JPH03100518A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
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- JPH03100518A JPH03100518A JP23711789A JP23711789A JPH03100518A JP H03100518 A JPH03100518 A JP H03100518A JP 23711789 A JP23711789 A JP 23711789A JP 23711789 A JP23711789 A JP 23711789A JP H03100518 A JPH03100518 A JP H03100518A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 23
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、基板の透明電極形成面側と反対側の面に透明
導電膜を形成し、この透明導電膜を接地してノイズの悪
影響を排除するようにした液晶表示素子の製造方法に関
する。
導電膜を形成し、この透明導電膜を接地してノイズの悪
影響を排除するようにした液晶表示素子の製造方法に関
する。
この種の液晶表示素子（以下、ＬＣＤと略称する）は、
従来、以下のようにして製造されていた。
従来、以下のようにして製造されていた。
すなわち、まず大版のガラス基板の両面にＩＴＯを蒸着
（第１工程）し、一方の面のＩＴＯ膜上に電極パターン
状にレジスト（感光剤）を塗布（第２工程）した後、こ
れを９０℃で約１時間プリベーク（第３工程）してから
露光・現像（第４工程）し、さらに１２０℃で約１時間
ポストベーク（第５工程）した後、ガラス基板を裏返し
て他方の面のＩＴＯ膜上に全面にわたってレジストを塗
布（第６エ程）し、これを９０℃で約１時間プリベーク
（第７エ程）してから露光・現像（第８工程）したなら
、このガラス基板をエツチング液に浸漬（第９工程）す
る。このエツチング工程で、ＩＴＯ膜のうちレジストに
覆われていない部分が溶解・除去されるので、洗浄（第
１０工程）後、レジストを剥離（第１１工程）して再度
洗浄（第１２工程）することにより、片面にＩＴＯから
なる透明電極パターンを形成し、かつ他面に透明導電膜
としてのＩＴＯ膜を形成したガラス基板が得られる。し
かる後、このガラス基板と、同様にして得た他のガラス
基板とを、シール剤を介して貼り合わせ（第１３工程）
、これを個々のセルにカッティング（第１４工程）して
から、各セルに液晶材料を注入（第１５工程）し、さら
にセルの両面に偏光板を貼り付ける（第１６エ程）など
してＬＣＤを完成する。
（第１工程）し、一方の面のＩＴＯ膜上に電極パターン
状にレジスト（感光剤）を塗布（第２工程）した後、こ
れを９０℃で約１時間プリベーク（第３工程）してから
露光・現像（第４工程）し、さらに１２０℃で約１時間
ポストベーク（第５工程）した後、ガラス基板を裏返し
て他方の面のＩＴＯ膜上に全面にわたってレジストを塗
布（第６エ程）し、これを９０℃で約１時間プリベーク
（第７エ程）してから露光・現像（第８工程）したなら
、このガラス基板をエツチング液に浸漬（第９工程）す
る。このエツチング工程で、ＩＴＯ膜のうちレジストに
覆われていない部分が溶解・除去されるので、洗浄（第
１０工程）後、レジストを剥離（第１１工程）して再度
洗浄（第１２工程）することにより、片面にＩＴＯから
なる透明電極パターンを形成し、かつ他面に透明導電膜
としてのＩＴＯ膜を形成したガラス基板が得られる。し
かる後、このガラス基板と、同様にして得た他のガラス
基板とを、シール剤を介して貼り合わせ（第１３工程）
、これを個々のセルにカッティング（第１４工程）して
から、各セルに液晶材料を注入（第１５工程）し、さら
にセルの両面に偏光板を貼り付ける（第１６エ程）など
してＬＣＤを完成する。
こうして得たＬＣＤは、液晶材料を介して対向する両ガ
ラス基板の透明電極を駆動用電源に接続して所定の交流
電圧を印加することにより、数字や文字、映像等が表示
できるようになっており、また、透明導電膜は接地され
るので、Ｌ ＣＤ駆動時に発生するノイズが周辺機器に
悪影響を及ぼさないように、あるいは静電気などの外来
ノイズによってＬＣＤが誤動作しないようになっている
。
ラス基板の透明電極を駆動用電源に接続して所定の交流
電圧を印加することにより、数字や文字、映像等が表示
できるようになっており、また、透明導電膜は接地され
るので、Ｌ ＣＤ駆動時に発生するノイズが周辺機器に
悪影響を及ぼさないように、あるいは静電気などの外来
