JPS62129798A - オフガス処理装置 - Google Patents
オフガス処理装置Info
- Publication number
- JPS62129798A JPS62129798A JP26979885A JP26979885A JPS62129798A JP S62129798 A JPS62129798 A JP S62129798A JP 26979885 A JP26979885 A JP 26979885A JP 26979885 A JP26979885 A JP 26979885A JP S62129798 A JPS62129798 A JP S62129798A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- ruthenium
- silica gel
- gel layer
- adsorption tower
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Amplifiers (AREA)
- Medicines Containing Material From Animals Or Micro-Organisms (AREA)
- Input Circuits Of Receivers And Coupling Of Receivers And Audio Equipment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明はオフガス処理装置に係り、特に、揮発性ルテニ
ウムをシリカゲルにより吸着させる場合の効率を向上さ
せたオフガス処理装置Ｉソに関する。
ウムをシリカゲルにより吸着させる場合の効率を向上さ
せたオフガス処理装置Ｉソに関する。
「従来の技術及びその問題点」
核燃料サイクル施設において発生するオフガスの中には
、放射性物質の一つであるガス状の揮発性ルテニウムが
含まれている。
、放射性物質の一つであるガス状の揮発性ルテニウムが
含まれている。
従来、オフガス中に含まれている揮発性ルテニウムの除
去処理を行なう場合、吸着塔内のシリカゲル層にオフガ
スを通して、揮発性ルテニウムをシリカゲル層に吸着さ
せろようにしている。
去処理を行なう場合、吸着塔内のシリカゲル層にオフガ
スを通して、揮発性ルテニウムをシリカゲル層に吸着さ
せろようにしている。
しかしながら、オフガスの中には揮発性ルテニウム以外
にも各種の成分が混在しているために、吸着塔を通過す
る間に、揮発性ルテニウム以外の物質がシリカゲル層に
吸着されて、揮発性ルテニウムか吸着されにくくなる傾
向が生じる。このため、吸着性能の低下に対して十分な
余裕を有するように長い吸着塔を使用する、あるいは吸
着塔の交換を頻繁に行なうなどの必要があった。
にも各種の成分が混在しているために、吸着塔を通過す
る間に、揮発性ルテニウム以外の物質がシリカゲル層に
吸着されて、揮発性ルテニウムか吸着されにくくなる傾
向が生じる。このため、吸着性能の低下に対して十分な
余裕を有するように長い吸着塔を使用する、あるいは吸
着塔の交換を頻繁に行なうなどの必要があった。
「本発明の目的とその達成手段」
本発明は揮発性ルテニウムをシリカゲル層に効率よく吸
着さけて、除染効率の向上を図ることを「］的としてお
り、吸着塔の前段に、オフガスを洗浄することによりそ
の中のＮＯｘ等の不純成分の大部分を除去して該不純成
分に対する揮発性ルテニウムの相対比率を大きくするス
クラバを設けたことを特徴として、該スクラバを経由さ
せることによりシリカゲル層への有害物質を予め除去し
て、残った揮発性ルテニウムをシリカゲル層に吸着させ
るようにしたものである。
着さけて、除染効率の向上を図ることを「］的としてお
り、吸着塔の前段に、オフガスを洗浄することによりそ
の中のＮＯｘ等の不純成分の大部分を除去して該不純成
分に対する揮発性ルテニウムの相対比率を大きくするス
クラバを設けたことを特徴として、該スクラバを経由さ
せることによりシリカゲル層への有害物質を予め除去し
て、残った揮発性ルテニウムをシリカゲル層に吸着させ
るようにしたものである。
「実施例」
以下、本発明のオフガス処理装置の一実施例について図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
該−実施例のオフガス処理装置は、オフガス処理系１の
途中に、前処理塔２と、シリカゲル層３を存する吸着塔
４とを連設したものである。前処理塔２は、オフガスが
