JPH03103237A - 交差緩和時間mri調整用ファントム - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明は、MRI (NMR−CT:核磁気共鳴断層撮
像装置)調整用ファントムに関し、更に詳しくは交差緩
和時間MRIiffl整用のファントムに関するもので
ある。
像装置)調整用ファントムに関し、更に詳しくは交差緩
和時間MRIiffl整用のファントムに関するもので
ある。
(背景技術)
近年、癌等の腫瘍を早期発見するための一手法として、
MR I (Magnetic Resonance
Imaging)が用いられてきている。そして、現在
、広く用いられているMRIは、T,,T.モードMR
Iと呼ばれ、正常組織と異常組織に含まれる水の縦緩和
時間(T,)と横緩和時間(T2)の相違に基づいて断
層像を得るものである。
MR I (Magnetic Resonance
Imaging)が用いられてきている。そして、現在
、広く用いられているMRIは、T,,T.モードMR
Iと呼ばれ、正常組織と異常組織に含まれる水の縦緩和
時間(T,)と横緩和時間(T2)の相違に基づいて断
層像を得るものである。
ところで、このようなMRIにて、患者の良好な断層像
を得るには、測定前に、縦緩和時間、横緩和時間、イメ
ージングのスライス厚、分解能、イメージング時間等の
パラメータを規定するMRl装置の調整を行なう必要が
ある。而して、患者自身を用い、MRI装置の調整を行
なうには、患者に負担がかかるところから、従来では、
人体内の水の状況を模したファントムを用い、調整を行
なっているのが実情であり、そしてそのような調整を行
なうための従来のファントムの素材としては、ポリビニ
ルアルコールを主或分とする含水率の異なるヒドロゲル
や、水の縦緩和時間を短くするためにマンガンや銅等の
金属塩を添加した溶液が用いられている。
を得るには、測定前に、縦緩和時間、横緩和時間、イメ
ージングのスライス厚、分解能、イメージング時間等の
パラメータを規定するMRl装置の調整を行なう必要が
ある。而して、患者自身を用い、MRI装置の調整を行
なうには、患者に負担がかかるところから、従来では、
人体内の水の状況を模したファントムを用い、調整を行
なっているのが実情であり、そしてそのような調整を行
なうための従来のファントムの素材としては、ポリビニ
ルアルコールを主或分とする含水率の異なるヒドロゲル
や、水の縦緩和時間を短くするためにマンガンや銅等の
金属塩を添加した溶液が用いられている。
一方、従来のMRIよりも明確に異常細胞を捉えるため
に、最近、異常組織と正常組織における水の縦緩和時間
や横緩和時間の変化よりも、組織を形威しているタンパ
ク質とその近傍の水との分子間交差緩和時間(TI5)
が大きく変化することに注目して、この交差緩和時間の
違いを基に断層像を得る交差緩和時間MRIの検討が為
されている。この交差緩和時間MRIを用いれば、現在
のMRIでは観測されないような異常m織をも捉え得る
可能性があり、患者にとっては大きな福音となるが、こ
の装置も測定前に、前述したパラメータに加え、交差緩
和時間を規定する調整が必要となるのである。
に、最近、異常組織と正常組織における水の縦緩和時間
や横緩和時間の変化よりも、組織を形威しているタンパ
ク質とその近傍の水との分子間交差緩和時間(TI5)
が大きく変化することに注目して、この交差緩和時間の
違いを基に断層像を得る交差緩和時間MRIの検討が為
されている。この交差緩和時間MRIを用いれば、現在
のMRIでは観測されないような異常m織をも捉え得る
可能性があり、患者にとっては大きな福音となるが、こ
の装置も測定前に、前述したパラメータに加え、交差緩
和時間を規定する調整が必要となるのである。
しかしながら、従来のファントムは、生体内のタンパク
賞を模していないので交差緩和時間を測定することが出
来ず、それ故に交差緩和時間MRI調整用のファントム
としては使用することの出来ないものであったのであり
、このため、そのような交差緩和時間MRIに対応し得
るファントムが望まれていたのである。
賞を模していないので交差緩和時間を測定することが出
来ず、それ故に交差緩和時間MRI調整用のファントム
としては使用することの出来ないものであったのであり
、このため、そのような交差緩和時間MRIに対応し得
るファントムが望まれていたのである。
そこで、本発明者らは、交差緩和時間MRI調整用とし
て、生体と同じような挙動、換言すればタンパク賞とそ
の近傍の水と同じような挙動を示すファントムを得るべ
く鋭意研究を重ねた結果、本発明に到達するに至ったの
である。
て、生体と同じような挙動、換言すればタンパク賞とそ
の近傍の水と同じような挙動を示すファントムを得るべ
く鋭意研究を重ねた結果、本発明に到達するに至ったの
である。
(解決課題)
従って、本発明の解決すべき課題とするところは、交差
緩和時間MRIを調整するために用いられる新規なファ
ントムを提供することにある。
緩和時間MRIを調整するために用いられる新規なファ
ントムを提供することにある。
(解決手段)
そして、本発明は、かかる課題解決のために、芳香環を
結合、含有するヒドロゲルを素材としたことを特徴とす
る交差緩和時間MRI調整用ファントムを、その要旨と
するものである。
結合、含有するヒドロゲルを素材としたことを特徴とす
る交差緩和時間MRI調整用ファントムを、その要旨と
するものである。
(作用・効果)
要するに、本発明は、生体組織を形作っているタンパク
質に多く含まれる芳香環に着目し、それをヒドロゲル中
に導入して、そのようなヒドロゲルにてファントムを形
戒することにより、交差緩和時間MRIにおいて生体と
同じような挙動を示すようにしたものである。このよう
に、本発明に従うフ1ントムは、それを形或するヒドロ
ゲル中に芳香環を結合基として含有していることにより
、ゲル構或高分子と水との交差緩和時間を測定すること
が出来、またその含水率を変化させることにより、交差
緩和時間の異なる素材、ひいてはファントムを得ること
が出来るのである。
質に多く含まれる芳香環に着目し、それをヒドロゲル中
に導入して、そのようなヒドロゲルにてファントムを形
戒することにより、交差緩和時間MRIにおいて生体と
同じような挙動を示すようにしたものである。このよう
に、本発明に従うフ1ントムは、それを形或するヒドロ
ゲル中に芳香環を結合基として含有していることにより
、ゲル構或高分子と水との交差緩和時間を測定すること
が出来、またその含水率を変化させることにより、交差
緩和時間の異なる素材、ひいてはファントムを得ること
が出来るのである。
そして、かかる本発明に従うファントムを用いて、交差
緩和時間MRIの調整が有利に行なわれることにより、
かかる交差緩和時間MRIを用いた各種疾患の診断等に
大きく寄与し得ることとなったのである。
緩和時間MRIの調整が有利に行なわれることにより、
かかる交差緩和時間MRIを用いた各種疾患の診断等に
大きく寄与し得ることとなったのである。
(具体的構或)
ところで、本発明に従うファントムを与える、芳香環を
結合、含有するヒドロゲルは、通常のヒドロゲルのゲル
構或高分子に芳香環(aromaticrjng)が結
