JPH03106983A - 研磨剤組成物の製造方法 - Google Patents
研磨剤組成物の製造方法Info
- Publication number
- JPH03106983A JPH03106983A JP1242721A JP24272189A JPH03106983A JP H03106983 A JPH03106983 A JP H03106983A JP 1242721 A JP1242721 A JP 1242721A JP 24272189 A JP24272189 A JP 24272189A JP H03106983 A JPH03106983 A JP H03106983A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- abrasive
- sieve
- slurry
- abrasive powder
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 abstract 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N selenium dioxide Chemical compound O=[Se]=O JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［産業上の利用分野１
本発明は研磨剤組成物の製造方法に関するものである。
詳しくは、粗大異物を含まない研磨剤組戒物を製造する
方法に関するものである。 ［従来技術】 金属、セラミックス、ハードディスク等の表面を平滑に
するために、研磨剤粉末を水等の液体に懸濁した研磨剤
組戒物が広く使用されている。 このような研磨剤組戒物においては、研磨剤粉末は通常
凝集した粒子として存在するが、研磨剤粉末の粗大な凝
集粒子や研磨剤以外の物質がらなる粗大な固形異物（以
下、これらを粗大粒子と称す）が存在すると、被研磨表
面に研磨傷が発生して製品の商品価値を損ない、特にハ
ードディスク等の精密さが要求される分野においては、
微細な傷であっても性能上致命的な欠陥となるので、粗
大異物を含まない研磨剤組戒物を使用する必要がある。 粗大粒子を含まない研磨剤組成物は、粗大粒子を含まな
い研磨剤粉末を用いて調製すればよいが、研磨剤粉末か
らの粗大粒子の分離は容易ではない。例えば機械的振動
篩にかけて粗大粒子を篩上に残し粗大粒子を含まない研
磨剤粉末を取得しようとしても、静電気の作用もあって
ブリッジングを起こして希望する粒径の研磨剤粉末を分
級することはできない。また、目開きの大きい篩を用い
ると粗大粒子も同時に篩を通過して目的を達戒すること
は出来ず、実際上粗大粒子の分離は不可能であった。 ［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、粗大粒子を可能な限り除去した高品質の研磨
剤組戒物の製造方法を提供するものである。 ［課題を解決するための手段］ すなわち本発明の要旨は、研磨剤粉末を媒体に懸濁して
得た研磨剤スラリーを篩にかけ、該研磨剤スラリーを篩
を通して取得することを特徴とする研磨剤組戒物の製造
方法に存する。 以下、本発明を詳細に説明する。 本発明の研磨剤組戒物で使用される研磨剤粉末としては
、アルミナ、シリカ、ジルコニア、シリコンカーバイド
、酸化セレン、酸化クロムのような公知の種々の研磨剤
用の粉末があげられる。これら研磨剤粉末は平均素粒子
径が５１１ｍ以下であるが、通常水等の液体媒体中では
凝集した状態で存在し平均凝集粒子径（Ｄ５０）は１０
〜１００ｐｍ程度である。 研磨剤スラリーを調製するための媒体としては主として
水が用いられるが、分散剤、有機溶剤その他研磨剤に添
加される公知の種々の添加剤を含有していてもよい。研
磨剤スラリー中の研磨剤粉末の含有量は通常５０重量％
以下、好ましくは１０〜３０重量％である。研磨剤粉末
の含有量があまりに多いと篩分けが困難となる。逆に研
磨剤粉末の含有量が少ないことは篩分けの上からは不都
合はないが研磨剤組威物として実用的な濃度のものでは
なくなる。 本発明で使用する篩としては、特に限定されるものでは
ないが、例えば機械的振動篩や篩の前に分散装置を有す
る形式のもの等が好ましい。篩の目開きは通常は４０１
１ｍ以下、好ましくは３０￥ｌｍ以下のものを用いるの
がよく、２ｐｍ以上のものを選ぶのがよい。 篩が機械的振動篩である場合、篩の振動数が１５００〜
３５００回ｌ秒、好ましくは２５００〜３０００回ｌ秒
、振動幅が１〜７ｍｍ、好ましくは２〜５ｍｍ程度のも
のを使用するのがよい。このような篩の例としては、エ
アーファイネツクス（不二バウダル株式会社商品名）等
があげられる。 研磨剤スラリーは篩にかけ、粗大粒子のみを篩上に残し
、研磨剤スラリーは篩を通して取り出し、そのまま、ま
たは濃度調整などして研磨剤組成物として使用する。
方法に関するものである。 ［従来技術】 金属、セラミックス、ハードディスク等の表面を平滑に
するために、研磨剤粉末を水等の液体に懸濁した研磨剤
組戒物が広く使用されている。 このような研磨剤組戒物においては、研磨剤粉末は通常
凝集した粒子として存在するが、研磨剤粉末の粗大な凝
集粒子や研磨剤以外の物質がらなる粗大な固形異物（以