下部から上方に流通させられる縦長の容器５の中に、ス
クラバ６、冷却器７、デミスタ８、加熱器９がオフガス
の流通方向に沿って預次連投状聾で収納されたもので、
前記スクラバ６には、その上部から洗浄液を供給する洗
浄液供給ノズル１０と、前記流通方向に対して多段構造
をなす複数の棚段１１とが配設されている。なお、スク
ラバ６の底部には洗浄液排出系［２が連設されろととも
に、洗浄液を前記供給ノズル１０に送る洗浄液循環系１
３が設けられる。
途中に、前処理塔２と、シリカゲル層３を存する吸着塔
４とを連設したものである。前処理塔２は、オフガスが
下部から上方に流通させられる縦長の容器５の中に、ス
クラバ６、冷却器７、デミスタ８、加熱器９がオフガス
の流通方向に沿って預次連投状聾で収納されたもので、
前記スクラバ６には、その上部から洗浄液を供給する洗
浄液供給ノズル１０と、前記流通方向に対して多段構造
をなす複数の棚段１１とが配設されている。なお、スク
ラバ６の底部には洗浄液排出系［２が連設されろととも
に、洗浄液を前記供給ノズル１０に送る洗浄液循環系１
３が設けられる。
このように構成したオフガス処理装置は、前処理塔２に
おいて、まず、スクラバ６によりオフガスを洗浄するこ
とによって、スクラバ６の水と親和性の強いＮＯＸ等の
不純成分の大部分を除去し、これにより、オフガス中の
不純成分に対する揮発性ルテニウムの相対比率を大きく
する。次いで、冷却器７により一旦２０°Ｃ程度に冷却
凝縮して、デミスタ８によりミスト分を除去し、さらに
加熱器９で７０〜８０℃に加熱することによりオフガス
中の水分６度を約４％以下とする。つまり、冷却器７か
ら加熱器９までの一連の処理によって、オフガス中の水
分の大部分を除去して乾燥状態とするものである。そし
て、このような前処理を施した後に、吸着塔４を経由さ
せろことにより、前記したようにＮＯｘや水分等のシリ
カゲル層３に対する有害物質の大部分が除去されている
ので、該吸着塔４においては、揮発性ルテニウムを中心
に吸着することができる乙のである。
おいて、まず、スクラバ６によりオフガスを洗浄するこ
とによって、スクラバ６の水と親和性の強いＮＯＸ等の
不純成分の大部分を除去し、これにより、オフガス中の
不純成分に対する揮発性ルテニウムの相対比率を大きく
する。次いで、冷却器７により一旦２０°Ｃ程度に冷却
凝縮して、デミスタ８によりミスト分を除去し、さらに
加熱器９で７０〜８０℃に加熱することによりオフガス
中の水分６度を約４％以下とする。つまり、冷却器７か
ら加熱器９までの一連の処理によって、オフガス中の水
分の大部分を除去して乾燥状態とするものである。そし
て、このような前処理を施した後に、吸着塔４を経由さ
せろことにより、前記したようにＮＯｘや水分等のシリ
カゲル層３に対する有害物質の大部分が除去されている
ので、該吸着塔４においては、揮発性ルテニウムを中心
に吸着することができる乙のである。
［実験例ｊ
次に、このオフガス処理装置の性能を確認するために行
なった実験例について説明する。
なった実験例について説明する。
この実験においては、次のような試験ガスを使用した。
■オフガス類貝のガスとして、ルテニウム（Ｒｕ）濃度
が２．３Ｘ １０−＠ｍｏｌ／Ｎｍ’、Ｎｏｘａ度が０
．１％、Ｈ２０濃度が４％の試験ガス ■ルテニウム吸着を阻害する成分を含むオフガスを模擬
するために、硝酸を仮焼することにより得た試験ガス（
ルテニウムは含まれない。この場合、ＮｏＸａ度を変え
た数種類のガスを生成した） そして、第１図例の処理装置と等価の試験装置に■の試
験ガスを予め通しておいたものと、■の試験ガスを通し
ていないものとに、それぞれ■の試験ガスを通して、こ
れらの吸着塔におけるルテニウムの吸着分布を測定した
。その結果を第２図の○、△、口、◇で示す。該第２図
において、○は■の試験ガスを通していない試験装置に
■の試験ガスを３時間通したもの、△、口、◇は■の試
鈴ガスを予め６１Ｉン１１Ｎ＋＋’ｔ７１−た後に■の
廿鈴ガス木３時間通したもので、この場合の■の試験ガ
スにおＩｔルＮ０ｘｉ！度は、△カ０．２％、口が０．
７％、◇カ１．０％であった。
が２．３Ｘ １０−＠ｍｏｌ／Ｎｍ’、Ｎｏｘａ度が０
．１％、Ｈ２０濃度が４％の試験ガス ■ルテニウム吸着を阻害する成分を含むオフガスを模擬
するために、硝酸を仮焼することにより得た試験ガス（
ルテニウムは含まれない。この場合、ＮｏＸａ度を変え
た数種類のガスを生成した） そして、第１図例の処理装置と等価の試験装置に■の試
験ガスを予め通しておいたものと、■の試験ガスを通し
