JPH03133977A

JPH03133977A - 環状アミド

Info

Publication number: JPH03133977A
Application number: JP2270678A
Authority: JP
Inventors: Alexander Aumueller; アレキサンダー・アウミユラー; Hubert Trauth; フーベルト・トラウト
Original assignee: BASF SE
Current assignee: BASF SE
Priority date: 1989-10-13
Filing date: 1990-10-11
Publication date: 1991-06-07
Also published as: DE3934176A1; US5145966A; EP0422492A1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、一般式Ｉ：〔式中、変数は次のものを表わす：Ａ−次式の基：（式中、各々左の遊離結合は、アミド−窒素との結合を
形成し、右の遊離結合は、基に応じて一重又は二重結合
であシ、かつ基Ｒ７〜Ｈ１ｆｆｉは水素、０１〜０４−
アルキル基、フェニル基を表わしかつ基Ｒ１３は基Ｒ７
〜Ｒ１２のうちの１個又はヒドロキシル基を表わす）Ｒ１−Ｒ’−０，〜Ｃ１−アルキル基、その際Ｒ１及び
Ｒ２及び／又はＲ３及びＲ４は各々結合して、５員環又
は６員環になっていてよいＲ５−水素又は○ｌ〜０３−アルキル基Ｒ６−水素、付
加的にシアノ基、ヒドロキシル基又はアミノ基又はフェ
ニル基によって置換されていてよい０１〜０４−アルキ
ル基又ハ０１〜Ｃ４−アシル基〕の新規環状アミドに関
するＯ更に、本発明はこの化合物の製法、有機物質用安定剤と
してのその使用並びに光及び熱の作用に対して安定化さ
れた、これらの化合物を含有する有機物質に関する０〔従来の技術〕ポリアルキルピペリシン誘導体が光及び熱によるプラス
チックの崩壊を防ぐことは、例えば西独特許公開第Ｐ３
８２３１１２号、同第Ｐ３８２８５３６号、同第ｐ３８
４２３０４号及び同第ｐ３８４４３５５号並びに西独特
許公開（ＤＥ−Ａ）第３８０１９４４号及び西独特許公
告（ＤＥ−Ｂ）第１９２９９２８号明細書から公知であ
る。

このピペリシン−誘導体と特定の種類のプラスチック、
例えばポリオレフィン又はポリアミドとの相容性、保護
作用の時間、物質の固有色並びに揮発傾向及び高温での
プラスチックへの導入の際のそのような安定剤の熱分解
は、屡々不十分である◇ 〔発明が解決しようとする課題〕従って、本発明は、前記欠点を有さない新規の安定剤を
提供すること全課題とする。

〔課題を解決するための手段〕

従って、前記の新規環状アミド１が発明されたＯ基Ｒ１，，Ｒ４は線状又は分枝状のＣ１−Ｃ，−アルキ
ル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プ
ロピル、ｎ−ブチル又はイソ−ブチルを表わす。更に、
Ｒ１及びＲ２及び／又はＲ３及びＲ１は各々結合して５
Ｊｋ環又は６員環、有利にシクロペンタン環又はシクロ
ヘキサン環になっていてよいＯＲ５は、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル又はイソ
プロピルを表わすＯＲ６は、水素、前記０１〜Ｃ４−アルキル基、置換され
た０１〜Ｃ１−アルキル基、例えばシアノメチル、β−
シアノエチル、ヒドロキシメチル、β−ヒドロキシエチ
ル、β−アミノエチル又はペンシル、又はＣ１〜０．−
アシル基、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル又
はブチ、リルを表わすＯＲ７〜Ｈ１ｌは各々水素、前記の０１〜Ｃ４−アルキル
基又はフェニル基を表わす。

Ｒ１３は、Ｒ７−Ｒ１１１と同じもの全表わし、付加的
に、ヒドロキシル基も示す。

有利な化合物Ｉは、式中の変数が次のものを表わすよう
なものである：Ｒ１〜Ｒ４メチル基、Ｒ５及びＲ６水素・Ｒ７、Ｒ８及びＲ１０メチル基又はエチル基又はフェニ
ル基、Ｒ９及びＲ１１水素又はメチル基、Ｒ１２フエニル基、Ｒ１３ヒドロキシル基。

