JPH03129788A - ガスレーザ装置 - Google Patents

ガスレーザ装置

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JPH03129788A
JPH03129788A JP26624289A JP26624289A JPH03129788A JP H03129788 A JPH03129788 A JP H03129788A JP 26624289 A JP26624289 A JP 26624289A JP 26624289 A JP26624289 A JP 26624289A JP H03129788 A JPH03129788 A JP H03129788A
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JP
Japan
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fan
wall
gas
main discharge
laser medium
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Application number
JP26624289A
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English (en)
Inventor
Naoki Kubota
尚樹 久保田
Noboru Nakano
昇 中野
Yoshihisa Miyazaki
宮崎 善久
Kenichi Otsuka
大塚 研一
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JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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Publication of JPH03129788A publication Critical patent/JPH03129788A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/036Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、レーザ媒質ガスを放電してレーザ光を出力す
るガスレーザ装置に係り、特にレーザ媒質ガスをva環
する送風機として貫流ファンを用いて、レーザ媒質ガス
を封入した気密容器内に配したガスレーザ装置に関する
〈従来の技術〉 一般に、T E AGO,レーザやエキシマレーザのよ
うな大気圧あるいは高気圧横放電励起によってレーザ出
力を得るガスレーザ装置では、(z−4J’ 媒質ガス
を充填した気密容器内に放電電極部、送風機および熱交
ta器を配置して、この放電電極部に設けた上下一対の
主放電電極間と多数の予備電離電極間の放電によてレー
ザ光出力を得ている。ここで、予備型M電極は主放電電
極が放電を開始する前に放電空間のレーザ媒質ガスを予
備電離し、主放電が発生し易くするためのものである。
送風機は、放電空間のレーザ媒質ガスを循環して、放電
によって生じたダストやレーザ発振を妨げるような不純
物の偏りを除き、主放電電極間で均一なグロー放電が生
じるようにするのと、放電によって温度上昇したレーザ
媒質ガスを熱交換器に導き、レーザ媒質ガスを適切な温
度に下げるとともに、気密、容器の圧ノコを一定にする
ために用いられている。
このような送風機には一般に質流ファンが用いられ、気
密容器をコンパクトにし、かつ横長の主放電電極間全域
のレーザ媒質ガスを循環できるようにしている。しかし
、送風機は一般にファンとケーシングによってその性能
が決まるため、効率的な送風を行うためには適切なファ
ンとケーシングが必要である。さらに、主放電電極間に
レーザ媒質ガスを導くためのダクトもしくは案内板が必
要である。
このようなガスレーザ装置の代表例としては、例えば特
開昭63−228775号公報や同63−84179号
公報、同63−5583号公報などに開示されたものが
ある。
〈発明が解決しようとする課題〉 前記特開昭63−228775号のガスレーザ装置にお
いては、第11図に示すように、送風機として用いられ
るW流ファン3は気密容器11内に主放電電極la、l
bと予備電熱電極2a、2bからなる放電部と熱交換器
4が占める空間以外の位置に配置されているのみで、特
