JPH03119774A - パルス励起形レーザ装置 - Google Patents

パルス励起形レーザ装置

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JPH03119774A
JPH03119774A JP25530189A JP25530189A JPH03119774A JP H03119774 A JPH03119774 A JP H03119774A JP 25530189 A JP25530189 A JP 25530189A JP 25530189 A JP25530189 A JP 25530189A JP H03119774 A JPH03119774 A JP H03119774A
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JP
Japan
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flash lamp
inductance
capacitance
capacitor
waveform shaping
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Pending
Application number
JP25530189A
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English (en)
Inventor
Kiyoshi Okumura
奥村 清
Kiyoshi Saito
清 斉藤
Toshimasa Imaoka
今岡 敏正
Kazumago Nishimura
西村 和孫
Akio Nakazawa
彰男 中沢
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication of JPH03119774A publication Critical patent/JPH03119774A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/0915Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by incoherent light
    • H01S3/092Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by incoherent light of flash lamp

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、パルス励起形レーザ装置に関する。
〔従来の技術〕
パルス励起形レーザ装置は、溶接、穴あけ、焼入れ、マ
ーキング等の加工に使用する。かかるレーザ装置は、励
起源としてフラッシュランプを使用し、このフラッシュ
ランプに台形状の電流を印加すると、その台形状の電流
に相似のレーザ出力を得る。
かかるパルス励起形のレーザ装置の従来例には、特開昭
58−212188号、特開昭60−49688号があ
る。この2つの従来例は、フラッシュランプへの電流供
給源として、パルス整形回路(パルスフォーミングネッ
トワーク、PFNと略)を使用する。PFNは、コンデ
ンサとチョークコイルとより成るCL回路を多段(カス
ケード)接続した回路であり、その一端には充電用直流
電源を接続し、他端に上記フラッシュランプを負荷とし
て接続する。かかる接続を第9図に示す。PFNIOは
、4段接続のCL回路であり、各段のコンデンサ14,
16,18.20の容量はCO+チョークコイル15.
17,19.21のインダクタンスはり、である。直流
源11は、PFNIOへの充電電源であり、サイリスタ
13は、フラッシュランプ12へ放電タイミング決定用
に使用する。
動作は、以下の通りである。先ず直流電源11からPF
NIOへ電流を送り各コンデンサ14〜20を充電する
。充分に充電された時点で、サイリスタ13をONすれ
ば、PFNIOからサイリスタ13を通してフラッシュ
ランプ12へ放電が行われる。この放電は、各段のコン
デンサからチョークコイルを介して行われる。この結果
、PFNIOの出力電流は、第10図に示す如く台形状
電流となる。レーザ出力は、この台形状電流に相似の波
形となる。
このPFNを使ったレーザ装置側を第11図に示す。
この従来例は、特開昭61−224381号に記載され
るでいる。パルス励起固体レーザ部は、2枚の反射ミラ
ー20,21、固体レーザ媒質22、シャッタ23、フ
ラッシュランプ12より成り、これを制御する手段とし
て、PFNIO、サイリスタ13.27、駆動回路25
,26、コントローラ24を有する。駆動回路26は、
シャッタ23の開閉制御を行う。シャッタ23が閉じて
いるときは、フラッシュランプ12が点灯しても、レー
ザ出力は外部に取出せない。
フラッシュランプ12の点灯はサイリスタ13をONし
てPFNIOから電流を通電すればよい。これにより、
レーザ光が放射する。
一方、フラッシュランプ12の消灯は、サイリスタ27
をONすればよい。
〔発明が解決しようとする課題〕
特開昭61−224381号、PFNたるCL回路の各
段にあってはC0tLOと同一値であるが故に、各段で
のインピーダンスが同一となり、インピーダンスマツチ
ングを図っている。然るに、サイリスタ27による励起
ランプ電流遮断時にはPFNIO内のチョークコイルに
は、インダクタンス成分の故に電流急変時によるサージ
が発生することになる。
しかし、特開昭61−224381号にはこのサージに
関する記載はない。
サージが発生すると、PFNの内部閃絡等の絶縁故障と
いった問題が生ずる。
一方、レーザ光出力波形は、励起電流波形で定まるが、
この電流の半値幅を第2のサイリスタ27を用いること
なく短くすることは、PFN内での抵抗成分の存在、P
FN内でのC,L回路定数による制限、といった点から
困難であった。
本発明の目的は、パルス幅を短くできるレーザ装置を提
供するものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、PFNのコンデンサとチョークコイルとを全
部同一値とするのではなく、フラッシュランプに近い程
C,Lを大きくし、フラッシュランプに遠い程C,Lを
小さくしたものであり、且つ各段のCとLどの比を一定
にせしめたものである。
〔作 用〕
本発明によれば、励起パルスの立上り特性はフラッシュ
ランプに近いCとLによって定まる故にランプに適合し
たものとなり、励起パルスの立下り特性はフラッシュラ