基Ａのうち（ａ）及び（ｂ）が有利である０環状アミド
■が酸性プロトンを有する場合は、この化合物線、互変
異性体の形で及び−／又はベタイン構造でも存在しうる
０例えば化合物Ｉａは、弐■ｂの互変異性の分子内塩とし
て存在しうる：Ｉａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｉｂ環状
アミド１は、遊離塩基の形及びベタイン形の他に、Ｊ！
、１！！陰イオン金有するピペリゾニウム塩として並び
に水化物として存在してもよい０好適な陰イオンは、例
えば無機酸及び有利にカルボン酸及びスルホン酸に白米
する・無機陰イオンの例は、クロリド、ゾロミド、スルフェー
ト、メタンスルホネート、テトラフルオロボレート、ホ
スフェート及びローダニドである。スルホネートＩｓイ
オンとしては、例えばベンゼンスルホネート及びトシレ
ートが好適である０カルボキシレート陰イオンとしては
、例、ｔ　Ｈホルミエート、アセテート、プロピオネー
ト、ヘキサノエート、シクロヘキサノエート、ラクテー
ト、ステアレート、ドデシルベンゾエート、ベンゾエー
ト、アクリレート、メタクリレート、シトレート、マロ
ネート及びスクシネート並びにカルボキシル基約３００
０１”ｌ有するポリカルｊぐン酸の陰イオンが使用され
る〇本発明による環状アミド■は、有利に、一般式ＩＮ
＝のα−シアノ−Ｎ−（ポリアルキルピペリンルンアセト
アミドと、（ａｌｌ、３−ゾカルがエル化合物、例えばアセチルア
セトン、ヘキサン−２，４−Ｐオン、ヘプタン−３，５
−ジオン、ベンゾイルアセトン、シペンｆイルメタン、
マロンジアルデヒド又はアセチルアセトアルデヒド、（ｔ＋）　　β−カルボニルカルボンジエステル、例工
ばアセト酢吊、５−オキソペンタン酸、２−メチルアセ
ト酢酸、ベンゾイル酢酸又はホルきル酢酸のメチルエス
テル又はエチルエステル、（ｃｌ　　シュウ酸ジエステル、例えばシュウ酸シメチ
ルエステルスはシュウ酔ゾエチルエステルスはα−カル
ボニルカルボン酸エステル、例えば２−オキソプロピオ
ン酸、ベンゾイル蟻醇又はグリオキシル酸のメチルエス
テル又はエチルエステル、（ｄＪ　　オレフィン性α、β−不飽和カルボン酸エス
テル、例えばケイ皮酸、アクリル酸又はりロトン酸のメ
チルエステル又はエチルエステル、又は（ｅ）　　シクロへΦサノンー２−カルボン酸エステル
、例えば相応するメチル−又はエチルエステルとの反応によって、自体公矧の方法で製造する◎一般に
、この反応のために、塩基性触媒、例えばアミン、アン
モニア又はアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコ
レート又ハアルカリ金属炭酸塩を使用する◎アミンとし
ては、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリメチルアミン、モルホリン及び特にピペ
リシン及びビリシンが好適である０塩基性アル力リ金属
化合物中では、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメチレート、
カリウム−ｔ−プテレート及び特にナトリウムメチレー
トが好適である０通例、この反応ｔ、＃剤、例えはアルコール、例えはメ
タノール、エタノール、ｎ−グロパノール、イソ−プロ
パツール、ｎ−シタノール又はイソ−ブタノール、芳香
族炭化水素又はハロゲン炭化水素、例えばベンゼン、ト
ルエン、キシレン又はクロルベンゼン中で、反応すべき
かつ過剰に存在するカルボニル−もしくはカルボン酸エ
ステル−化合物中で又は水中で実施する０通常、２０〜
１８０℃、殊に１００〜１６０℃の温度で操作する０本発明による環状アミド！は、有機物置、例えば化粧品
調合物、例えば軟膏、医薬品処方物又はプラスチック及
びラッカー用の初期生成物、しかしながら特にプラスチ
ック及びラッカー自体の元及び熱の作用に対する安定化
のために好適である０有機物質中の金属イオンを不活性
にすることもできる◎ 化合物ＩＫよシ安定化できるプラスチックとしては、例
えば次のものが挙げられるニーモノ−及びジオレフィン
のポリマー　例えば低又は高密度のポリエチレン、線状
ポリブチ−１−エン、ポリイソプレン及びポリブタンエ
ン、並びにモノ−又はジオレフィンのコポリマー又は前
記ポリマー混合物、一七ノー又はジオレフィンとビニルモノマーとのコポリ
マー、伝えばエチレン−アルキルアクリレート−コポリ
マー　エチレン−アルキルメタクリレート−コポリマー
　エチレン−酢酸ビニル−コポリマー及びエチレン−ア
クリル酸−コポリマー一ポリスチレン、一スチレン又はα−メチルスチレンとブタン又はアクリ
ル酸防導体とのコポリマー、例えばスチレンーゾタゾエ
ンーコボリマー、スチレン−アクリルニトリル−コポリ
マー　スチレン−エチルメタクリレート−コポリマー　
スチレンープタツエンーエチルアクリレートーコホリマ
ー及びスチレン−アクリルニトリル−メタクリレート−
コポリマー −７り！Ｊルニトリループタゾエンースチレンーコボリ
マー　メチルメタクリレートーブタゾエンースチレンー
コホリマー及ヒ類似ホリマーハロゲン含有ポリ！−１例
えばポリ塩化ビニル、ポリ弗化ビニル、ポリ環化ビニリ
デン、ポリ弗化ビニリデン並びにそのコポリマー−α、
β−不飽和酸及びその訪導体から誘導されるポリマー、
例えばポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリア
クリルアミド及びポリアクリルニトリル、一不飽和アルコール及びアミンから誘導されるポリＹ　
−、例えばポリビニルアルコール及びポリビニルピロリ
ドン、一ビニル基含有モノマーの他のポリマー　例えばポリ酢
酸ビニル、一ポリマー　例えばポリウレタン、ポリアミド、ポリ尿
素、ポリエステル、ポリカルボネート、ポリスルホン、
ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン〇有利に、ポリアミドの安定化のために環状アミド■を使
用してよい。