にケーシング、ダクト、案内板の配置が考慮されていな
い、したがって、貫流ファン3から排出されたレーザ媒
質ガスは放電空間以外の部分にも流れるから、貫流ファ
ン3は効率よく運転されないという問題がある。さらに
、主放電電極1b近傍のレーザ媒質ガスの流れは主放電
電極表面から剥離と渦を生じてガス交換が行われないた
め、例えばエキシマレーザのようなパルスレーザにおい
ては繰り返し発振周波数を大きくすることができないと
いう問題もある。
また、特開昭63−84179号のガスレーザ装置は、
第12図に示すように、気密容器ll内に貫流ファン3
から排出されたレーザ媒質ガスを放電空間に導く案内板
8が設すられている例であり、この場合は前記した特開
昭63−228775号のガスレーザ装置よりは効率よ
くレーザ媒質ガスを放電電極部に導くことはできるが、
主放電電極1b近傍ではやはリレーザ媒質ガスはffi
+l ml+と渦を生じ、主放電電極la、lb間で滑
らかなガス循環が行われないのである。また、この装置
では、一般に貫流)1ンのケーシングの舌部と叶ばれる
位置にある案内板8と円筒形の気密容器11によってケ
ーシングの吹き出し目部分が構成されているが、吸い込
み口側のケーシングは特に考慮されていないため、効率
よくファンを運転しているとは言えない。
さらに、特開昭63−5583号の場合は、第13図に
示すように、主放電電極1a、lb近傍に1枚もしくは
複数の案内板8が設けられているが、主放電電極1b近
傍では、鋭角的にレーザ媒質ガスの流れ方向を変えなけ
ればならないため、設置した案内板8の後方ですでに剥
離、渦が生じ、主放電電極1a、lb間で滑らかなレー
ザ媒質ガス流れは実現できない。また、この装置には吹
き出し口と吸い込み口を考慮したケーシングが配されて
いるが、その構造は複雑であり、複数の案内板を含め装
置の保守1点検が容易ではなくなるとともに、装置自体
が高価なものになってしまうという問題がある。
さらにまた、上記した特開昭63−228775.63
−84179、63−5583の各号のいずれものガス
レーザ装置に用いられる貫流ファン3の大きさは、気密
容器11内の主放電電極1a、lbの収電rj、極部。
熱交換器4.案内板8およびケーシングの大きさによっ
て制限され、放電電極部の大きさに比較して同等かもし
くは小さいものしか用いることができないのである。
したがって、貫流ファン3の大きさを変えない場合には
、レーザ媒質ガスの流量はファンの回転数によって調整
するしかなく、高速にガス循環を行うときにはファンの
回転数を上げるほか手がないのである。すなわち、質流
ファン3を大きくして排出風量を増すときには、同時に
気密容器11の容量をも大きくしなければならないため
、装置を大型化してしまうという不具合が生じてしまう
なお、貫流ファン3の大きさを変えないとしても、例え
ばエキシマレーザのような腐食性のレーザ媒質ガスを用
いるガスレーザ装置では、ファンを駆動するモータは気
密容器の外に設置しなければならず、モータの回転運動
を伝達するカップリングの性能によりファンの回転数は
1IIII限されるため、送風量も制限されることにな
る。
また、この場合、大気圧と気密容器内圧との圧力差を保
ちつつ回転運動を伝達しなければならないカップリング
には、主に磁性流体シールを用いたものと磁気カップリ
ングが用いられるが、ファンは数千rp11もの速度で
回転させられるため、磁性流体シールを用いたカップリ
ングは短寿命ですぐ交換するとか保守点検を頻繁に行わ
ねばならず、また磁気カップリングは伝達トルクを大き
くしてファンの回転数を上げるためには磁石を大きくし
なければならないから、カップリングの回転軸と同じ回
転軸を有するファンは、その設置位置によってはその大
きさに制限が生じる。
さらに、質流ファンの回転数を上げるに従ってファンを
支持するベアリングの寿命も短くなるため、レーザ媒質
ガスの流量(あるいは流速)を増すためにファンの回転
数を増すことは好ましくないのである。
本発明は、上記したような従来技術の有する課題を解決
すべくなされたものであって、その第1の目的とすると
ころは従来より気密容器を小型化しながらかつ貫流ファ
ンを効率的に運転し、また従来より気密容器の大きさに
対するファン径の大きさの比率を大きくしファンの回転
数を上部することなく主放電電極間のレーザ媒質ガスを
より高速に循環することにあり、さらに第2の目的とす
るところは、主放電電極間のレーザ媒質ガスの2り離や
渦をなくして円滑にWi環して−様な主放電を生しさせ
ることにより、安定で高出力なレーザ装置を提供するこ