下、これらを粗大粒子と称す）が存在すると、被研磨表
面に研磨傷が発生して製品の商品価値を損ない、特にハ
ードディスク等の精密さが要求される分野においては、
微細な傷であっても性能上致命的な欠陥となるので、粗
大異物を含まない研磨剤組戒物を使用する必要がある。 粗大粒子を含まない研磨剤組成物は、粗大粒子を含まな
い研磨剤粉末を用いて調製すればよいが、研磨剤粉末か
らの粗大粒子の分離は容易ではない。例えば機械的振動
篩にかけて粗大粒子を篩上に残し粗大粒子を含まない研
磨剤粉末を取得しようとしても、静電気の作用もあって
ブリッジングを起こして希望する粒径の研磨剤粉末を分
級することはできない。また、目開きの大きい篩を用い
ると粗大粒子も同時に篩を通過して目的を達戒すること
は出来ず、実際上粗大粒子の分離は不可能であった。 ［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、粗大粒子を可能な限り除去した高品質の研磨
剤組戒物の製造方法を提供するものである。 ［課題を解決するための手段］ すなわち本発明の要旨は、研磨剤粉末を媒体に懸濁して
得た研磨剤スラリーを篩にかけ、該研磨剤スラリーを篩
を通して取得することを特徴とする研磨剤組戒物の製造
方法に存する。 以下、本発明を詳細に説明する。 本発明の研磨剤組戒物で使用される研磨剤粉末としては
、アルミナ、シリカ、ジルコニア、シリコンカーバイド
、酸化セレン、酸化クロムのような公知の種々の研磨剤
用の粉末があげられる。これら研磨剤粉末は平均素粒子
径が５１１ｍ以下であるが、通常水等の液体媒体中では
凝集した状態で存在し平均凝集粒子径（Ｄ５０）は１０
〜１００ｐｍ程度である。 研磨剤スラリーを調製するための媒体としては主として
水が用いられるが、分散剤、有機溶剤その他研磨剤に添
加される公知の種々の添加剤を含有していてもよい。研
磨剤スラリー中の研磨剤粉末の含有量は通常５０重量％
以下、好ましくは１０〜３０重量％である。研磨剤粉末
の含有量があまりに多いと篩分けが困難となる。逆に研
磨剤粉末の含有量が少ないことは篩分けの上からは不都
合はないが研磨剤組威物として実用的な濃度のものでは
なくなる。 本発明で使用する篩としては、特に限定されるものでは
ないが、例えば機械的振動篩や篩の前に分散装置を有す
る形式のもの等が好ましい。篩の目開きは通常は４０１
１ｍ以下、好ましくは３０￥ｌｍ以下のものを用いるの
がよく、２ｐｍ以上のものを選ぶのがよい。 篩が機械的振動篩である場合、篩の振動数が１５００〜
３５００回ｌ秒、好ましくは２５００〜３０００回ｌ秒
、振動幅が１〜７ｍｍ、好ましくは２〜５ｍｍ程度のも
のを使用するのがよい。このような篩の例としては、エ
アーファイネツクス（不二バウダル株式会社商品名）等
があげられる。 研磨剤スラリーは篩にかけ、粗大粒子のみを篩上に残し
、研磨剤スラリーは篩を通して取り出し、そのまま、ま
たは濃度調整などして研磨剤組成物として使用する。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本
発明はその要旨をこえない限り以下の実施例に限定され
るものではない。 実施例１ 水と、水に対し１５重量％のアルミナ（研磨剤粉末）お
よび３重量％のセルロース（分散剤）を混合し、強く撹
拌して１５０センチボイズの粘度を有する研磨剤スラリ
ーを調製した。 これを篩直径５０ｃｍ、目開き２８ｐｍ、振動数２８０
０回ｌ秒、振幅４ｍｍの振動篩に供給し、１００ｍｍ水
柱の圧力下濾過を行った。濾過速度は３０ｅ ／ Ｈｒ
で、ＪＩＳ − Ｋ − ６２２１−１９７０篩残分Ａ
法による３２５ｍｅｓｈｉｆｔｉ残分が検出されない研
磨剤組成物が得られた。 ［発明の効果１ 本発明によれば、研磨剤粉末を媒体に懸濁分散させて得
た研磨剤スラリーとして篩を通過されることにより、研
磨剤粉末を粉末のまま処理する場合に比べて極めて効率
よく粗大粒子を除去することが出来、得られる研磨剤組
成物は極めて高品質のものであり、被研磨材料の不良品
発生率を格段に低下させることが出来るので、工業的価
値は極めて大きい。
発明はその要旨をこえない限り以下の実施例に限定され
るものではない。 実施例１ 水と、水に対し１５重量％のアルミナ（研磨剤粉末）お
よび３重量％のセルロース（分散剤）を混合し、強く撹
拌して１５０センチボイズの粘度を有する研磨剤スラリ
ーを調製した。 これを篩直径５０ｃｍ、目開き２８ｐｍ、振動数２８０
０回ｌ秒、振幅４ｍｍの振動篩に供給し、１００ｍｍ水
柱の圧力下濾過を行った。濾過速度は３０ｅ ／ Ｈｒ
で、ＪＩＳ − Ｋ − ６２２１−１９７０篩残分Ａ
法による３２５ｍｅｓｈｉｆｔｉ残分が検出されない研
磨剤組成物が得られた。 ［発明の効果１ 本発明によれば、研磨剤粉末を媒体に懸濁分散させて得
た研磨剤スラリーとして篩を通過されることにより、研
磨剤粉末を粉末のまま処理する場合に比べて極めて効率
よく粗大粒子を除去することが出来、得られる研磨剤組
成物は極めて高品質のものであり、被研磨材料の不良品
発生率を格段に低下させることが出来るので、工業的価
値は極めて大きい。
Claims (1)
- （１）研磨剤粉末を媒体に懸濁して得た研磨剤スラリー
を篩にかけ、該研磨剤スラリーを篩を通して取得するこ