ノイズによってＬＣＤが誤動作しないようになっている
。
しかしながら、上述した従来のＬＣＤ製造方法は、ガラ
ス基板の両面にレジストを塗布するため２度のプリベー
ク（第３．７エ程）および２度の露光・現像（第４，８
工程）を行わねばならず、しかも最初に塗布するレジス
トはガラス基板を裏返した際に傷がつかないようにする
ためにポストベーク（第５工程）を行わねばならぬ等、
工程数が多くて作業時間が長く、生産性が悪いという不
具合があった。
ス基板の両面にレジストを塗布するため２度のプリベー
ク（第３．７エ程）および２度の露光・現像（第４，８
工程）を行わねばならず、しかも最初に塗布するレジス
トはガラス基板を裏返した際に傷がつかないようにする
ためにポストベーク（第５工程）を行わねばならぬ等、
工程数が多くて作業時間が長く、生産性が悪いという不
具合があった。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、その
目的は、製造工程が簡略化できて生産性の向上が図れる
ＬＣＤの製造方法を提供することにある。
目的は、製造工程が簡略化できて生産性の向上が図れる
ＬＣＤの製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は、基板の片面にＩ
ＴＯ膜を、他面にＳｎＯ□膜をそれぞれ形成し、ＩＴＯ
膜上にレジストをバターニングした後、この基板を、Ｉ
ＴＯは溶解するもののＳｎＯ。
ＴＯ膜を、他面にＳｎＯ□膜をそれぞれ形成し、ＩＴＯ
膜上にレジストをバターニングした後、この基板を、Ｉ
ＴＯは溶解するもののＳｎＯ。
は溶解しないエツチング液に浸漬し、この後、上記レジ
ストを剥離し、片面にＩＴＯからなる透明電極を有し他
面に５ｎＯｔからなる透明導電膜を有する基板を得るこ
ととした。
ストを剥離し、片面にＩＴＯからなる透明電極を有し他
面に５ｎＯｔからなる透明導電膜を有する基板を得るこ
ととした。
ＬＣＤの製造工程でＩＴＯを溶解させるために使用され
る通常のエツチング液は、ＩＴＯとはイオン化傾向が異
なるＳｎＯ，を溶解させないので、エツチング工程前に
ＳｎＯ２膜上にレジストを塗布しておく必要がなくなり
、よって■’ｒｏ１ｇ上にレジストをバターニングした
後に基板を裏返す必要もなくなる。したがって、Ｓ ｎ
Ｏｚ膜上にレジストを塗布してプリベータ、露光、現
像するといった一連の工程は不要であり、ＩＴＯ膜上に
塗布したレジストをポストベークする工程も省略できる
。
る通常のエツチング液は、ＩＴＯとはイオン化傾向が異
なるＳｎＯ，を溶解させないので、エツチング工程前に
ＳｎＯ２膜上にレジストを塗布しておく必要がなくなり
、よって■’ｒｏ１ｇ上にレジストをバターニングした
後に基板を裏返す必要もなくなる。したがって、Ｓ ｎ
Ｏｚ膜上にレジストを塗布してプリベータ、露光、現
像するといった一連の工程は不要であり、ＩＴＯ膜上に
塗布したレジストをポストベークする工程も省略できる
。
以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。
第１図は本発明方法により製造したＬＣＤの概略断面図
であって、上ガラス基板ｌの下面と下ガラス基板２の上
面にはそれぞれＩＴＯからなる透明電極３，４がバター
ニングしてあり、上ガラス基板１の上面と下ガラス基板
２の下面にはそれぞれＳｎＯ２からなる透明導電膜５，
６が形成しである。また、シール剤７を介して貼り合わ
せたこれら両ガラス基板１，２の間には液晶材料８が封
入してあり、この液晶セルの両面、つまり透明導電膜５
の上面と透明導電膜６の下面にそれぞれ上偏光板９と下
偏光板１０を貼り付けて、透過型のしＣＤが構成されて
いる。そして、このＬＣＤの透明電極３．４は図示せぬ
駆動用電源に接続され、画電極３．４間に所定の交流電
圧が印加されるようになっており、また、透明導電膜５
，６は接地され、ノイズを防止する機能を果たす。
であって、上ガラス基板ｌの下面と下ガラス基板２の上
面にはそれぞれＩＴＯからなる透明電極３，４がバター
ニングしてあり、上ガラス基板１の上面と下ガラス基板
２の下面にはそれぞれＳｎＯ２からなる透明導電膜５，
６が形成しである。また、シール剤７を介して貼り合わ
せたこれら両ガラス基板１，２の間には液晶材料８が封
入してあり、この液晶セルの両面、つまり透明導電膜５
の上面と透明導電膜６の下面にそれぞれ上偏光板９と下
偏光板１０を貼り付けて、透過型のしＣＤが構成されて
いる。そして、このＬＣＤの透明電極３．４は図示せぬ
駆動用電源に接続され、画電極３．４間に所定の交流電
圧が印加されるようになっており、また、透明導電膜５
，６は接地され、ノイズを防止する機能を果たす。
次に、上記ＬＣＤの製造方法について詳述する。