合した構造を有するものであって、例えば芳香環を有す
るモノマーと含水性を付与するための親水性モノマーと
を、必要に応じて含水率を調整するための疎水性モノマ
ーや架橋性モノマーと共に共重合して得られた共重合体
を用い、それを水和することにより得ることが出来るも
のである。
結合、含有するヒドロゲルは、通常のヒドロゲルのゲル
構或高分子に芳香環(aromaticrjng)が結
合した構造を有するものであって、例えば芳香環を有す
るモノマーと含水性を付与するための親水性モノマーと
を、必要に応じて含水率を調整するための疎水性モノマ
ーや架橋性モノマーと共に共重合して得られた共重合体
を用い、それを水和することにより得ることが出来るも
のである。
なお、かくの如き芳香環を結合、含有するヒドロゲルを
得るために用いられる芳香環を含むモノマーとしては、
例えば周知のスチレンの他に、クロロスチレン、プロモ
スチレン、トリメチルシリルスチレン、0−メチルスチ
レン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p一
エチルスチレン、0−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロ
キシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、トリメチルス
チレン、tert−プチルスチレン、ジメチルアミノス
チレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体類; 4−ビニルベンジル−2’ 2’ 2’一トリ
フルオロエチルエーテル、4−ビニルベンジルー2’,
2’,3’,3’ 4’ 4’ 4’一へブタフ
ルオロブチルエーテル、4−ビニルベンジ)Ii−3’
,3’ ,3’ 一トリフルオロプロピルエーテル、
4−ビニルベンジルー3’ 3’ 4’4’,5’
,5’,6’,6’ 6’一ノナフルオロヘキシル
エーテル、4−ビニルベンジルー414’,5’,5’
.6’,6’.7’,7’.8’8’,8’−ウンデカ
フルオロオクチルエーテル、0−フルオロスチレン、m
−フルオロスチレン、p−フルオロスチレン、トリフル
オロスチレン、p−トリフルオロメチルスチレン、0−
トリフルオロメチルスチレン、m−}リフルオロメチル
スチレン等のフッ素含有スチレン誘導体類;ベンジル(
メタ)アクリレート、フヱニル(メタ)アクリレート等
の(メタ)アクリレート類;等を挙げることが出来、こ
れらのモノマーの中から1種または2種以上が選択され
て使用されることとなる。また、このような芳香環含有
モノマーの使用量は、全モノマー混合物100重量部中
、1〜30重量部程度、より好ましくは5〜15重量部
程度であり、このような使用量範囲において、生体組織
に近い、換言すれば生体内のタンパク質を模した状態が
有利に実現されるのである。なお、本明細書において、
「・・・ (メタ)アクリレート」とあるのは、「・・
・アクリレート」及び「・・・メタクリレート」の二つ
の化合物を表わし、以下、その他の(メタ)アクリル誘
導体の表記についても同様である。
得るために用いられる芳香環を含むモノマーとしては、
例えば周知のスチレンの他に、クロロスチレン、プロモ
スチレン、トリメチルシリルスチレン、0−メチルスチ
レン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p一
エチルスチレン、0−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロ
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チレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体類; 4−ビニルベンジル−2’ 2’ 2’一トリ
フルオロエチルエーテル、4−ビニルベンジルー2’,
2’,3’,3’ 4’ 4’ 4’一へブタフ
ルオロブチルエーテル、4−ビニルベンジ)Ii−3’
,3’ ,3’ 一トリフルオロプロピルエーテル、
4−ビニルベンジルー3’ 3’ 4’4’,5’
,5’,6’,6’ 6’一ノナフルオロヘキシル
エーテル、4−ビニルベンジルー414’,5’,5’
.6’,6’.7’,7’.8’8’,8’−ウンデカ
フルオロオクチルエーテル、0−フルオロスチレン、m
−フルオロスチレン、p−フルオロスチレン、トリフル
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スチレン等のフッ素含有スチレン誘導体類;ベンジル(
メタ)アクリレート、フヱニル(メタ)アクリレート等
の(メタ)アクリレート類;等を挙げることが出来、こ
れらのモノマーの中から1種または2種以上が選択され
て使用されることとなる。また、このような芳香環含有
モノマーの使用量は、全モノマー混合物100重量部中
、1〜30重量部程度、より好ましくは5〜15重量部
程度であり、このような使用量範囲において、生体組織
に近い、換言すれば生体内のタンパク質を模した状態が
有利に実現されるのである。なお、本明細書において、
「・・・ (メタ)アクリレート」とあるのは、「・・
・アクリレート」及び「・・・メタクリレート」の二つ
の化合物を表わし、以下、その他の(メタ)アクリル誘
導体の表記についても同様である。
また、かかる芳香環含有モノマーと共重合されて、ヒド
ロゲルを構或する、含水性を付与するために用いられる
前述の親水性モノマーとしては、例えば、 N−ビニルピロリドン、α−メチレンーN−メチルビロ
リドン、N−ビニルカプロラクタム等のN−ビニルラク
タム類; 4−ビニルビリジン、2−メチル−5−ビニルビリジン
等のビニルビリジン類; ビニルイごダゾール、N−ビニルビペリドン、N−ビニ
ルピペリジン、N−ビニルサクシンイミド等のへテロ環
式N−ビニルモノマー;ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、ヒドロキシプロビル(メタ)アクリレート、
ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ジヒドロキシ
ブロビル(メタ)アクリレート、ジヒドロキシプチル(
メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ (メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールモノ (メ
タ)アクリレート、ジプロピレングリコールモノ (メ
タ)アクリレート等の水酸基含有(メタ)アクリレート
類; (メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル
酸等の不飽和カルボン酸類; N−(メタ)アクリロイルビロリドン;(メタ)アクリ
ルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアくド、N一エ
チル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(
メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アク
リルアξド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド
、Nーエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド等の
(メタ)アクリルアミド類; アミノエチル(メタ)アクリレート、N−メチルアミノ
エチル(メタ)アクリレート、N, Nジメチルアミ
ノエチル(メタ)アクリレート等のアミノアルキル(メ
タ)アクリレート類;メトキシエチル(メタ)アクリレ
ート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシ
ジエチレングリコール(メタ)アクリレート等のアルコ
キシ基含有(メタ)アクリレート類; 等が挙げられ、これらのモノマーの中から1種または2
種以上が選択されて使用される。なお、その使用量は、
使用する親木性モノマーの種類や目的とする材料の含水
率によっても異なるが、全モノマー混合物の100重量
部中、1〜99重量部程度、より好ましくは3〜98重
量部程度である。
ロゲルを構或する、含水性を付与するために用いられる
前述の親水性モノマーとしては、例えば、 N−ビニルピロリドン、α−メチレンーN−メチルビロ
リドン、N−ビニルカプロラクタム等のN−ビニルラク
タム類; 4−ビニルビリジン、2−メチル−5−ビニルビリジン
等のビニルビリジン類; ビニルイごダゾール、N−ビニルビペリドン、N−ビニ
ルピペリジン、N−ビニルサクシンイミド等のへテロ環
式N−ビニルモノマー;ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、ヒドロキシプロビル(メタ)アクリレート、
ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ジヒドロキシ
ブロビル(メタ)アクリレート、ジヒドロキシプチル(
メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ (メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールモノ (メ
タ)アクリレート、ジプロピレングリコールモノ (メ
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類; (メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル
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ルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアくド、N一エ
チル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(
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リルアξド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド
、Nーエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド等の
(メタ)アクリルアミド類; アミノエチル(メタ)アクリレート、N−メチルアミノ
エチル(メタ)アクリレート、N, Nジメチルアミ
ノエチル(メタ)アクリレート等のアミノアルキル(メ
タ)アクリレート類;メトキシエチル(メタ)アクリレ
ート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシ
ジエチレングリコール(メタ)アクリレート等のアルコ
キシ基含有(メタ)アクリレート類; 等が挙げられ、これらのモノマーの中から1種または2
種以上が選択されて使用される。なお、その使用量は、
使用する親木性モノマーの種類や目的とする材料の含水
率によっても異なるが、全モノマー混合物の100重量
部中、1〜99重量部程度、より好ましくは3〜98重
量部程度である。
この親水性七ノマーの使用量が少な過ぎると、得られる
素材が充分に含水せず、水の信号強度が大幅に減少して
、交差緩和時間が非常に短縮して、生体モデルとして好
ましくない。また、その使用量が多過ぎると、必然的に
芳香環含有七ノマーの使用量が少なくなり、より強いf
2照射が交差緩和時間の測定に必要となるところから、
ファントムとして好ましくないものとなる。
素材が充分に含水せず、水の信号強度が大幅に減少して
、交差緩和時間が非常に短縮して、生体モデルとして好
ましくない。また、その使用量が多過ぎると、必然的に
芳香環含有七ノマーの使用量が少なくなり、より強いf
2照射が交差緩和時間の測定に必要となるところから、
ファントムとして好ましくないものとなる。
さらに、得られる材料の含水率を調整するために、必要
に応じて用いられる疎水性モノマーとしては、従来から
公知の各種のものの中から選択され、例えば、 メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレ
ート、プロビル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メ
タ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレ
ート、イソブチル(メタ)アクリレート、n−ペンチル
(メタ)アクリレート、ter t−ペンチル(メタ)
アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−メ
チルブチル(メタ)アクリレート、ヘブチル(メタ)ア
クリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エチ
ルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アク
リレート、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メ
タ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、
シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル
(メタ)アクリレート等の直鎖状、分岐鎖状、環状のア
ルキル(メタ)アクリレート類; 2,2.2−1−リフルオ口エチル(メタ)アクリレー
ト、2,2,3.3−テトラフルオ口プロビル(メタ)
アクリレート、2.2,3,3.3]ペンタフルオロプ
口ピル(メタ)アクリレート、2,2.2−}リフルオ
口−1−トリフルオロメチルエチル(メタ)アクリレー
ト、2,2,3.3−テトラフルオローtert−ペン
チル(メタ)アクリレート、2,2,3,4.4.4−
ヘキサフルオロブチル(メタ)アクリレート、2,2,
3,3,4.4−へキサフルオロプチル(メタ)アクリ
レート、2,2,3,4,4.4−へキサフルオローt
ert−ヘキシル(メタ)アクリレート、2,2,3.