とを特徴とする研磨剤組成物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1242721A JPH03106983A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 研磨剤組成物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1242721A JPH03106983A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 研磨剤組成物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03106983A true JPH03106983A (ja) | 1991-05-07 |
Family
ID=17093259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1242721A Pending JPH03106983A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 研磨剤組成物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03106983A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5733499A (en) * | 1994-11-09 | 1998-03-31 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for producing ceramic substrate |
-
1989
- 1989-09-19 JP JP1242721A patent/JPH03106983A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5733499A (en) * | 1994-11-09 | 1998-03-31 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for producing ceramic substrate |
| US5955392A (en) * | 1994-11-09 | 1999-09-21 | Ngk Insulators, Ltd. | Zirconia ceramic green sheet |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100263596B1 (ko) | 연소용 졸-겔 알루미나 입자 | |
| KR100476145B1 (ko) | 정전 투척 가능한 정전 부착 분말 조성물 | |
| CN1394229A (zh) | 铈基磨料和铈基磨料的制造方法 | |
| US4373934A (en) | Metal bonded diamond aggregate abrasive | |
| CN111527047A (zh) | 多孔二氧化硅粒子及其制造方法 | |
| CN104619648B (zh) | 基于TiO2的擦洗颗粒，以及制备和使用这样的基于TiO2的擦洗颗粒的方法 | |
| JPWO2004035216A1 (ja) | 乾式粉砕装置および乾式粉砕方法 | |
| US4765545A (en) | Rice hull ash filter | |
| RU2118099C1 (ru) | Способ обработки высушенного аспартама и аспартам | |
| JPH03106983A (ja) | 研磨剤組成物の製造方法 | |
| JP3830619B2 (ja) | ラップ加工装置の使用済み組成物の再生循環方法および再生循環装置 | |
| JP3416855B2 (ja) | 研磨用組成物および研磨方法 | |
| JPH10194743A (ja) | ジルコニア−アルミナ顆粒及びその製造方法 | |
| JP2020075849A (ja) | セラミックビーズの製造方法 | |
| JP2008088325A (ja) | 酸化セリウム系研摩材 | |
| JPH03106984A (ja) | 研磨剤組成物の製造法 | |
| JP2000254543A (ja) | 炭化珪素研磨剤の再生処理方法及び研磨剤 | |
| JP3986384B2 (ja) | セリウム系研摩材およびその製造方法 | |
| JP3687291B2 (ja) | 粒状物の篩分け方法 | |
| JP3687898B2 (ja) | セリウム系研摩材の製造方法及びその方法を用いて製造されるセリウム系研摩材 | |
| JP4290465B2 (ja) | 酸化セリウムを主成分とするセリウム系研摩材の製造方法 | |
| JPS62288107A (ja) | 焼結性Ｓｉ↓３Ｎ↓４粉末及びその製造方法 | |
| CN215656323U (zh) | 一种高效瓜尔胶片筛选装置 | |
| JP3603165B2 (ja) | 砥粒組成物 | |
| JPH01121164A (ja) | 微粉研摩材 |