史に化合物１’ｌｒ：用いて、ラッカー冷膜、例えば工
業塗装を安定化することができるＯこのうち、車両構造
用焼付は塗装、有利に２層塗装が特に有利である０環状アミドＩとプラスチック及びラッカーとの混合は当
業者に公知の方法で行なう０その際、化合物１？固体で
、又は特にラッカーの場合は溶かされた形で添加するこ
とができる０ラツカー系での化合物！の５溶性は、この
場合、特に有利である０更に本発明の対象は、有機物質の量に対して０．０１〜
５重量％、有利に０．０２−２重量−の環状アミドＩ＝
に１種以上含有する、光及び熱の作用に対して安定化さ
れた有機物質、特にプラスチック及びラッカーである０化合物！以外に、この有機物質は、なお、他の助剤及び
充填剤、例えばニー他の遮光剤、例えば２−（７−ヒドロキシフェニル）
ベンズトリアゾール、２．４−ビス（７−ヒドロキシフ
ェニル）−６−フルキル−８−トリアゾン、２−ヒドロ
キシベンゾフェノン又は１．３−ビス（２′−ヒドロキ
シベンゾイル）ベンゼン一燐化合物及び硫黄化合物及び立体障害されたフェノー
ルをペースとする酸化防止剤 −金属不活性剤、例えばＮ、Ｎ−ゾベンデルシュウｒＩ
Ｒゾヒドラシド又はＮ、Ｎ−ビス〔３−（３’　、　５
’−シーｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオニル〕ヒドラゾンー充頃剤、例えばカーボンブラック、カオリン、メルク
又はガラス繊維一顔料、例えば二酸化チタン一他の添加剤、例えば可塑剤、滑剤、乳化剤、螢光増白
剤、防炎剤又は帯電防止剤をこのために慣用の量で含有してよい０燐含有）化防止
剤としては、例えばトリス（ノニルフェニル）ホスファ
イト、ンステアリルベンタエリスリットゾホスファイト
、トリス（２，４−Ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファ
イト、トリス（２−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）
ホスファイト、キス（２，４−シーｔ−ブチルフェニル
）ペンタエリスリットジホスファイト及びテトラキス（
２，４−シーｔ−ブチルフェニル）　−４、４’−ビフ
ェニレンジホスファイトが挙げられる〇硫黄含有酸化防止剤としては、例えばシラウリルチオツ
プロピオネート、シミリスチルテオゾプロビオネート、
ンステアリルチオンプロピオネート、ペンタエリスリッ
トテトラキス（β−ラウリルチオプロピオネート）及び
ペンタエリスリットテトラキス（β−ヘキシルチオプロ
ピオネート）が挙げられる０立体障害されたフェノール性酸化防止剤としては、例え
ば２．６−ンーｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ｎ
−オクタデシル−β−（３゜５−シーｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，１．３−ト
リス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−１−ブチルフ
ェニル）ブタン、１，３．５−）リスチル−２，４゜６
−トリス（６，５−シーｔ−ブチル−４−ヒドロキシペ
ンシル）ベンゼン、１，３．５−）リス〔３，５−シー
ｔ−ブチル−４−ヒドロΦジベンジル）イソシアヌレ−
）、１，３．５−トリス［（３，５−シーｔ−ブチル−
４−ヒト四キシフェール）プロピオニルオキシ−エチル
〕イソシアヌレート、１．３．５−）リス（２゜６−シ
ーメチル−３−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチルペンシル）
イソシアヌレート及びペンタエリスリット−テトラキス
〔β−（３，５−シーｔ−ｒチルー４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート〕がこれに該当する０本発明による環状アミド■は、慣用種類のプラスチック
との良好な相容性及び慣用のラッカー系への良好々可溶
性によシ優れている０これらは一般に、固有色を全く有
さないか、又はごく僅かに有し、慣用のプラスチック−
及びシンカー−加工温度で安定であシ、かつ揮発性でな
く、かつ特にそれで処理された物質に長時間保薩的に作
用する〇〔実１例〕製造例例１〜８の一般的作業シアノ酢酸エチルエステル及び２．２．６゜６−テトラ
メチル−４−アミノビペリンンをエタノール性溶液中で
加熱することによって力造されたα−シアノ−Ｎ−（２
，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アセト
アミド０．２５七ルを第１表に記載のカルボニル−又は
カルボン酸エステル−化合物と、塩基性触媒の存在下で
、場合によっては、溶剤中で、記載の反応条件下で反応
させ、かつ後処理する０この例並びに得られた化成物に
関する詳細を、第１表に示す・製造糸付及び収率は、ｅ
ａのものではなかった〇個々の反応バッチは、次の方法で後処理した：Ａ：冷却
後の沈殿物の痔別、水での洗浄及びアセトニトリルから
の再結晶。

