JPH0299898A - ルテニウム除去装置 - Google Patents
ルテニウム除去装置Info
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- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 43
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 43
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 46
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 62
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 53
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 9
- 239000003595 mist Substances 0.000 abstract description 8
- 239000002900 solid radioactive waste Substances 0.000 abstract description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 4
- 239000003599 detergent Substances 0.000 abstract 4
- 230000002000 scavenging effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 description 6
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 description 6
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 4
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000002927 high level radioactive waste Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 229910001927 ruthenium tetroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
廃液のガラス固化プロセスによって発生するオフガス中
の揮発性ルテニウムを除去する技術に関するものである
。
廃液は、ガラス同化処理を施すことにより、取り扱い性
を高めることができる。このようなガラス固化プロセス
で発生するオフガス中に、揮発性ルテニウムが混入して
いる場合は、その除去技術、除染性能が重要課題となる
。
ルテニウムを、シリカゲル吸着剤に反応させて吸着させ
る技術の検討がなされている。
る場合は、ルテニウムの吸着により放射能を持ったシリ
カゲル吸着剤が、新たな固形放射性廃棄物となるため、
新たに発生した固形放射性廃棄物の貯蔵スペース、処理
作業が必要となる。
スが含まれるため、これらガスの存在によりシリカゲル
によるルテニウム吸着性能(除染効率)が左右されて、
ルテニウム除去時の不安定要因となるなどの課題がある
。
形放射性廃棄物を発生させることがなく、■揮発性ルテ
ニウムの除染効率を高め、■オフガス中に含まれるNO
xとルテニウムとを同時に除去することを目的とするも
のである。
のガスプレナム部に、被処理ガス供給系と、NOxを供
給して被処理ガスと混合状態とするNOx供給系とを連
設し、ガスプレナム部の」二部に、ガスプレナム部から
の混合ガス流を洗浄液中に導いてNOx及びルテニウム
還元生成物を洗浄液中に捕捉する洗浄部を配設してなる
構成としている。
部に送り込まれると、両ガスが混合することにより、被
処理ガス中に含まれている揮発性ルテニウムが還元され
て、ルテニウム還元生成物となるとともに、エアロゾル
化あるいはニトロシル化する等のミスト状となる。これ
らミスト分を含む混合ガス流をガスプレナム部から洗浄
液中に導くと、ルテニウム還元生成物が洗浄液に捕捉さ
れ、残りの気体が洗浄液から反応用容器の外へ排出され
るものである。
第1図及び第2図に基づいて説明する。
カスプレナム部、3は洗浄部、4は被処理カス供給系(
オフガス供給系)、5はNOx供給系、6は洗浄液供給
系(洗浄水供給系)、7はオフガス処理系、8は廃液排
出系を示している。
とによって上下に区分されるとともに、第1図例の6し
浄部3の部分は、多段式構造とされている。
部に水平に架設される棚板9と、該棚板9を貫通して上
方に突出される複数のガス流通用ノズル10と、棚板9
の上に洗浄液層を形成するために設けられる液溜め用側
板11と、棚板9の上方に間隔を空けて水平に設けられ
る多孔板12と、該多孔板12に多数明けられた細孔1
2aと、ガス流通用ノズル10の上を間隔を空けて覆っ
て多孔板12に取り付けられているフードI3と、液溜
め用側板11の外側位置で洗浄液を流下させるために棚
板9に取り付けられているとともに、その下の同型の液
溜め側板11で区画された部分に向けられているダウン
カマJ4とを具備するものである。
給系6、オフカス処理系7、廃液排出系8には、反応用
容器1の内部との間をそれぞれ連通状態とするための被
処理ガス用ノズル4a、N。
8aが配設される。
回りには、供給NOxの温度を高める表ともに、反応用
容器Iの内部において、ノズル先端にルテニウムが凝縮
付着することを妨げるために、電気ヒータ等の加熱装置
15が設けられるとともに、NOx供給系5は、被処理
ガスに含まれるNOx量の変動を加味した状態で、十分
なNOx量を供給し得るように設定される。
態にした場合について説明する。
3における棚板9の上に供給すると、第2図に液位して
示すように、液溜め用側板11の高さまで洗浄液が溜め
られ、洗浄液の量が多くなると、液溜め用側板11を越
えてダウンカマ14から下の段へ流れ落ちることになる
。このようにして、複数段の棚板9の上に洗浄液が満た
される。
せることにより、被処理ガスであるオフガスと、還元ガ
スであるNOxとを反応用容器1におけるガスプレナム
部2にそれぞれ送り込むとともに、加熱装置15の作動
により、NOxの温度を保持しながらNOx用ノズル5
aの先端において、ルテニウムが凝縮付着することを妨
げるように保持すると、ガスプレナム部2において、両
ガスが混合することになり、オフガス中に含まれている
揮発性ルテニウム(Rub4)の還元作用により、次の
反応が生じると考えられる。
(+ )RuO4+NO→Ru(NO)−−(ii
)つまり、このような還元反応によって、オフガス中の
ルテニウム(Rub4)は、ルテニウム還元生成物とな
り、さらに、オフカス中に含まれる硝酸成分あるいは水
分等により、ルテニウムの同化とともにエアロゾル化あ
るいはニトロシル化したミスト状態となり、他のガス成
分に含まれた状態となると考えられる。
レナム部2からガス流通用ノズル10を経由して棚板9
と多孔板12との間に送り込み、多数の細孔12aから
洗浄液中に噴出させる。この場合において、棚板9と多
孔板12との間に洗浄液が侵入していると、その一部は