ンプに遠いCとLによって定まる故に急なものとなる。
〔実施例〕
第1図は本発明のPFNの実施例図である。本実施例で
は、回路構成は従来と同じCとLとの各膜結合形のPF
Nであるが、コンデンサ21,23,25゜27とチョ
ークコイル22,24,26.28の静電容量C4゜C
3,C2,CいインダクタンスL4.L、、L、。
Llを次の如く設定した値とする。
C+ > C2> C3> C4・・・・・・(1)L
 I> L 2 > L 3 > L 4・・・・・・
(2) ここで、(3)式は、各段でのインピーダンスマツチン
グ条件であり、これによりサージ発生は防止できる。(
1)、(2)式は、励起パルスの波形決定要因をなし、
フラッシュランプ12に近い側のC。
Lにより立上りの改善をはかり、フラッシュランプ12
に遠い側のC,Lにより立下りを急峻なものとする。
ここで、その理由を述べる。PFNIOからフラッシュ
ランプ12への放電は、チョークコイル28゜26.2
4.22の存在により、最も近いコンデンサ27が最初
にパルスを形成する。次いで、チョークコイル28の存
在分だけ遅れてコンデンサ25がコンデンサ27のパル
ス波形に重畳する。以下、チョークコイル26と28の
存在分だけ遅れてコンデンサ23が続き、最後にチョー
クコイル24と26と28の存在分だけ遅れてコンデン
サ21がパルス波形を形成する。
この結果は、台形状のパルス波形となるのであるが、フ
ラッシュランプ12に近いコンデンサ程大きな電荷(Q
=C■)を持つ故に、大きなパルス電流(波形)となる
。これは立上げ時の現象である。
一方、フラッシュランプ12に遠いコンデンサでは小さ
な電荷を持つ故に、かなり遅く放電をすると考えてよい
。従って、立下りは遠いコンデンサの影響を受けること
になり、急峻な立下りとなる(と解する)。
本実施例のパルス波形例を従来例のパルス波形と対比す
る。
第2図(イ)は第2図(ロ)の従来例でのC,L各設問
−例でのパルス波形図である。C0=55μF。
L o= 65μHに設定した場合のフラッシュランプ
12に印加する電流(放電電流)波形が第2図(イ)で
ある。この波形では、パルス幅は0.26a+sとなる
かかる第2図(イ)では、立上りのピーク部分P1は低
く、且つ立下りの一部P2に凹みが発生する。
一方、第3図(イ)は、第3図(ロ)の本実施例でのC
,L各段異ならしめた場合でのパルス波形図である。、
C0=55μF、C2=27.5fμF、C3=16.
5μF、C4=11μF、L、=65μH,L2=32
.5μH,L3=19.5μH,L4=13μHに設定
した。ここで、L、=L2+L3+L4.Cl=C2+
c3+C,の関係であり、且つL I = L O+ 
CI = COとした。これによって、回路定数上は、
第2図(ロ)と第3図(ロ)とは同一条件とみることが
できる。さて、第3図(ロ)の回路によるパルス波形図
である第3図(イ)からは、立上りのピーク部分Plが
高くなっていること、立下りの凹みの部分P2が解消さ
れていることがわかる。パルス幅は0.22m5と短縮
できる(約85%に短縮)。更に、ランプ特性に適合し
た特性となった。
第4図は次第2図(ロ)の従来回路でのコンデンサ20
.18からの放電電流波形1.12を示す(この波形は
シミュレーション結果である)。振動を繰返しながら放
電電流が減衰していることがわかる。
この放電電流波形1.と12とが重畳してフラッシュラ
ンプ12へ印加するパルスとなる。この重畳波形が第2
図(イ)となる。
第5図は第3図(ロ)の本実施例でのコンデンサ27.
25からの放電電流波形fly I2、第6図は第3図
の(ロ)の本実施例でのコンデンサ23.21からの放
電電流波形13+  14を示す。いずれもシミュレー
ション結果を示す。フラッシュランプ12へ印加するパ
ルスは、I I e  I 2* I 3.I 4との
重畳したものとなる。この重畳波形が第3図(イ)とな
る。
尚、第4図〜第6図によれば、振動は繰返し行われて、
回路で定まる時定数に従って減衰する。
さて、この第4図〜第6図の波形の中で、第2図(イ)
、第3図(イ)の波形に寄与するのは最初の2波程度で
あり、残りの波は重畳の結果零とし、結果として関係な
くなる。
第7図は充電電源たる直流電源11をコンデンサ27の
両端に接続した実施例図である。この接続実施例によれ
ば、充電は従来例と変わることなく行われると共に、放
電も従来例と変ることなく行われる。
第8図(イ)はPFNのコンデンサの他の実施例図であ
る。単一容量C,のコンデンサを用意しておき、これを
組合せて他の容量を形成せしめた実施例図である。即ち
、コンデンサ25を2つのC。
の直列回路、コンデンサ23を4つのC1の直列回路で
コンデンサ21を8個のC,の直列回路で構成した。第
8図(ロ)はチョークコイル22の直列の組合せて各チ
ョークコイル24,26.28を構成せしめた実施例図
である。これらの実施例によれば標準化をはかれる。第
8図(イ)、(ロ)の組合せも可能である。尚、直列化
ではなく並列化した接続であってもよい。
本実施例によれば、パルス幅が短くなることから同一の
出力(J)でもピークパワー(W)を大きくなることが
できる、且つ従来に比してより速い加工作業が可能とな
った。このため特にマーキング加工では、マーキング面
の対象物を瞬時に蒸発させることができ、すすの発生を
少なくできる。
尚、段数としては、2段以上が好ましい。更に、各段の
CとLとを(1)弐〜(3)式を満足した範囲で変更で
きるので種々の任意の波形特性を得ることができる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、ランプ特性に適合した特性を得ること
ができる。更に、(3)式を満足するが故にサージ発生
はない。更に、電流半値幅の短い電流をフラッシュラン
プに供給できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明PFNの実施例図、第2図は従来例の波
形説明図、第3図は本実施例の波形説明図、第4図は従
来の放電波形例図、第5図及び第6図は本実施例の放電
波形例図、第7図は本発明のPFNの他の実施例図、第
8図はPFNの更に他の実施例図、第9図は従来のPF
Nの回路側図、第10図はその放電波形図、第11図は
従来のレーザ装置を示す図である。 10・・・波形整形回路(PFN)、11・・・充電電
源(直流電源)、12・・・フラッシュランプ、13・
・・サイリスタ、21,23,25.27・・・コンデ
ンサ、22,24,26゜28・・・チョークコイル。 □を 集 1 図 纂 2[ −1 稟 稟 デ 図 拓 0 図 稟 //