ていないものとに、それぞれ■の試験ガスを通して、こ
れらの吸着塔におけるルテニウムの吸着分布を測定した
。その結果を第２図の○、△、口、◇で示す。該第２図
において、○は■の試験ガスを通していない試験装置に
■の試験ガスを３時間通したもの、△、口、◇は■の試
鈴ガスを予め６１Ｉン１１Ｎ＋＋’ｔ７１−た後に■の
廿鈴ガス木３時間通したもので、この場合の■の試験ガ
スにおＩｔルＮ０ｘｉ！度は、△カ０．２％、口が０．
７％、◇カ１．０％であった。
また、第１図例の処理装置からスクラバ６を除いた状態
とした試験装置に■の試験ガスを６時間通した後、■の
試験ガスを３時間通してルテニウムの吸着分布を測定し
た。その結果を第２図のム、■、◆で示す。この場合の
■の試験ガスのＮＯｘ濃度は、ムが０．０５％、■が０
．０５％、◆が０２％であった。
とした試験装置に■の試験ガスを６時間通した後、■の
試験ガスを３時間通してルテニウムの吸着分布を測定し
た。その結果を第２図のム、■、◆で示す。この場合の
■の試験ガスのＮＯｘ濃度は、ムが０．０５％、■が０
．０５％、◆が０２％であった。
なお、各試験において、吸着塔のシリカゲル層の高さは
３５ｃｍ、シリカゲル層の温度は７０℃、各ガスのンリ
カゲル層通過時における流速は２２ｃｍ／ｓｅａである
。
３５ｃｍ、シリカゲル層の温度は７０℃、各ガスのンリ
カゲル層通過時における流速は２２ｃｍ／ｓｅａである
。
第２図から明らかなように、０１△、口、◇で示す各条
件においては、いずれらほぼ同様なルテニウム吸ｎ分布
を示しており、■の試験ガスを予め通しておいた吸着塔
ら、該試験ガスを通していない吸着塔もほぼ同様なルテ
ニウム吸着性能を有するということが確認された。つま
り、吸着塔を長時間オフガス処理に使用しても、オフガ
スを吸着塔に通す前にスクラバに経由させておくことに
より、シリカゲル層の吸着性能の低下を抑制し得るとい
うことがいえるものである。
件においては、いずれらほぼ同様なルテニウム吸ｎ分布
を示しており、■の試験ガスを予め通しておいた吸着塔
ら、該試験ガスを通していない吸着塔もほぼ同様なルテ
ニウム吸着性能を有するということが確認された。つま
り、吸着塔を長時間オフガス処理に使用しても、オフガ
スを吸着塔に通す前にスクラバに経由させておくことに
より、シリカゲル層の吸着性能の低下を抑制し得るとい
うことがいえるものである。
また、△、口、◇とム、■、◆とを比較すると、△、口
、◇の条件下では、ム、■、◆の条件下よりも吸着塔の
人口付近で多くのルテニウムが吸着されている。例えば
、△と◆とであると、吸着塔においてＩＯ’ｃｐｍのγ
線強度となる位置は、◆ではＡで示すように吸着塔入口
からシリカゲル層の２０ｃｍ以上の長さを要するのに対
し、△ではＢで示すように１２ｃｍ程度の長さで足りて
いる。したがって、この結果から、オフガスを吸着塔に
通す前に少なくともスクラバを経由させることにより、
吸着塔の入口からシリカゲル層の短い距離の間で集中的
に多くのルテニウムを吸着し得ること、言い替えれば、
ルテニウム吸若量の少ない残りの層によりさらにルテニ
ウムを吸着し得る余裕を多く有しているといえるもので
ある。
、◇の条件下では、ム、■、◆の条件下よりも吸着塔の
人口付近で多くのルテニウムが吸着されている。例えば
、△と◆とであると、吸着塔においてＩＯ’ｃｐｍのγ
線強度となる位置は、◆ではＡで示すように吸着塔入口
からシリカゲル層の２０ｃｍ以上の長さを要するのに対
し、△ではＢで示すように１２ｃｍ程度の長さで足りて
いる。したがって、この結果から、オフガスを吸着塔に
通す前に少なくともスクラバを経由させることにより、
吸着塔の入口からシリカゲル層の短い距離の間で集中的
に多くのルテニウムを吸着し得ること、言い替えれば、
ルテニウム吸若量の少ない残りの層によりさらにルテニ
ウムを吸着し得る余裕を多く有しているといえるもので
ある。
「発明の効果」
以」二説明したように、本発明のオフガス処理装置によ
れば、オフカスを吸着塔に通ず前に１、スクラバにより
オフガス中のＮＯＸ等の不純成分の大部分を除去して該
不純成分に対する揮発性ルテニウムの相対比率を大きく
しておくようにしたから、吸着塔においては揮発性ルテ
ニウムを中心に吸着し得るので、シリカゲル層の短い距
離の間で集中的に多くのルテニウムを吸着し得るととも
に、長時間の処理によるシリカゲル層の吸着性能の低下
を抑制し得て、除染効率を高めることができろという効
果を奏する。
れば、オフカスを吸着塔に通ず前に１、スクラバにより