3,4,4.4−へブタフルオロブチル(メタ)アクリ
レート、2.2,3.3.4,4,5,5−オクタフル
オロペンチル(メタ)アクリレート、3,3.4.4,
5,5.6.6−オクタフルオロヘキシル(メタ)アク
リレート、2.3,4,5、5.5−へキサフルオ口−
2.4−ビス(トリフルオロメチル)ペンチル(メタ)
アクリレート、2,2,3,3,4.4.5.5.5−
ノナフルオ口ペンチル(メタ)アクリレート、2,2,
3,3.4,4.5,5,6.6,7.7−ドデカフル
オ口へブチル(メタ)アクリレート、3, 3,
4, 4, 5, 5. 6, 6, 7
, 7,8.8−ドデカフルオ口オクチル(メタ)ア
クリレート、3, 3, 4, 4, 5,
5, 6, 6, 7,7,8,8.8〜トリ
デカフルオロオクチル(メタ)アクリレート、2,2,
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7.7−トリデ
カフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、3,3,4
,4,5.5,6,6,7,7,8.8,9.9.10
.10−ヘキサデカフルオロデシル(メタ)アクリレー
ト、3, 3, 4, 4, 5, 5,
6. 6, 7, 7,8,8,9,9,10
,10.10−ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アク
リレート、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,
8.8,9,9,10,10,11.11−オクタデカ
フルオロウンデシル(メタ)アクリレート、3,3,4
,4,5,5,6,6.7.7,8,8,9,9,10
,10,11,11,11−ノナデカフルオロウンデシ
ル(メタ)アクリレート、3,3,4,4,5,5,6
,6,7.7,8,8.9,9.,to,10,11,
11,12.12−エイコサフルオロドデシル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシ−4.4,5,5,6,
7,7.7−オクタフルオ口−6−トリフルオロメチル
ヘプチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−4,
4,5, 5, 6,6,7, 7, 8,9
,9. 9−ドデカフルオロ−8−トリフルオロメチ
ルノニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−4.
4,5,5.6,6,7,7.8,8,9,9,10,
11,11.11−ヘキサデ力フルオロ−10−トリフ
ルオロメチルウンデシル(メタ)アクリレート等のフッ
素含有(メタ)アクリレート類;ペンタメチルジシロキ
サニルメチル(メタ)アクリレート、ペンタメチルジシ
ロキサニルプロビル(メタ)アクリレート、メチルビス
(トリメチルシロキシ)シリルプ口ピル(メタ)アクリ
レート、トリス(トリメチルシロキシ)シリルプロビル
(メタ)アクリレート、モノ[メチルビス(トリメチル
シロキシ)シロキシ〕ビス(トリメチルシロキシ)シリ
ルブロビル(メタ)アクリレート、トリス[メチルビス
(トリメチルシロキシ)シロキシ]シリルプロビル(メ
タ)アクリレート、メチルヒス(トリメチルシロキシ)
シリルブ口ピルグリセロール(メタ)アクリレート、ト
リス(トリメチルシロキシ)シリルプロビルグリセロー
ル(メタ)アクリレート、モノ[メチルビス(トリメチ
ルシロキシ)シロキシ]ビス(トリメチルシロキシ)シ
リルブロビルグリセロール(メタ)アクリレート、トリ
メチルシリルエチルテトラメチルジシ口キサニルブロビ
ルグリセロール(メタ)アクリレート、トリメチルシリ
ルメチル(メタ)アクリレート、トリメチルシリルブロ
ビル(メタ)アクリレート、トリメチルシリルプロビル
グリセロール(メタ)アクリレート、ペンタメチルジシ
口キサニルブロビルグリセロール(メタ)アクリレート
、メチルビス(トリメチルシロキシ)シリルエチルテト
ラメチルジシ口キサニルメチル(メタ)アクリレート、
テトラメチルトリイソプロビルシクロテトラシロキサニ
ルブロビル(メタ)アクリレート、テトラメチルトリイ
ソブロビルシク口テトラシロキシビス(トリメチルシロ
キシ)シリルプロビル(メタ)アクリレート等のシリコ
ン含有(メタ)アクリレート類; グリシジル(メタ)アクリレート: テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート;等を挙
げることが出来る。そして、これらモノマ一の中から、
必要に応じて1種または2種以上が選択されて使用され
るのである。なお、その使用量は、全モノマー混合物の
100重量部中、O〜80重量部程度であり、より好ま
しくは2〜70重量部である。この疎水性モノマーの使
用量が多過ぎると、得られた素材が充分に含水せず、水
の信号強度が大幅に減少し、交差緩和時間も大幅に短縮
するために、ファントムとして好ましくないものとなる
。
に応じて用いられる疎水性モノマーとしては、従来から
公知の各種のものの中から選択され、例えば、 メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレ
ート、プロビル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メ
タ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレ
ート、イソブチル(メタ)アクリレート、n−ペンチル
(メタ)アクリレート、ter t−ペンチル(メタ)
アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−メ
チルブチル(メタ)アクリレート、ヘブチル(メタ)ア
クリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エチ
ルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アク
リレート、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メ
タ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、
シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル
(メタ)アクリレート等の直鎖状、分岐鎖状、環状のア
ルキル(メタ)アクリレート類; 2,2.2−1−リフルオ口エチル(メタ)アクリレー
ト、2,2,3.3−テトラフルオ口プロビル(メタ)
アクリレート、2.2,3,3.3]ペンタフルオロプ
口ピル(メタ)アクリレート、2,2.2−}リフルオ
口−1−トリフルオロメチルエチル(メタ)アクリレー
ト、2,2,3.3−テトラフルオローtert−ペン
チル(メタ)アクリレート、2,2,3,4.4.4−
ヘキサフルオロブチル(メタ)アクリレート、2,2,
3,3,4.4−へキサフルオロプチル(メタ)アクリ
レート、2,2,3,4,4.4−へキサフルオローt
ert−ヘキシル(メタ)アクリレート、2,2,3.
3,4,4.4−へブタフルオロブチル(メタ)アクリ
レート、2.2,3.3.4,4,5,5−オクタフル
オロペンチル(メタ)アクリレート、3,3.4.4,
5,5.6.6−オクタフルオロヘキシル(メタ)アク
リレート、2.3,4,5、5.5−へキサフルオ口−
2.4−ビス(トリフルオロメチル)ペンチル(メタ)
アクリレート、2,2,3,3,4.4.5.5.5−
ノナフルオ口ペンチル(メタ)アクリレート、2,2,
3,3.4,4.5,5,6.6,7.7−ドデカフル
オ口へブチル(メタ)アクリレート、3, 3,
4, 4, 5, 5. 6, 6, 7
, 7,8.8−ドデカフルオ口オクチル(メタ)ア
クリレート、3, 3, 4, 4, 5,
5, 6, 6, 7,7,8,8.8〜トリ
デカフルオロオクチル(メタ)アクリレート、2,2,
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7.7−トリデ
カフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、3,3,4
,4,5.5,6,6,7,7,8.8,9.9.10
.10−ヘキサデカフルオロデシル(メタ)アクリレー
ト、3, 3, 4, 4, 5, 5,
6. 6, 7, 7,8,8,9,9,10
,10.10−ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アク
リレート、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,
8.8,9,9,10,10,11.11−オクタデカ
フルオロウンデシル(メタ)アクリレート、3,3,4
,4,5,5,6,6.7.7,8,8,9,9,10
,10,11,11,11−ノナデカフルオロウンデシ
ル(メタ)アクリレート、3,3,4,4,5,5,6
,6,7.7,8,8.9,9.,to,10,11,
11,12.12−エイコサフルオロドデシル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシ−4.4,5,5,6,
7,7.7−オクタフルオ口−6−トリフルオロメチル
ヘプチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−4,
4,5, 5, 6,6,7, 7, 8,9
,9. 9−ドデカフルオロ−8−トリフルオロメチ
ルノニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−4.
