁FA) δ値;1.30〜2.
30(4H,m)。
−フルオロ−3−メチレン−7−オキソ−2゜3−ジヒ
ド0−7H−ピリド[1,2,3−del[1,4]ベ
ンゾオキサジン−6−カルボン酸の臭化水素酸塩 触点:270〜275℃ (再結溶媒;エタノール−メタノール)IR(KBr)
cm−1: v 1705C=O NHR(d、 −丁FA) δ値;1.30〜2.
30(4H,m)。
−5,34(2N、 S)。
5、95(11,d、 J=4.5)1z)。
6、28(1tl、 d、 J=4.5tfZ) 。
8.04(IN、d、J=9.5H2)。
9.55(1)1.S)
参考例44
(S)−10−(1−アミノシクロプロピル)−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒド0−
7H−ピリド[1,2,3−del [1゜4]ベン
ゾオキサジン−6−カルボン酸の@酸塩730 mgを
水8.57mに溶解させ、水酸化カリウム242 II
Igおよびエタノール5.84mを加える。ついで、6
0℃で21!塩酸0.19威を30分間を要して滴下し
た後、2時間を要して20°Cまで冷却する。20℃で
30分間撹拌し、析出結晶をン戸数すれば、(S)−1
0−(1−アミノシクロプロビル)−9−フルオロ−3
−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−78−ピリ
ド[1,2,3−del [1,4コヘンソオキサジ
ン−6−カルボン酸570m3(収率87,0%)を1
qる。
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒド0−
7H−ピリド[1,2,3−del [1゜4]ベン
ゾオキサジン−6−カルボン酸の@酸塩730 mgを
水8.57mに溶解させ、水酸化カリウム242 II
Igおよびエタノール5.84mを加える。ついで、6
0℃で21!塩酸0.19威を30分間を要して滴下し
た後、2時間を要して20°Cまで冷却する。20℃で
30分間撹拌し、析出結晶をン戸数すれば、(S)−1
0−(1−アミノシクロプロビル)−9−フルオロ−3
−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−78−ピリ
ド[1,2,3−del [1,4コヘンソオキサジ
ン−6−カルボン酸570m3(収率87,0%)を1
qる。
融点:269〜271.5℃
IR(にBr) cm” ;ν 1705C=O
N)IR(dl −丁FA) δ値 ;1.30〜2
.20(7H,m)。
.20(7H,m)。
4.45〜5.55 (3H,m) 。
8、06(IN、 d、 J=9.5Hz) 。
9、42(IH,S)
[α]o−aa、。
(C=0.5,0.05N水酸化す1〜リウム水溶液)
参考例45 (S)−10−(1−アミノシクロプロピル)−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7日−ピリド[1,2,3−del [1゜4]ベン
ゾオキサジン−6−カルボン13.009をエタノール
1207に=J lさせ、50°Cでメタンスルホンr
tz 996myを添加した後、2時間を要して20℃
まで冷却し、析出結晶を戸数すれば、(s)−io−(
1−アミノシクロプロピル〉−9−フルオロ−3−メチ
ル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリドM、
2,3−de] M、4]ベンゾオキサジン−6−カル
ボン酸のメタンスルホン酸塩3.059(収率78,1
%)を得る。
参考例45 (S)−10−(1−アミノシクロプロピル)−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7日−ピリド[1,2,3−del [1゜4]ベン
ゾオキサジン−6−カルボン13.009をエタノール
1207に=J lさせ、50°Cでメタンスルホンr
tz 996myを添加した後、2時間を要して20℃
まで冷却し、析出結晶を戸数すれば、(s)−io−(
1−アミノシクロプロピル〉−9−フルオロ−3−メチ
ル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリドM、
2,3−de] M、4]ベンゾオキサジン−6−カル
ボン酸のメタンスルホン酸塩3.059(収率78,1
%)を得る。
融点;263〜265℃
IR(KBr) cm” ; v 1710C:0
NHR(D20)δ値;
1.30〜1.90(7N、m)。
2.84(3H,s)。
4.25〜5.20(3N、m)。
7、53(IH,d、 J=10.0Hz)。
8、84(1M、 S)
Claims (1)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 「式中、R^1は、水素原子を;R^2は、水素原子、
ハロゲン原子、アルコキシ基、保護されていてもよいヒ
ドロキシル基、保護されていてもよいアミノ基、保護さ
れていてもよい低級アルキルアミノ基またはジ−低級ア
ルキルアミノ基を;R^3は、水素原子、低級アルキル
基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていても
よい低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキルアミノ基
、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されてい
てもよいアミノ低級アルキル基、保護されていてもよい
低級アルキルアミノ低級アルキル基、ジ−低級アルキル
アミノ低級アルキル基および保護されていてもよいヒド
ロキシ低級アルキル基から選ばれる1つ以上の基を;R
^4は、水素原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アル
キル基、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル
基、低級アルキリデン基およびR^4が結合する炭素原
子とともにシクロアルカン環を形成する基から選ばれる
1つ以上の基を;Xは、ハロゲン原子を;およびAは、
酸素原子もしくは硫黄原子または低級アルキル基で置換
されていてもよいイミノ基を示す。」で表わされるピリ
ドンカルボン酸またはその塩に、カルシウム塩を添加す
ることを特徴とするピリドンカルボン酸またはその塩の
可溶化法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1271481A JP2884094B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 新規なピリドンカルボン酸またはその塩の可溶化法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1271481A JP2884094B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 新規なピリドンカルボン酸またはその塩の可溶化法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03133983A true JPH03133983A (ja) | 1991-06-07 |
JP2884094B2 JP2884094B2 (ja) | 1999-04-19 |
Family
ID=17500646
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1271481A Expired - Fee Related JP2884094B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | 新規なピリドンカルボン酸またはその塩の可溶化法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2884094B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8063221B2 (en) | 2006-03-13 | 2011-11-22 | Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. | Aminoquinolones as GSK-3 inhibitors |
US8071591B2 (en) | 2009-03-11 | 2011-12-06 | Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. | 7-cycloalkylaminoquinolones as GSK-3 inhibitors |
US8901112B2 (en) | 2007-09-12 | 2014-12-02 | Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. | Spirocyclic aminoquinolones as GSK-3 inhibitors |
-
1989
- 1989-10-20 JP JP1271481A patent/JP2884094B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8063221B2 (en) | 2006-03-13 | 2011-11-22 | Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. | Aminoquinolones as GSK-3 inhibitors |
US8901112B2 (en) | 2007-09-12 | 2014-12-02 | Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. | Spirocyclic aminoquinolones as GSK-3 inhibitors |
US8071591B2 (en) | 2009-03-11 | 2011-12-06 | Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. | 7-cycloalkylaminoquinolones as GSK-3 inhibitors |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2884094B2 (ja) | 1999-04-19 |
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