まず、大版のガラス基板の片面にＩＴＯを、他面にＳｎ
Ｏ２をそれぞれ蒸着（第１工程）し、ＩＴＯ膜上に電極
パターン状にレジストを塗布（第２工程）した後、これ
を９０℃で約１時間プリベーク（第３工程）して露光・
現像（第４工程）したなら、ＩＴＯは溶解するものの５
ｎ０２は溶解しないエツチング液にガラス基板を浸漬（
第５工程）し、レジストに覆われていないＩＴＯのみを
除去する。なお、このようなエツチング液としては例え
ば、塩酸と硝酸と水を重量比６：１：２の割合で混合し
た溶液や、塩化第２鉄水溶液などが挙げられる。こうし
てエツチングが終了したなら、洗浄（第６エ程）後、Ｉ
ＴＯ股上のレジストを剥離（第７エ程）して再度洗浄（
第８工程）することにより、片面にＩＴＯからなる透明
電極パターンを形成し、かつ他面にＳｎＯ，からなる透
明導電膜を形成した大版のガラス基板が得られる。
Ｏ２をそれぞれ蒸着（第１工程）し、ＩＴＯ膜上に電極
パターン状にレジストを塗布（第２工程）した後、これ
を９０℃で約１時間プリベーク（第３工程）して露光・
現像（第４工程）したなら、ＩＴＯは溶解するものの５
ｎ０２は溶解しないエツチング液にガラス基板を浸漬（
第５工程）し、レジストに覆われていないＩＴＯのみを
除去する。なお、このようなエツチング液としては例え
ば、塩酸と硝酸と水を重量比６：１：２の割合で混合し
た溶液や、塩化第２鉄水溶液などが挙げられる。こうし
てエツチングが終了したなら、洗浄（第６エ程）後、Ｉ
ＴＯ股上のレジストを剥離（第７エ程）して再度洗浄（
第８工程）することにより、片面にＩＴＯからなる透明
電極パターンを形成し、かつ他面にＳｎＯ，からなる透
明導電膜を形成した大版のガラス基板が得られる。
このように、上記実施例にあっては、ＩＴＯを除去する
ためのエツチング液に溶解されることのないＳｎＯ□を
透明導電膜の材料として用いているので、このＳｎＯ□
膜上にレジストを塗布してプリベータ、露光、現像する
といった一連の工程は不要であり、従来技術に比して工
程数および作業時間が少なくなっている。また、５ｎ０
２膜上にレジストを塗布する必要がないことから、ＩＴ
Ｏ膜上に塗布したレジストを本硬化（ポストベーク）す
る工程も不要で、これにより、ガラス基板に透明電極お
よび透明導電膜を形成する製造工程の大幅な簡素化が実
現されている。
ためのエツチング液に溶解されることのないＳｎＯ□を
透明導電膜の材料として用いているので、このＳｎＯ□
膜上にレジストを塗布してプリベータ、露光、現像する
といった一連の工程は不要であり、従来技術に比して工
程数および作業時間が少なくなっている。また、５ｎ０
２膜上にレジストを塗布する必要がないことから、ＩＴ
Ｏ膜上に塗布したレジストを本硬化（ポストベーク）す
る工程も不要で、これにより、ガラス基板に透明電極お
よび透明導電膜を形成する製造工程の大幅な簡素化が実
現されている。
こうして、片面に透明電極パターン、他面に透明導電膜
を形成した大版のガラス基板は、相対応する２枚のシー
ル剤を介して貼り合わせ（第９工程）た後、個々のセル
にカッティング（第１０工程）し、第１図に示すように
、各セルの上ガラス基板１と下ガラス基板２との間に液
晶材料８を注入（第１１工程）し、さらに液晶セルの両
面に上偏光板と９下偏向板１０とを貼り付け（第１２工
程）で、ＩＴＯからなる透明電極３，４と５ｎ０２から
なる透明導電膜５，６とを有する透過型のしＣＤを完成
するが、これら第９〜１２工程の内容は従来技術と同等
である。
を形成した大版のガラス基板は、相対応する２枚のシー
ル剤を介して貼り合わせ（第９工程）た後、個々のセル
にカッティング（第１０工程）し、第１図に示すように
、各セルの上ガラス基板１と下ガラス基板２との間に液
晶材料８を注入（第１１工程）し、さらに液晶セルの両
面に上偏光板と９下偏向板１０とを貼り付け（第１２工
程）で、ＩＴＯからなる透明電極３，４と５ｎ０２から
なる透明導電膜５，６とを有する透過型のしＣＤを完成
するが、これら第９〜１２工程の内容は従来技術と同等
である。
なお、上記実施例では上下のガラス基板１． ２にそれ
ぞれ透明導電膜５．６を形成する場合について説明しで
あるが、いずれか一方の基板にのみ透明導電膜を形成す
る場合や、透過型でなく反射型のＬＣＤを製造する場合
にも、本発明が有効であることはいうまでもない。
ぞれ透明導電膜５．６を形成する場合について説明しで
あるが、いずれか一方の基板にのみ透明導電膜を形成す
る場合や、透過型でなく反射型のＬＣＤを製造する場合
にも、本発明が有効であることはいうまでもない。
以上説明したように、本発明は、透明導電膜の材料とし
てＳ ｎ Ｏｔを用い、このＳ ｎ Ｏｔを溶解させな
いエツチング液中でＩＴＯのエツチングを行うというも