とにある。
く課題を解決するための手段〉 本発明の要旨とするところは、レーザ媒質ガスが封入さ
れた気密容器と、この気密容器内に前記レーザ媒質ガス
を励起する予(li電離電極と上下−対の主放電電極か
らなる放電部と、この放電部にレーザ媒質ガスをi環、
冷却する貫流ファンと、熱交換器とからなるガスレーザ
装置において、前記気密容器に円柱状の内壁を備えると
ともに、この内壁上部に上部主放電電極と予備電熱電極
とをその内部に突出するように配設し、さらにこの内壁
内に下部主放電電極と貫流ファンと熱交換器とを備え、
前記質流ファンの半径を前記内壁の半径に対して0.4
0以上0.65以内としたことを特徴とするガスレーザ
装置である。
また、前記内壁の円の中心と前記貫流ファンの中心を結
ぶ線分と、前記主放電電極の中心と前記内壁の円の中心
を結ぶ線分とのなす角を30°から50°の範囲とする
のがよい。
さらに、前記貫流ファンの吸い込み口と吹き出し口とを
分離する案内板を設けるようにするのがよい。
さらにまた、前記下部主放電電極の近傍にレーザ媒質ガ
スの流れを整えるガイドブロックを設けるのがよい。
く作 用〉 本発明のガスレーザ装置によれば、気密容器内でのレー
ザ媒質ガスの流れの外周を円あるいは円と直線とからな
る長円形状の内壁によって規制し、この円の半径に対す
る貫流ファンの半径の比率が0.40から0.65の範
囲にあるようにしたので、従来より大きな容量のファン
を用いることができるから、ファンの回転数を上昇させ
ることなく放電電極部のレーザ媒質ガスの循環を高速か
つ円滑に行うことができ、したがって高出力で安定した
レーザ光出力を得ることができる。
また、内壁の円の中心と前記質流ファンの中心を結ぶ線
分と、前記主放電電極の中心と前記内壁の円の中心を結
ぶ線分とのなす角を30°から50@の範囲としたので
、ファンの回転軸はレーザ媒質ガスの流れの外周を構成
する円の中心とは異なる最適な位置に配することができ
る。
さらに、貫流ファンの吸い込み口と吹き出し口とを分離
する案内板を設けるようにしたので、貫流ファンを効率
よく運転することができる。
さらにまた、主放電電極の近傍にレーザ媒質ガスの流れ
を整えるガイドブロックを設けるようにしたので、レー
ザ媒質ガスの剥離や渦の発ΔLを抑制して円滑なガス循
環を行うことができる。
〈実施例〉 以下に本発明の実施例について、図面を参照して詳しく
説明する。
第1図は、本発明に係るガスレーザ装置の実施例を示す
概略構成図であり、レーザ出力光に対して垂直な面から
みた気密容器11の断面図である。
図において、laは上部主放電電極、1bは下部主放電
電極、2a、2bは予備電離電極、3は貫流ファンで、
図では矢示F方向すなわち時計回りに回転して主放電電
極1a、lb間のレーザ媒質ガスを循環する。
4は放電によって生じた熱を気密容器ll内から取り除
くための熱交tA器で、5はコンデンサである。
6は本発明の要である気密容器11の内壁であり、レー
ザ媒質ガスの流路を滑らかにするためにその断面形状は
円形状とされる。そして、上部主放電電極1aと予備電
離電極2a、2bは、この内壁6内に突出するように気
密容器11上部に着脱自在に取付けられたフランジ12
から品り下げられ、方、下部主放電電極1bと貫流ファ
ン3.熱交換器4は内壁G内に配設される。
このようにして、レーザ媒質ガスの循環する流路を円形
状に形成するようにし、かつ空間部を広< iI保する
ようにしている。なお、内壁6の断面形状は必ずしも円
形状に限ることなく、例えば第2図に示すような円と直
線から構成される略楕円形状であっても)nわない、ま
た、7はいわゆる舌部と呼ばれる案内板であり、8およ
び9a、9bも案内手反である。また、10a、10b
はガイドブロックであり、後で詳しく説明する。
ここで、貫流ファン3の容量について説明すると、第3
図に示すように、内壁6の半径をR,とし、貫流ファン
3の半径R1とすると、それらの半径比R1/R,の値
は気密容器11内の放電電極部および熱交換器4の大き
さと貫流ファン3の運転効率によってその範囲が決まる
が、本発明者らの実験によれば0.40から0.65の
範囲が適切であることが判明している。
すなわち、0,40より小さくすると第1図の案内板7
と気密容器11の内壁6によって措戒されるファン吹き
出し口から放電電極部までの距離が長くなり、ガスの摩
擦抵抗が増し、ガス流速が減少することが判明したので
ある。したがって、限定した径の貫流ファン3を用いた
場合より高速に回転させなければならなくなり、ファン
中山受やカソフ。
