JPH03101853U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH03101853U JPH03101853U JP1003790U JP1003790U JPH03101853U JP H03101853 U JPH03101853 U JP H03101853U JP 1003790 U JP1003790 U JP 1003790U JP 1003790 U JP1003790 U JP 1003790U JP H03101853 U JPH03101853 U JP H03101853U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- slit
- slit plate
- detection result
- shape
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図は本考案装置を示す模式図、第２図は本
考案装置において用いるスリツト板の拡大平面図
であり、第３図はスリツト板における第２スリツ
トの拡大平面図である。第４図はスリツト板の位
置補正を行う場合に得られる電流波形図、第５図
は従来装置の模式図、第６図は従来装置のスリツ
ト板の拡大平面図、第７図は従来装置の測定器に
測定される電流波形図、第８図は従来装置におけ
る問題点を説明するためのスリツト板の拡大平面
図式図、第９図は第８図の如きスリツト板を用い
た場合に測定される電流波形図である。 ６……スリツト板、８……測定器、６１……第
１スリツト、６２……第２スリツト。なお、図中
、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
考案装置において用いるスリツト板の拡大平面図
であり、第３図はスリツト板における第２スリツ
トの拡大平面図である。第４図はスリツト板の位
置補正を行う場合に得られる電流波形図、第５図
は従来装置の模式図、第６図は従来装置のスリツ
ト板の拡大平面図、第７図は従来装置の測定器に
測定される電流波形図、第８図は従来装置におけ
る問題点を説明するためのスリツト板の拡大平面
図式図、第９図は第８図の如きスリツト板を用い
た場合に測定される電流波形図である。 ６……スリツト板、８……測定器、６１……第
１スリツト、６２……第２スリツト。なお、図中
、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 被加工物が設置されるべき位置に、スリツトを
形成したスリツト板を配置し、該スリツト板に、
集束させた電子ビームを走査させ、前記スリツト
を通過した電子ビームを検出して被加工面におけ
る電子ビームスポツト形状を調節する機能を備え
た電子ビーム加工装置において、 前記スリツト板は、それを通過した電子ビーム
の検出結果にて電子ビームスポツト形状を測定す
る第１のスリツトと、それを通過した電子ビーム
の検出結果にて第１のスリツトの配置位置を補正
する第２のスリツトとを備えることを特徴とする
電子ビーム加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1003790U JPH03101853U (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1003790U JPH03101853U (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03101853U true JPH03101853U (ja) | 1991-10-23 |
Family
ID=31513637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1003790U Pending JPH03101853U (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03101853U (ja) |
-
1990
- 1990-02-02 JP JP1003790U patent/JPH03101853U/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH03101853U (ja) | ||
| JPS57211733A (en) | Detecting device for electron beam exposing marker | |
| JP2676270B2 (ja) | 電子ビーム加工機の目合せ検出装置 | |
| JPH02148U (ja) | ||
| JPS531584A (en) | Ultrasonic flaw detector | |
| CA2031733A1 (en) | Method for forming probe and apparatus therefor | |
| JPS62184483U (ja) | ||
| JPH0346852U (ja) | ||
| JPS6242383Y2 (ja) | ||
| JPH03113830U (ja) | ||
| JPS62151073U (ja) | ||
| JPS60186979U (ja) | 抵抗溶接機における被溶接物検出装置 | |
| JPS6376386U (ja) | ||
| JPS6119774U (ja) | 走査電子顕微鏡を用いた電位測定装置 | |
| JPS63126811U (ja) | ||
| JPS5481782A (en) | Position mark detecting method of electron beam exposure unit | |
| JPH0168174U (ja) | ||
| JPS5576904A (en) | Method for detecting position of mark | |
| JPS6398369U (ja) | ||
| JPS6172078U (ja) | ||
| JPH0367436U (ja) | ||
| JPH0265863U (ja) | ||
| JPS62168411U (ja) | ||
| JPH0275644U (ja) | ||
| JPS6318835U (ja) |