混合ガス流とともに細孔12aを経由して洗浄液中に戻
され、残りは、必要に応じて棚板9に明けた水抜き等か
ら下方に流れ落ちる。
浄液中に噴出することにより多数の泡が発生し、これら
の泡が洗浄液層を経由することにより、ミスト成分とN
Ox成分とが洗浄液に捕捉されて凝縮し、洗浄液の中に
取り込まれる。残りの気体は、洗浄液からその」二の段
の洗浄液に泡状に噴出することを繰り返し、ミスト成分
やNOxが繰り返し除去されて反応用容器1の外へ排出
され、オフガス処理系7に導かれて処理される。この場
合、泡の噴出によって当初の液位りが乱れて盛り」二が
るとともに、洗浄液供給系6から洗浄液(G:浄水)が
補給されることにより、作動時液位WLは、第2図に示
すように、若干傾斜した状態に変位して液溜め用側板1
1を越えた洗浄液が順次流れ落ちて、反応用容器Iの下
部に溜まり、廃液排出系8により外部に導かれて、液中
に含まれるルテニウム等の固形分を濾過装置を通して除
去処理され、除去液は、必要に応じて洗浄液として再度
利用される。
デルとしてビーカーテスト装置を構成し、ルテニウム除
去条件について検討した。
後、NOxを含む系に供給することにより、プロセス内
での状態を模擬した。
温度に保持するもので、キャリア空気を一定量供給する
ことにより、Rub、蒸気を定量的に発生させた。
るため、入り口出口で吸収ビンによるガスザンプリング
を行なった。
て、ケース1.2.6に示すようにNOxを存在させた
状態で洗浄水の中に送り込むとともに、NOx濃度を管
理することによって除染係数を高めることができること
が確認された。そして、第1表の条件に基づく結果から
、カラス固化プロセスで発生するオフガス中に、揮発性
ルテニウムが混入している場合の除去技術として有効で
あることが確認された。
置は、下記のような効果を奏する。
化して洗浄液に取り込まれるので、固形放射性廃棄物を
発生させることがなく、除去したルテニウム処理を簡単
にすることができる。
化して洗浄液に取り込ませることにより、揮発性ルテニ
ウムの除染効率を高めることができる。
まれるNOxを利用でき、NOxとルテニウムとを同時
に除去することかできる。
の正断面図、第2図は第1図にお1ノる鎖線n部分の拡
大図である。 反応用容器、 ガスプレナム部、 洗浄部、 被処理ガス供給系(オフガス供給系)、・被処理ガス用
ノズル、 ・・NOx供給系、 ・NOx用ノズル、 ・洗浄液供給系(洗浄水供給系)、 液供給口、 オフガス処理系、 ・カス出口、 ・・廃液排出系\ 1 ・・ ・ 2 ・・ ・・ 3 ・ ・ 4 ・ 4a・ 5 ・・ a 6 ・・・ 6a・・・ 7 ・・ 7a ・ 8 ・・ 8a・・・・・液出口、 9・・ 棚板、 10・・・・・ガス流通用ノズル、 月・・・・液溜め用側板、 12・・・・多孔板、 12a ・・・細孔、 I3・・・・・フード、 14・・ダウンカマ、 15・・・・・・加熱装置、 I7 ・液位、 W L ・・・作動時液位。 出願人 石川島播磨重工業株式会社
Claims (1)
- 反応用容器下部のガスプレナム部に、被処理ガス供給系
と、NO_xを供給して被処理ガスと混合状態とするN
O_x供給系とを連設し、ガスプレナム部の上部に、ガ
スプレナム部からの混合ガス流を洗浄液中に導いてNO
_x及びルテニウム還元生成物を洗浄液中に捕捉する洗
浄部を配設してなることを特徴とするルテニウム除去装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63252670A JP2814500B2 (ja) | 1988-10-06 | 1988-10-06 | ルテニウム除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63252670A JP2814500B2 (ja) | 1988-10-06 | 1988-10-06 | ルテニウム除去装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0299898A true JPH0299898A (ja) | 1990-04-11 |
JP2814500B2 JP2814500B2 (ja) | 1998-10-22 |
Family
ID=17240599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63252670A Expired - Lifetime JP2814500B2 (ja) | 1988-10-06 | 1988-10-06 | ルテニウム除去装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2814500B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03209198A (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-12 | Power Reactor & Nuclear Fuel Dev Corp | ルテニウム分離方法およびその装置 |
JP2018103078A (ja) * | 2016-12-22 | 2018-07-05 | 住友金属鉱山株式会社 | 無害化装置及び無害化方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6246296A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-28 | 石川島播磨重工業株式会社 | オフガス中の揮発性ルテニウム除去方法 |
JPS62129798A (ja) * | 1985-11-30 | 1987-06-12 | 石川島播磨重工業株式会社 | オフガス処理装置 |
-
1988
- 1988-10-06 JP JP63252670A patent/JP2814500B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6246296A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-28 | 石川島播磨重工業株式会社 | オフガス中の揮発性ルテニウム除去方法 |
JPS62129798A (ja) * | 1985-11-30 | 1987-06-12 | 石川島播磨重工業株式会社 | オフガス処理装置 |
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---|---|---|---|---|
JPH03209198A (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-12 | Power Reactor & Nuclear Fuel Dev Corp | ルテニウム分離方法およびその装置 |
JP2018103078A (ja) * | 2016-12-22 | 2018-07-05 | 住友金属鉱山株式会社 | 無害化装置及び無害化方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2814500B2 (ja) | 1998-10-22 |
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