4,5,5.6,6,7,7.8,8,9,9,10,
11,11.11−ヘキサデ力フルオロ−10−トリフ
ルオロメチルウンデシル(メタ)アクリレート等のフッ
素含有(メタ)アクリレート類;ペンタメチルジシロキ
サニルメチル(メタ)アクリレート、ペンタメチルジシ
ロキサニルプロビル(メタ)アクリレート、メチルビス
(トリメチルシロキシ)シリルプ口ピル(メタ)アクリ
レート、トリス(トリメチルシロキシ)シリルプロビル
(メタ)アクリレート、モノ[メチルビス(トリメチル
シロキシ)シロキシ〕ビス(トリメチルシロキシ)シリ
ルブロビル(メタ)アクリレート、トリス[メチルビス
(トリメチルシロキシ)シロキシ]シリルプロビル(メ
タ)アクリレート、メチルヒス(トリメチルシロキシ)
シリルブ口ピルグリセロール(メタ)アクリレート、ト
リス(トリメチルシロキシ)シリルプロビルグリセロー
ル(メタ)アクリレート、モノ[メチルビス(トリメチ
ルシロキシ)シロキシ]ビス(トリメチルシロキシ)シ
リルブロビルグリセロール(メタ)アクリレート、トリ
メチルシリルエチルテトラメチルジシ口キサニルブロビ
ルグリセロール(メタ)アクリレート、トリメチルシリ
ルメチル(メタ)アクリレート、トリメチルシリルブロ
ビル(メタ)アクリレート、トリメチルシリルプロビル
グリセロール(メタ)アクリレート、ペンタメチルジシ
口キサニルブロビルグリセロール(メタ)アクリレート
、メチルビス(トリメチルシロキシ)シリルエチルテト
ラメチルジシ口キサニルメチル(メタ)アクリレート、
テトラメチルトリイソプロビルシクロテトラシロキサニ
ルブロビル(メタ)アクリレート、テトラメチルトリイ
ソブロビルシク口テトラシロキシビス(トリメチルシロ
キシ)シリルプロビル(メタ)アクリレート等のシリコ
ン含有(メタ)アクリレート類; グリシジル(メタ)アクリレート: テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート;等を挙
げることが出来る。そして、これらモノマ一の中から、
必要に応じて1種または2種以上が選択されて使用され
るのである。なお、その使用量は、全モノマー混合物の
100重量部中、O〜80重量部程度であり、より好ま
しくは2〜70重量部である。この疎水性モノマーの使
用量が多過ぎると、得られた素材が充分に含水せず、水
の信号強度が大幅に減少し、交差緩和時間も大幅に短縮
するために、ファントムとして好ましくないものとなる
。
また、本発明に従うファントムを与えるヒドロゲル材料
を得るに際して、通常の架橋剤を一任意威分として用い
、かかるヒドロゲル材料中に架橋構造を導入しても、何
等差支えない。そのような架橋剤としては、一般に、分
子内に少なくとも二個以上の重合性基(二重結合)を有
するモノマーが用いられ、ヒドロゲルの重合時に、重合
系に導入されて目的とする架橋構造を形或することが出
来る。このように、架橋剤は、ヒドロゲル材料内に三次
元橋架け構造を形威して材料の形状安定性を向上させる
ものであり、その具体例としては、例えば、4−ビニル
ベンジル(メタ)アクリレート、3−ビニルベンジル(
メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート
、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプ
ロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、アリル(
メタ)アクリレート、ビニル(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、メタ
クリロイルオキシエチルアクリレート、ジビニルベンゼ
ン、ジアリルフタレート、アジビン酸ジアリル、トリア
リルイソシアヌレート、α−メチレンーN−ビニルピロ
リドン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキ
シフエニル)へキサフルオロプロパン、2,2−ビス(
3−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)へキサフル
オロプロパン、2.2−ビス(2一(メタ)アクリロイ
ルオキシフエニル)へキサフルオ口プロパン、2,2−
ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシフヱニル)プロ
パン、2.2ビス(3−(メタ)アクリロイルオキシフ
ェニル)プロパン、2.2−ビス(2−(メタ)アクリ
ロイルオキシフェニル)プロパン、1,4−ビス(2−
(メタ)アクリロイルオキシへキサフルオロイソプロビ
ル)ベンゼン、1.3−ビス(2−(メタ)アクリロイ
ルオキシへキサフルオロイソプロビル)ベンゼン、1,
2−ビス(2−(メタ)アクリロイルオキシへキサフル
オロイソプロビル)ベンゼン、l,4−ビス(2−(メ
タ)アクリロイルオキシイソプロビル)ベンゼン、l,
3−ビス(2−(メタ)アクリロイルオキシイソプロビ
ル)ベンゼン、1.2−ビス(2−(メタ)アクリロイ
ルオキシイソプロビル)ベンゼン等が挙げられ、これら
のうちから1種または2種以上が選択されて用いられる
こととなる。このような架橋剤(架橋性モノマー)の使
用量は、全モノマー混合物(全重合或分)の100重量
部に対して0〜10重量部程度の範囲内にあるのが望ま
しく、中でも0.05〜5重量部の範囲内にあることが
より好ましい。なお、かかる架橋剤の使用量が多過ぎる
場合にあっては、得られる材料が脆くなり、加工が困難
となって好ましくない。また、このような架橋剤中に芳
香環が含有されておれば、それは芳香環含有モノマーと
しても考えられるものである。
を得るに際して、通常の架橋剤を一任意威分として用い
、かかるヒドロゲル材料中に架橋構造を導入しても、何
等差支えない。そのような架橋剤としては、一般に、分
子内に少なくとも二個以上の重合性基(二重結合)を有
するモノマーが用いられ、ヒドロゲルの重合時に、重合
系に導入されて目的とする架橋構造を形或することが出
来る。このように、架橋剤は、ヒドロゲル材料内に三次
元橋架け構造を形威して材料の形状安定性を向上させる
ものであり、その具体例としては、例えば、4−ビニル
ベンジル(メタ)アクリレート、3−ビニルベンジル(
メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート
、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプ
ロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、アリル(
メタ)アクリレート、ビニル(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、メタ
クリロイルオキシエチルアクリレート、ジビニルベンゼ
ン、ジアリルフタレート、アジビン酸ジアリル、トリア
リルイソシアヌレート、α−メチレンーN−ビニルピロ
リドン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキ
シフエニル)へキサフルオロプロパン、2,2−ビス(
3−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)へキサフル
オロプロパン、2.2−ビス(2一(メタ)アクリロイ
ルオキシフエニル)へキサフルオ口プロパン、2,2−
ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシフヱニル)プロ
パン、2.2ビス(3−(メタ)アクリロイルオキシフ
ェニル)プロパン、2.2−ビス(2−(メタ)アクリ
ロイルオキシフェニル)プロパン、1,4−ビス(2−
(メタ)アクリロイルオキシへキサフルオロイソプロビ
ル)ベンゼン、1.3−ビス(2−(メタ)アクリロイ
ルオキシへキサフルオロイソプロビル)ベンゼン、1,
2−ビス(2−(メタ)アクリロイルオキシへキサフル
オロイソプロビル)ベンゼン、l,4−ビス(2−(メ
タ)アクリロイルオキシイソプロビル)ベンゼン、l,
3−ビス(2−(メタ)アクリロイルオキシイソプロビ
ル)ベンゼン、1.2−ビス(2−(メタ)アクリロイ
ルオキシイソプロビル)ベンゼン等が挙げられ、これら
のうちから1種または2種以上が選択されて用いられる
こととなる。このような架橋剤(架橋性モノマー)の使
用量は、全モノマー混合物(全重合或分)の100重量
部に対して0〜10重量部程度の範囲内にあるのが望ま
しく、中でも0.05〜5重量部の範囲内にあることが
より好ましい。なお、かかる架橋剤の使用量が多過ぎる
場合にあっては、得られる材料が脆くなり、加工が困難
となって好ましくない。また、このような架橋剤中に芳
香環が含有されておれば、それは芳香環含有モノマーと
しても考えられるものである。
そして、このような各種モノマー(架橋剤を含んで)を
重合或分として組み合わせて、均一に配合し、目的とす
るヒドロゲル材料を得るべく重合せしめるに当たっては
、所定の重合開始剤を加えて、通常採用されている手法
に従って重合が行なわれることとなる。
重合或分として組み合わせて、均一に配合し、目的とす
るヒドロゲル材料を得るべく重合せしめるに当たっては
、所定の重合開始剤を加えて、通常採用されている手法
に従って重合が行なわれることとなる。
例えば、加熱重合を行なう場合は、ラジカル重合開始剤
を加えた後、室温から130゜C程度の温度にまで、お
よそ数時間〜数十時間かけて順次昇温せしめて、重合が
完結される。また、光重合を行なう場合には、光重合開
始剤を配合した後、光重合開始剤の活性化の吸収帯に応
じた波長の光線(例えば、紫外線)を照射して重合を行
なう。更には、これら加熱重合と光重合とを組み合わせ
て行なうこともある。
を加えた後、室温から130゜C程度の温度にまで、お
よそ数時間〜数十時間かけて順次昇温せしめて、重合が
完結される。また、光重合を行なう場合には、光重合開
始剤を配合した後、光重合開始剤の活性化の吸収帯に応
じた波長の光線(例えば、紫外線)を照射して重合を行
なう。更には、これら加熱重合と光重合とを組み合わせ
て行なうこともある。
なお、加熱重合させる場合は、恒温槽または恒温室内で
加熱しても良いし、マイクロ波のような電磁波を照射し
ても良く、またその加熱を段階的に行なっても良い。ま
た、光重合を行なう場合には、増感剤を更に添加しても
良い。
加熱しても良いし、マイクロ波のような電磁波を照射し
ても良く、またその加熱を段階的に行なっても良い。ま
た、光重合を行なう場合には、増感剤を更に添加しても
良い。
ところで、上述の加熱重合に際して添加されるラジカル
重合開始剤の具体例としては、アゾビスイソブチロニト
リル、アゾビスジメチルバレロニトリル、ペンゾイルパ
ーオキサイド、tert−プチルハイドロバーオキサイ
ド、クメンハイドロパーオキサイド、過酸化ベンゾイル
等を挙げることが出来る。
重合開始剤の具体例としては、アゾビスイソブチロニト
リル、アゾビスジメチルバレロニトリル、ペンゾイルパ
ーオキサイド、tert−プチルハイドロバーオキサイ
ド、クメンハイドロパーオキサイド、過酸化ベンゾイル
等を挙げることが出来る。
また、光重合開始剤の具体例としては、ベンゾイン、メ
チルオルソベンゾイルベンゾエート、メチルオルンペン
ゾインベンゾエート、メチルベンゾイルフォメート、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ペンゾインイソプ口ピルエーテル、ペンゾインイソブチ
ルエーテル、ペンゾインーn−ブチルエーテル等のベン
ゾイン系光重合開始剤;2−ヒドロキシ−2−メチルー
1−フェニルプロパン−1−オン、p−イソプロビルー
α−ヒドロキシイソプチロフェノン、P−tert−プ
チルトリク口ロアセトフェノン、2,2ジメトキシ−2
−フエニルアセトフエノン、α,α−ジクロロ−4−フ
ェノキシアセトフエノン、4.4′−ビスジエチルアミ
ノベンゾフエノン等のフェノン系光重合開始剤;1−ヒ
ドロキシシク口へキシルフエニルケトン;1−フエニル
ーl.2−プロパンジオンー2−(o一エトキシ力ルボ
ニル)・オキシム;2−クロロチオキサンソン、2−メ
チルチオキサンソン等のチオキサンソン系光重合開始剤
;ジベンゾスバロン;2−エチルアンスラキノン;ベン
ゾフエノンアクリレート:ベンゾフェノン;ベンジル等
を挙げることが出来る。
チルオルソベンゾイルベンゾエート、メチルオルンペン
ゾインベンゾエート、メチルベンゾイルフォメート、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ペンゾインイソプ口ピルエーテル、ペンゾインイソブチ