オフガス中のＮＯＸ等の不純成分の大部分を除去して該
不純成分に対する揮発性ルテニウムの相対比率を大きく
しておくようにしたから、吸着塔においては揮発性ルテ
ニウムを中心に吸着し得るので、シリカゲル層の短い距
離の間で集中的に多くのルテニウムを吸着し得るととも
に、長時間の処理によるシリカゲル層の吸着性能の低下
を抑制し得て、除染効率を高めることができろという効
果を奏する。
第１図は本発明におけるオフガス処理装置の一実施例を
示す概略図、第２図は第１図の処理装置の性能を立証す
るために被試験ガスにより実験して得たシリカゲル層の
Ｒｕ吸着分布図である。 １・・・・・・オフガス処理系、２・・・・・・前処理
塔、３・・・・・・シリカゲル層、４・・・・・・吸着
塔、５・・・・・・容器、６・・・・・・スクラバ、７
・・・・・・冷却器、８・・・・・・デミスタ、９・・
・・・・加熱器。 出願人 石川島播磨重工業株式会社 第１図
示す概略図、第２図は第１図の処理装置の性能を立証す
るために被試験ガスにより実験して得たシリカゲル層の
Ｒｕ吸着分布図である。 １・・・・・・オフガス処理系、２・・・・・・前処理
塔、３・・・・・・シリカゲル層、４・・・・・・吸着
塔、５・・・・・・容器、６・・・・・・スクラバ、７
・・・・・・冷却器、８・・・・・・デミスタ、９・・
・・・・加熱器。 出願人 石川島播磨重工業株式会社 第１図
Claims (1)
- 揮発性ルテニウムを含有するオフガスを洗浄することに
よりその中のＮＯ＿ｘ等の不純成分の大部分を除去して
該不純成分に対する揮発性ルテニウムの相対比率を大き
くするスクラバと、該スクラバを経由したオフガスをシ
リカゲル層に通して前記揮発性ルテニウムをシリカゲル
層に吸着させる吸着塔とを具備するオフガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60269798A JPH0715515B2 (ja) | 1985-11-30 | 1985-11-30 | オフガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60269798A JPH0715515B2 (ja) | 1985-11-30 | 1985-11-30 | オフガス処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62129798A true JPS62129798A (ja) | 1987-06-12 |
| JPH0715515B2 JPH0715515B2 (ja) | 1995-02-22 |
Family
ID=17477311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60269798A Expired - Lifetime JPH0715515B2 (ja) | 1985-11-30 | 1985-11-30 | オフガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0715515B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0299898A (ja) * | 1988-10-06 | 1990-04-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | ルテニウム除去装置 |
| FR2688335A1 (fr) * | 1992-03-03 | 1993-09-10 | Cogema | Procede de piegeage du ruthenium gazeux sur de la polyvinylpyridine, utilisable en particulier pour recuperer le ruthenium radioactif provenant de combustibles nucleaires irradies. |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6042695A (ja) * | 1983-08-18 | 1985-03-06 | 東洋エンジニアリング株式会社 | 放射性ガスの処理法 |
-
1985