リングの寿命が短くなってしまう不都合が生じる。
また、放?’it電極部と熱交換器4の大きさを小さく
するには限界があるため、0.65より大きくすると構
造上ケーシング13が構成できなくなり、0.40以下
の場合と同様に貫流ファン3は高速回転しなければなら
なくなる。
これによって、従来装置と比較すると貫流ファン3の容
量が大きいためレーザ媒質ガスの流星が増し、熱交換器
を通過するガス流速も増ずから熱交tAffiを増加し
得るので、逆に熱交換器を小型化することができる。し
たがって、気密容器自体の小型化を実現することができ
る。
つぎに、気密容器11内での質流ファン3の位置関係に
ついて説明すると、前出tlS3図に示すように、内壁
6の円の中心O1と貫流ファン3の中心O!とを結ぶ線
分り、と、主放電電極1a、lbの中心と内壁6の円の
中心01を結ぶ線分Ltとすると、この線分り、と線分
り、とのなす角θを30@から50”の範囲内にあるよ
うにして線分り。
上に貫流ファン3の中心02を置くのが適切である。
すなわち、30°より小さくすると、第1図の案内板7
と気密容器11の内壁6によって構成されるファン吹き
出し口から放電電極部までの距離が長くなり、ガスの摩
擦抵抗が増すとともに、ファン吸い込み口側の吸引面積
が小さくなることにより主放電M、極間でのガス流速が
減少することが判明したのである。また、50@より大
きくすることは、放電電極部および気密容器11内部の
大きさとの兼ね合いにより難しいのである。
なお、線分L3上に貫流ファン3の中心02を置いても
よいが、貫流ファン3の吹き出し口から主放電電極1a
、lb間までの距離が長くなり、レーザ媒質ガスとその
流路間の摩擦抵抗によるエネルギー損失によってレーザ
媒質ガスの流速が減少するため、なるべく前記範囲の角
度に質流ファン3を設置するのが望ましい。
第4図は、貫流ファン3のケーシング13の形状の一例
を示したものである。一般に、貫流ファン3のケーシン
グ13は主にデイフユーザ14.舌部15および背壁1
6とで構成される。このような貫流ファン3はそもそも
鉱山の換気用ファンとして発達し、現在では電子機器の
冷却やニアコンディショナの送風機として用いられ、フ
ァンの吹き出し口と吸い込み口は大気中にオープンの状
態で使用されるのが普通である(「ア スタデイ オプ
 クロス フロー ファン(A 5tudy of C
rossFlowFan ; Journal of 
Mechanical Engineering 5c
i−ence (Vol、12. No、6.1970
) ) J参照)。
しかしながら、本発明が関与しているガスレーザ装置の
場合は、気密容器ll内という密閉された空間内でPj
流ラフアン3運転しなければならないため、ファンの大
きさに対して気密容器が非常に大きい場合を除いて前記
したようなケーシング13をそのまま用いることはでき
ない、なぜならば、レーザ媒質ガスは気密容器11内の
流路に沿って流れるため、ファンの吸い込み口が大気中
にオープンな場合と異なり、ファンの吸い込み口に流入
するレーザ媒質ガスは方向性を有しているからである。
したがって、本発明のガスレーザ装置では、レーザ媒質
ガスの流れを考慮した質流ファン吸い込み口近傍のケー
シングを設計する必要がある。
第5図は、貫流ファン3と内壁6の半径比Rt/ RI
 の値を0.61とし、線分L1と線分L2とのなず角
θを40@とした場合における、ファン吸い込み口側に
は何ら特別の案内板を設けなかったときのレーザ媒質ガ
ス流れの状態を示したものである。主放電電極1a、l
b間を通過したレーザ媒質ガスは、下部主放電電極1b
の近傍で剥M17と渦18aを生じ、また貫流ファン3
内に理論的にも生しる渦18bがファン吸い込み口にま
ではみ出て、前記した剥g+117.渦18aと混ざり
合うことにより複雑なガス流れを形成する。その結果、
貫流ファン3のガス吸入面積は狭くなってファンに滑ら
かに流入するレーザ媒質ガス量は少ないものとなる。
なお、図中渦18cは、下部主放電電極1bと、案内板
7が滑らかにつながっていないために生じる渦であり、
主に案内板7からのガス流れの剥離によるものである。
第6図は、ファン吸い込み口側に案内板8を設けたとき
のレーザ媒質ガス流れの状態を示したものである。この
案内板8によって前出第5図に示した渦18bがファン
吸い込み口にはみ出るのを抑え、ファンに流入するレー
ザ媒質ガス流れを整えることができるので、貫流ファン
3のガス吸入面積を広くすることができ、それ故ファン
吹き出し風量を増すことができる。この案内板8は、レ