ルエーテル、ペンゾインーn−ブチルエーテル等のベン
ゾイン系光重合開始剤;2−ヒドロキシ−2−メチルー
1−フェニルプロパン−1−オン、p−イソプロビルー
α−ヒドロキシイソプチロフェノン、P−tert−プ
チルトリク口ロアセトフェノン、2,2ジメトキシ−2
−フエニルアセトフエノン、α,α−ジクロロ−4−フ
ェノキシアセトフエノン、4.4′−ビスジエチルアミ
ノベンゾフエノン等のフェノン系光重合開始剤;1−ヒ
ドロキシシク口へキシルフエニルケトン;1−フエニル
ーl.2−プロパンジオンー2−(o一エトキシ力ルボ
ニル)・オキシム;2−クロロチオキサンソン、2−メ
チルチオキサンソン等のチオキサンソン系光重合開始剤
;ジベンゾスバロン;2−エチルアンスラキノン;ベン
ゾフエノンアクリレート:ベンゾフェノン;ベンジル等
を挙げることが出来る。
上記の如き重合開始剤は、それらの中からl種または2
種以上選択して使用すれば良い。その使用量は、全重合
或分100重量部に対して、o.ooi〜5重量部、好
ましくは約0.01〜2重量部の範囲内とするのが適当
である。
種以上選択して使用すれば良い。その使用量は、全重合
或分100重量部に対して、o.ooi〜5重量部、好
ましくは約0.01〜2重量部の範囲内とするのが適当
である。
なお、本発明に従うファントムを与えるヒドロゲル材料
の製造に際しては、通常の塊状重合による方法が好まし
いが、得られる重合体の含水処理を容易に行なうため、
水や水溶性有機溶媒を用いた溶液重合による方法を採用
することも可能である。また、水のNMRスペクトル、
緩和時間に影響するラジカルは、重合操作が終了の後、
煮沸処理等によって略完全に除去することが出来る。
の製造に際しては、通常の塊状重合による方法が好まし
いが、得られる重合体の含水処理を容易に行なうため、
水や水溶性有機溶媒を用いた溶液重合による方法を採用
することも可能である。また、水のNMRスペクトル、
緩和時間に影響するラジカルは、重合操作が終了の後、
煮沸処理等によって略完全に除去することが出来る。
また、上記の如くして得られる重合体を所望の形状に戒
形する方法は、例えば重合を適当な型または容器中にお
いて行ない、ブロック状、板状、棒状の素材を得た後、
切削、研磨等の機械加工により所望の形状に加工したり
、または所望の形状に対応した型を容易し、この型の中
で直接重合を行なって或形し、必要に応じて仕上げ加工
を施したりすれば良い。このようにして得られた戒形品
を永和膨潤させることにより、目的とするヒドロゲルを
得ることが出来るのである。
形する方法は、例えば重合を適当な型または容器中にお
いて行ない、ブロック状、板状、棒状の素材を得た後、
切削、研磨等の機械加工により所望の形状に加工したり
、または所望の形状に対応した型を容易し、この型の中
で直接重合を行なって或形し、必要に応じて仕上げ加工
を施したりすれば良い。このようにして得られた戒形品
を永和膨潤させることにより、目的とするヒドロゲルを
得ることが出来るのである。
このようにして得られたヒドロゲルは、MRI測定中に
乾燥し、含水率が変化しないようにポリブロビレン、ポ
リエチレン、ガラス等のMRI測定に支承のない素材か
らなる所望の形状の容器や袋の中に入れられて、密閉さ
れた状態において取り扱われることが望ましい。
乾燥し、含水率が変化しないようにポリブロビレン、ポ
リエチレン、ガラス等のMRI測定に支承のない素材か
らなる所望の形状の容器や袋の中に入れられて、密閉さ
れた状態において取り扱われることが望ましい。
本発明に従うファントムは、このようにして得られたヒ
ドロゲルから構威されるものであり、一般に、含水率の
異なる形態において用いられ、またそのようなファント
ムは、MR Il!整を行なうことが出来れば、どのよ
うな形状でも良いが、数種類の含水率の異なる棒状のヒ
ドロゲルを束ねた形状や、含水率の異なる板状ヒドロゲ
ルを積み重ねたような形状が、コンパクトであって、好
ましく採用されるものである。
ドロゲルから構威されるものであり、一般に、含水率の
異なる形態において用いられ、またそのようなファント
ムは、MR Il!整を行なうことが出来れば、どのよ
うな形状でも良いが、数種類の含水率の異なる棒状のヒ
ドロゲルを束ねた形状や、含水率の異なる板状ヒドロゲ
ルを積み重ねたような形状が、コンパクトであって、好
ましく採用されるものである。
(実施例)
以下に、本発明の幾つかの実施例を示し、本発明を更に
具体的に明らかにすることとするが、本発明が、そのよ
うな実施例の記載によって、何等の制約をも受けるもの
でないことは、言うまでもないところである。
具体的に明らかにすることとするが、本発明が、そのよ
うな実施例の記載によって、何等の制約をも受けるもの
でないことは、言うまでもないところである。
また、本発明には、以下の実施例の他にも、更には上記
の具体的記述以外にも、本発明の趣旨を逸脱しない限り
において、当業者の知識に基づいて種々なる変更、修正
、改良等を加え得るものであることが、理解されるべき
である。
の具体的記述以外にも、本発明の趣旨を逸脱しない限り
において、当業者の知識に基づいて種々なる変更、修正
、改良等を加え得るものであることが、理解されるべき
である。
実施例1〜7
芳香環含有モノマーとしてペンジルメタクリレ−l(B
zMA)、親木性モノマーとしてN−ビニルピロリドン
(MVP)、疎水性モノマーとしてメチルメタクリレー
ト(MMA) 、架橋剤としてアリルメタクリレート(
AMA) 、重合開始剤としてアゾビスジメチルバレロ
ニトリル(V−65)を用い、下記第1表に示される各
種割合で配合した重合用混合液を調製して、ガラス製試
験管中に入れ、35゜Cで40時間、50゜Cで8時間
、その後10゜C/2時間の割合で110゜Cまで昇温
させて、重合せしめた。
zMA)、親木性モノマーとしてN−ビニルピロリドン
(MVP)、疎水性モノマーとしてメチルメタクリレー
ト(MMA) 、架橋剤としてアリルメタクリレート(
AMA) 、重合開始剤としてアゾビスジメチルバレロ
ニトリル(V−65)を用い、下記第1表に示される各
種割合で配合した重合用混合液を調製して、ガラス製試
験管中に入れ、35゜Cで40時間、50゜Cで8時間
、その後10゜C/2時間の割合で110゜Cまで昇温
させて、重合せしめた。
かくして得られた重合物を試験管からそれぞれ取り出し