- 1985-11-30 JP JP60269798A patent/JPH0715515B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6042695A (ja) * | 1983-08-18 | 1985-03-06 | 東洋エンジニアリング株式会社 | 放射性ガスの処理法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0299898A (ja) * | 1988-10-06 | 1990-04-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | ルテニウム除去装置 |
| FR2688335A1 (fr) * | 1992-03-03 | 1993-09-10 | Cogema | Procede de piegeage du ruthenium gazeux sur de la polyvinylpyridine, utilisable en particulier pour recuperer le ruthenium radioactif provenant de combustibles nucleaires irradies. |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0715515B2 (ja) | 1995-02-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4044098A (en) | Removal of mercury from gas streams using hydrogen sulfide and amines | |
| US3733393A (en) | Purification of combustion products before discharge into the atmosphere | |
| CN1132659A (zh) | 从燃气中除去二氧化碳与氧化氮的方法 | |
| JPS61271016A (ja) | ガスからｃｏ↓２及び／或はｈ↓２ｓを除去する方法 | |
| JPH07138004A (ja) | 硫黄酸化物含有ガスの浄化方法 | |
| JP2871335B2 (ja) | 燃焼排ガス中の二酸化炭素を除去する方法 | |
| US10835863B2 (en) | CO2 recovery device and CO2 recovery method | |
| EP0671199A2 (en) | Method for the removal of carbon dioxide and sulfor oxides from combustion exhaust gas | |
| JPS62129798A (ja) | オフガス処理装置 | |
| JP2786560B2 (ja) | 燃焼排ガス中の脱二酸化炭素装置および方法 | |
| JP3739437B2 (ja) | 二酸化炭素の吸収液と該吸収液を用いる被処理ガス中の二酸化炭素吸収方法 | |
| US6627110B1 (en) | Hydrogen sulfide removal process | |
| JPH0622654B2 (ja) | ハロゲン化炭化水素系ガスの吸着除去方法 | |
| CN105115924A (zh) | 一种测试炭基吸附剂脱汞性能的方法及装置 | |
| JPS6246296A (ja) | オフガス中の揮発性ルテニウム除去方法 | |
| KR100650557B1 (ko) | 암모니아수 장입위치 변화에 의한 배가스중 이산화탄소흡수방법 | |
| JPH0565837B2 (ja) | ||
| RU2664127C1 (ru) | Способ регенерации азотной кислоты из тритийсодержащего газового потока | |
| JPS6147597A (ja) | 排ガス中からの放射性ヨウ素除去方法 | |
| JP3310861B2 (ja) | Ｎｏ▲ｘ▼、ｏ▲３▼を含むガスの処理方法 | |
| JPH0324499A (ja) | 放射性廃ガス中ルテニウムの除去方法 | |
| JPH01132999A (ja) | オフガス中の揮発性ルテニウム処理装置 | |
| JP2895245B2 (ja) | 亜酸化窒素を含む燃焼排ガスの処理方法 | |
| JPS5688816A (en) | Regeneration of active carbon | |
| JPH08155299A (ja) | 炭素質触媒の脱硫脱硝性能向上方法 |