ーザ媒質ガスの流れの外周を形成する内壁6の円の中心
01とほとんど等しい位置に中心を有する円弧とされる
。ここで、案内板8の下端8aの位置は、第7図に示す
ように、貫流ファン3の中心O!とその下端8aを結ぶ
線分り、と線分り、とのなす角φについては、半径比R
z /R,;0.61゜角θ:401の場合には、14
0@≦φ≦160°の範囲が適当である。その運出は、
φが140°より小さい場合にはこの案内板8の表面で
剥離が生じ、また160°よりも大きい場合には貫流フ
ァン3の吸入面積が減少することにより、ガス吹き出し
風量は減少するからである。
つぎに、下部主放電電極1b近傍のレーザ媒質ガス流れ
を整える手段について説明すると、第8図は下部主放電
電極1b近傍のレーザ媒質ガス流れに対し上流側にガイ
ドブロック10aを配した場合を示したものであり、第
9図は下部主放電電極1bの上流側および下流側にそれ
ぞれガイドブロック10a、10bを配した場合を示し
たものである。
前出第5図に示した従来装置のように、ガイドブロック
10a、10bがない場合は、下部主放電電極1b近傍
に剥離17以外に渦18a、18cが生じ、レーザ媒質
ガスは滑らかに主放電電極間を通過しない、このように
放電空間に渦や剥離が生じると、放電によって生じたダ
ストや不純物の一部が放電空間に滞留したり、あるいは
レーザ媒質ガスの密度変化□が生してアーク放電の原因
となって電極を傷めるため、レーザ発振を妨げたりする
ので、レーザ出力の低下や不安定化をもたらしたり、電
極交換のメンテナンス間隔が短くなるという問題がある
。そこで、ガイドブロック10a、10bを設けること
により、渦や剥離をなくすることが必要である。
以上のように、貫流ファン3を用いてレーザ媒質ガスを
Va環するようにしたガスレーザ装置では、貫流ファン
3のケーシング13と主放電電極1a。
lb近傍のガス流路形状を最適化しなければ、放電空間
のレーザ媒質ガスを適切に循環することができず、レー
ザ出力は低く不安定なものしか得られない、さらに、主
放電電極1a、lb間でアーク放電が頻繁に生じると、
主放電電極そのものを傷めることになり、電極寿命も短
くなってしまうことになる。
貫流ファンの位置、ケーシングおよび放電空間近傍のレ
ーザ媒質ガス流路形状を最適化した本発明例の装置を用
いて、貫流ファンの回転数を2700rp−として、K
rFエキシマレーザを発振させた場合の繰り返し発振周
波数(+12)とレーザ出力(W)の関係特性を、第1
0図に直線へとして示した。
なお、比較のために、前出第5図に示した従来装置を用
いて同一条件での特性を1llI綿Bとして、また貫流
ファンの回転数を400Orpmとしたときの特性を曲
線Cとして、第10図に併せて示した。
−aに、にrFエキシマレーザはパルスレーザであって
、通常、放電空間のレーザ媒質ガスWi環が十分に行わ
れていれば、繰り返し発振周波数に正比例したレーザ出
力が得られる。
このことから、第10図に示した直線Aは繰り返し発振
周波数に正比例したレーザ出力が増加していることから
、本発明のガスレーザ装置においてはレーザ媒質ガスv
a環が十分に行われていることを示している。また、主
放電電極間における放電は発振周波数によらず−様なグ
ロー放電である。
一方、曲線Bは繰り返し発振周波数が1001Izまで
は直線的にレーザ出力が増加してしているが、それ以上
発振周波数を増すとレーザ出ツノは減少する。このこと
から、放電と放電の間にレーザ媒質ガスのI環(交換)
が不十分であることがわかる。
すなわち、発振周波数に正比例してレーザ出力が増加し
ているときは、主放電電極間では−様なグロー放電であ
るが、レーザ出力が減少している発振周波数においては
アーク放電となっているのである。
また、曲L’ilCは、貫流ファンの回転数を増加した
分だけ曲線Bに比して直線的にレーザ出力が増加する発
振周波数が高くなっていることから、レーザ媒質ガス循
環がかなりよく行われていることがわかるが、直線Aの
場合に比べると貫流ファンの回転数が約1.5倍も高い
ことから、質流ファンの運転効率が悪いのである。また
、貫流ファンを高速に回転させるには、出力の大きいモ
ータと容量の大きいモータドライバを用いれば可能では
あるが、ガスレーザ装置の総合効率の点から好ましくな
い、それにもまして、貫流ファンを高速回転させると、
ファン軸受の摩耗や軸受ベアリングの摩耗および破損、
ベアリング潤滑グリスのmtlkや蒸発、モータとファ
ンのカプリングの破tMといった機械的故障の頻度が増
加したり、レーザ出力をを妨げるようなダストや不純物