、含水時において直径17mm、長さ85鵬になるよう
に加工した後、蒸留水にて永和、膨潤せしめて、各種含
水率のヒドロゲルを得た。次いで、このヒドロゲルを、
直径18師、長さ10cmのポリプロピレン製試験管に
それぞれ入れ、ポリエチレン製の栓で密栓した。そして
、それを穴の開いた円柱状の発泡スチロールに挿入し、
MRI iff整用のファントムとした。
、含水時において直径17mm、長さ85鵬になるよう
に加工した後、蒸留水にて永和、膨潤せしめて、各種含
水率のヒドロゲルを得た。次いで、このヒドロゲルを、
直径18師、長さ10cmのポリプロピレン製試験管に
それぞれ入れ、ポリエチレン製の栓で密栓した。そして
、それを穴の開いた円柱状の発泡スチロールに挿入し、
MRI iff整用のファントムとした。
なお、得られたヒドロゲルの含水率を測定するに当たっ
ては、それぞれ得られた棒材から含水時において厚さ約
0. 5 mm、直径16mmになるように加工したフ
ィルム試験片を用い、次式により、含水率(%)を測定
した。
ては、それぞれ得られた棒材から含水時において厚さ約
0. 5 mm、直径16mmになるように加工したフ
ィルム試験片を用い、次式により、含水率(%)を測定
した。
二77一
ク(株)製RS−20 0を用い、ファントム中の水の
縦緩和時間(T1)を測定した。更に、水より2. 4
p p m低磁場側の芳香環のビーク(7,ippm
)をラジオ波でf2照射(照射強度:TH2/2π〜7
0Hz)Lて、照射下での縦緩和時間(T,” )及び
交差緩和時間( T Is )を測定した。
縦緩和時間(T1)を測定した。更に、水より2. 4
p p m低磁場側の芳香環のビーク(7,ippm
)をラジオ波でf2照射(照射強度:TH2/2π〜7
0Hz)Lて、照射下での縦緩和時間(T,” )及び
交差緩和時間( T Is )を測定した。
なお、反転パルスにはA F P (Adiabati
c FastPassage)を使用し、RFコイルは
15cm径のアルダーマン・グランド型コイルを用いた
。更に、Td (Delay Time)を8種類変え
たIR”イメージ(照射下でのIRイメージ)を撮像し
て、TI”イメージ、1/TI”イメージを計算し、一
方照射を切った状態でIRイメージを計測して、T,イ
メージと1 / T I イメージを求め、両者の対数
変換(指数関数の非線形最小自乗法)の差分より交差緩
和時間イメージを得た。結果を、下記第2表に示す。ま
た、撮影したファントム像の写真より、得られたTIS
像は僅かの含水率の差で大きく変化することが認められ
、これによって、腫瘍等に対して非常に敏感であると判
断された。
c FastPassage)を使用し、RFコイルは
15cm径のアルダーマン・グランド型コイルを用いた
。更に、Td (Delay Time)を8種類変え
たIR”イメージ(照射下でのIRイメージ)を撮像し
て、TI”イメージ、1/TI”イメージを計算し、一
方照射を切った状態でIRイメージを計測して、T,イ
メージと1 / T I イメージを求め、両者の対数
変換(指数関数の非線形最小自乗法)の差分より交差緩
和時間イメージを得た。結果を、下記第2表に示す。ま
た、撮影したファントム像の写真より、得られたTIS
像は僅かの含水率の差で大きく変化することが認められ
、これによって、腫瘍等に対して非常に敏感であると判
断された。
Claims (1)
- 芳香環を結合、含有するヒドロゲルを素材としたことを
特徴とする交差緩和時間MRI調整用ファントム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1240420A JPH03103237A (ja) | 1989-09-16 | 1989-09-16 | 交差緩和時間mri調整用ファントム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1240420A JPH03103237A (ja) | 1989-09-16 | 1989-09-16 | 交差緩和時間mri調整用ファントム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03103237A true JPH03103237A (ja) | 1991-04-30 |
Family
ID=17059212
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1240420A Pending JPH03103237A (ja) | 1989-09-16 | 1989-09-16 | 交差緩和時間mri調整用ファントム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03103237A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008295884A (ja) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Hitachi Ltd | Mri用ファントム及びmriシステム |
JP2015511524A (ja) * | 2012-03-28 | 2015-04-20 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 磁気共鳴に基づく放射線治療プランニングの品質保証装置及び方法 |
-
1989
- 1989-09-16 JP JP1240420A patent/JPH03103237A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008295884A (ja) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Hitachi Ltd | Mri用ファントム及びmriシステム |
JP2015511524A (ja) * | 2012-03-28 | 2015-04-20 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 磁気共鳴に基づく放射線治療プランニングの品質保証装置及び方法 |
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