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、波形整形回路と、該波形整形回路の放電電流が入力
    するフラッシュランプと、該ランプを励起源とするレー
    ザ発生部とより成るパルス励起形レーザ装置において、 上記波形整形回路は、コンデンサとチョークコイルとよ
    り成るCL回路を多段縦続結合した構成より成り、且つ
    フラッシュランプに近い側のコンデンサの静電容量及び
    チョークコイルのインダクタンスの値を、フラッシュラ
    ンプに遠い側のコンデンサの静電容量及びチョークコイ
    ルのインダクタンスの値に比して大きく設定し、且つ各
    段の静電容量とインダクタンスの比を略同一値と設定し
    てなるパルス励起形レーザ装置。 2、上記波形整形回路のフラッシュランプに最も近いコ
    ンデンサの静電容量をC_1とするとき、残りのコンデ
    ンサは、この静電容量C_1を持つコンデンサを直列接
    続して形成した請求項1のパルス励起形レーザ装置。 3、上記波形整形回路のフラッシュランプに最も遠いチ
    ョークコイルのインダクタンスをLとするとき、残りの
    チョークコイルは、このインダクタンスLのチョークコ
    イルを直列接続して形成した請求項1のパルス励起形レ
    ーザ装置。 4、上記波形整形回路への充電直流電源は、縦続結合部
    のいずれかに接続してなる請求項1のパルス励起形レー
    ザ装置。 5、波形整形回路と、該波形整形回路の出力側に設けた
    第1のサイリスタと、該第1のサイリスタを介しての放
    電電流が入力するフラッシュランプと、該ランプを励起
    源とするレーザ発生部と、該レーザ発生部内の2つの反
    射鏡の一方の反射鏡の手前に設けたシャッタと、上記第
    1のサイリスタの出力端に接続された転流用の第2のサ
    イリスタと、より成るパルス励起形レーザ装置において
    、 上記波形整形回路は、コンデンサとチョークコイルとよ
    り成るCL回路を多段縦続結合した構成より成り、且つ
    フラッシュランプに近い側のコンデンサの静電容量及び
    チョークコイルのインダクタンスの値を、フラッシュラ
    ンプに遠い側のコンデンサの静電容量及びチョークコイ
    ルのインダクタンスの値に比して大きく設定し、且つ各
    段の静電容量としてインダクタンスの比を同一値と設定
    してなるパルス励起形レーザ装置。
JP25530189A 1989-10-02 1989-10-02 パルス励起形レーザ装置 Pending JPH03119774A (ja)

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JP (1) JPH03119774A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007088419A (ja) * 2005-06-17 2007-04-05 Nisshinbo Ind Inc ソーラシミュレータによる測定方法
JP2008270635A (ja) * 2007-04-24 2008-11-06 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ソーラシミュレータ用光源装置

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