の発生などにより、レーザ媒質ガスの寿命とガスレーザ
装置自体の寿命が短くなるので、極力貫流ファンは低回
転で運転した方がよいのである。
(発明の効果〉 以上説明したように、本発明のガスレーザ装置によれば
、従来装置に比して気密容器の大きさに対して貫流ファ
ンのサイズを大きくし、さらに貫流ファンの位置とケー
シングの形状、放電空間近傍のガス流路形状を最適化す
るようにしたので、貫流ファンの回転数を従来装置より
低くしても十分なレーザ媒質ガス循環が行えるようにな
り、放電電極間での−様なグロー放電が実現することが
でき、高出力で安定したレーザ光出力が得ることが可能
である。
また、貫流ファンの回転数を低減し得ることから、貫流
ファンの機械的寿命を伸ばすことができ、不純ガスの発
生を抑制することができる。
さらに、ガス流路を形成する案内板、ガイドブロックの
形状は簡単でかつその数は少なく、気密容器の形状も簡
単であるから、その製造コストを低下さ・きることがで
き、安価なガスレーザ装置を提供することが可能である
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係るガスレーザ装置の実施例を示す
概要図、第2図は、内壁の他の実施例を示す概要図、第
3図は、貫流ファンの容量と位置を示す説明図、第4図
は、一般的なケーシングの形状を示す概要図、第5図は
、従来装置のレーザ媒質ガス流れの状態を示す概要図、
第6図は、本発明装置のレーザ媒質ガス流れの状態を示
す概要図、第7図は、案内板8の形状を示す概要図、第
8.9図は下部主放電電極1b近傍のレーザ媒質ガス流
れを整える手段の説明図、第10図は、繰り返し発振周
波数とレーザ出力の関係を示す特性図、第11.12.
13図は、従来装置の構成を示す概要図である。 1a・・・上部主放電電極、   lb・・・下部主放
電電極、   2a、2b・・・予備電離電極、  3
・・・貫流ファン、  4・・・熱交換器、  6・・
・内壁、  78.9a、9b−・・案内板、  10
a、10b−ガイドブロック、  11・・・気密容器
、  13・・・ケーシング、  17・・・剥離+ 
 18a、18b、18c・・・渦。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、レーザ媒質ガスが封入された気密容器と、この気密
    容器内に前記レーザ媒質ガスを励起する予備電離電極と
    上下一対の主放電電極からなる放電部と、この放電部に
    レーザ媒質ガスを循環、冷却する貫流ファンと、熱交換
    器とからなるガスレーザ装置において、前記気密容器に
    円柱状の内壁を備えるとともに、この内壁上部に上部主
    放電電極と予備電離電極とをその内部に突出するように
    配設し、さらにこの内壁内に下部主放電電極と貫流ファ
    ンと熱交換器とを備え、前記貫流ファンの半径を前記内
    壁の半径に対して0.40以上0.65以内としたこと
    を特徴とするガスレーザ装置。 2、前記内壁の円の中心と前記貫流ファンの中心を結ぶ
    線分と、前記主放電電極の中心と前記内壁の円の中心を
    結ぶ線分とのなす角を30°から50°の範囲としたこ
    とを特徴とする請求項1記載のガスレーザ装置。 3、前記貫流ファンの吸い込み口と吹き出し口とを分離
    する案内板を設けたことを特徴とする請求項1ないし2
    記載のガスレーザ装置。 4、前記下部主放電電極の近傍にレーザ媒質ガスの流れ
    を整えるガイドブロックを設けたことを特徴とする請求
    項1ないし3記載のガスレーザ装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004526334A (ja) * 2001-05-11 2004-08-26 サイマー, インコーポレイテッド 4KHzガス放電レーザシステム
US7215695B2 (en) 2004-10-13 2007-05-08 Gigaphoton Discharge excitation type pulse laser apparatus

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JP2004526334A (ja) * 2001-05-11 2004-08-26 サイマー, インコーポレイテッド 4KHzガス放電レーザシステム
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