Ｂ：冷却後の沈殿物の濾別、メタノール及びアセトンで
の洗浄、酢酸／蟻酸（１，７：　１　）からの再結晶、
再結晶性成物の１′５１量チ水酸化す）　ＩＪウム済液
中への溶解及び酢酸？用いるｐＨ１０〜１１での再沈殿
、Ｃ：冷却後のエタノール１５０　ｍｌの添加、沈殿物の
濾別、エタノールでの洗浄及び酢酸からの再結晶、Ｄ：冷却後のエタノール６５ｄの添加、沈殿物の濾別、
粗生成物の熱いツメチルホルムアミド３１０ｄでの浸種
、精製された生成物の濾別及びエタノールでの洗浄、Ｅ：冷却後のメタノール８５ｍＪの添加、沈殿物の濾別
、メタノール及びアセトンでの洗浄、粗生成物の酢酸８
５．Ｌｌ及び蟻酸１２５−からの熱混合物中への溶解及
びこの溶液を水中に注入することによる再沈殿、Ｆ：沈殿物の濾別、メタノール少量での洗浄及びアセト
ニトリルからの再結晶、Ｇ：冷却後の沈殿物の濾別及びエタノールでの洗浄０使用例ポリアミドの安定化：例９〜１４露光試料の製造のために、例１〜５からの安定剤もしく
は公刈技術水準の安定剤各々０．２　ｉｆ量部をポリア
ミド−６１００重量部中へ２５０℃で１回の押出しによ
って導入し、生じる顆粒を射出成形機を通して、２５０
℃で２ｍＩ厚さの試験体に射出成形した０この試験体をハナウ社（Ｆｌｒｍａ　Ｈａｎａｕ　）の
キセノテスト■１２００−高速風化機（Ｘｅｎｏｔｅｓ
ｔＱり１２００　ｓｏｈｎｅｌｌｂｅｗｌ、＠ｘｅｒｕ
ｎｇａｇｅｒａｔ　）中でそれの耐光性及び耐候性に関
して検査した０老化は、試験体の表面での亀裂形成の開
始までの時間の測定によって測定した０その結果を次の第２表にまとめる〇第２表ポリアミド−６の安定化本発明による：０１２３比較のため：４＞２２５０時間２２５０時間＞２２５０時間＞２２５０時間２２５０時間１７５０時間

Claims

【特許請求の範囲】１、一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、変数は次のものを表わす：Ａ＝次式の基：（ａ）▲数式、化学式、表等があります▼ （ｂ）▲数式、化学式、表等があります▼ （ｃ）▲数式、化学式、表等があります▼ （ｄ）▲数式、化学式、表等があります▼ （ｅ）▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、各々左の遊離結合は、アミド−窒素との結合を
形成し、右の遊離結合は、基に応じて一重又は二重結合
であり、かつ基Ｒ＾７〜Ｒ＾１＾２は水素、Ｃ＿１〜Ｃ
＿４−アルキル基、フェニル基を表わし、かつ基Ｒ＾１
＾３は基Ｒ＾７〜Ｒ＾１＾２のうちの１個又はヒドロキ
シル基を表わす）Ｒ＾１〜Ｒ＾４＝Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基、その際
Ｒ＾１及びＲ＾２及び／又はＲ＾３及びＲ＾４は各々結
合して、５員環又は６員環になつていてよいＲ＾５＝水素又はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基Ｒ＾６＝
水素、付加的にシアノ基、ヒドロキシル基又はアミノ基
又はフェニル基によつて置換されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基又はＣ
＿１〜Ｃ＿４−アシル基〕の環状アミド。