のなので、Ｓ ｎ Ｏｚ膜上にレジストを塗布してプリ
ベータ、露光、現像するといった一連の工程は不要で、
ＩＴＯ膜上に塗布したレジストをポストベークする工程
も省略でき、そのため従来技術に比して製造工程が大幅
に簡素化され、生産性の高いＬＣＤの製造方法を提供す
ることができる。
てＳ ｎ Ｏｔを用い、このＳ ｎ Ｏｔを溶解させな
いエツチング液中でＩＴＯのエツチングを行うというも
のなので、Ｓ ｎ Ｏｚ膜上にレジストを塗布してプリ
ベータ、露光、現像するといった一連の工程は不要で、
ＩＴＯ膜上に塗布したレジストをポストベークする工程
も省略でき、そのため従来技術に比して製造工程が大幅
に簡素化され、生産性の高いＬＣＤの製造方法を提供す
ることができる。
第１図は本発明を説明するためのＬＣＤの概略断面図で
ある。 １．２・・・・・・ガラス基板、３．４・・・・・・透
明電極、５．６・・・・・・透明導電膜。 第１図 １．２ ３．４ ５．６ がラヌ璽扱 壓１ｅ月喉１η１ １１８月ｉＪ１〆門ド
ある。 １．２・・・・・・ガラス基板、３．４・・・・・・透
明電極、５．６・・・・・・透明導電膜。 第１図 １．２ ３．４ ５．６ がラヌ璽扱 壓１ｅ月喉１η１ １１８月ｉＪ１〆門ド
Claims (1)
- 対向面に透明電極がパターニングされている一対の基板
の間に液晶材料を封入し、これら両基板の透明電極間に
電圧が印加されるようにしてあるとともに、これら両基
板のうち少なくとも一方の基板の透明電極形成面側と反
対側の面に透明導電膜が形成してあつて、この透明導電
膜が接地される液晶表示素子において、基板の片面にＩ
ＴＯ膜を、他面にＳｎＯ＿２膜をそれぞれ形成し、ＩＴ
Ｏ膜上にレジストをパターニングした後、この基板を、
ＩＴＯは溶解するもののＳｎＯ＿２は溶解しないエッチ
ング液に浸漬し、この後、上記レジストを剥離し、片面
にＩＴＯからなる透明電極を有し他面にＳｎＯ＿２から
なる透明導電膜を有する基板を得ることを特徴とする液
晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23711789A JPH03100518A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23711789A JPH03100518A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 液晶表示素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100518A true JPH03100518A (ja) | 1991-04-25 |
Family
ID=17010667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23711789A Pending JPH03100518A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03100518A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009301008A (ja) * | 2008-05-12 | 2009-12-24 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶表示パネル及びその製造方法 |
| JP2013007767A (ja) * | 2011-06-22 | 2013-01-10 | Japan Display Central Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、及び、対向基板 |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP23711789A patent/JPH03100518A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009301008A (ja) * | 2008-05-12 | 2009-12-24 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶表示パネル及びその製造方法 |
| JP2013007767A (ja) * | 2011-06-22 | 2013-01-10 | Japan Display Central Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、及び、対向基板 |
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