JPH0298840A - 光記憶体 - Google Patents
光記憶体Info
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- JPH0298840A JPH0298840A JP63250969A JP25096988A JPH0298840A JP H0298840 A JPH0298840 A JP H0298840A JP 63250969 A JP63250969 A JP 63250969A JP 25096988 A JP25096988 A JP 25096988A JP H0298840 A JPH0298840 A JP H0298840A
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- gold
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- calcium fluoride
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Links
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は音響機器等に用いられる光記憶体に関する。
[従来の技術]
近年、光記憶体の1つであるコンパクトディスク(以下
、CDと略V)が広く普及し、また、このCDの応用技
術として、CDにコンピュータデータを記録したCD−
ROMが普及し始めており、これらの記憶体に対し、従
来にも増して、高温・高湿下での保存性の高いものが望
まれている。
、CDと略V)が広く普及し、また、このCDの応用技
術として、CDにコンピュータデータを記録したCD−
ROMが普及し始めており、これらの記憶体に対し、従
来にも増して、高温・高湿下での保存性の高いものが望
まれている。
[発明が解決しようとする課題]
従来、光記憶体は、ガラス、ポリカーボネート樹脂等か
らなる下地体上に、アルミニウムや金等からなる反射膜
が直接形成されたもので構成されているが、かかる光記
憶体を高温・高湿の環境下においた場合、反射膜材料が
アルミニウムの場合は腐食が生じ、また金の場合は下地
体から剥離して信@読み取りの指標とされるエラーレー
トが増加し、上記に記したニーズに適応できないという
問題があった。
らなる下地体上に、アルミニウムや金等からなる反射膜
が直接形成されたもので構成されているが、かかる光記
憶体を高温・高湿の環境下においた場合、反射膜材料が
アルミニウムの場合は腐食が生じ、また金の場合は下地
体から剥離して信@読み取りの指標とされるエラーレー
トが増加し、上記に記したニーズに適応できないという
問題があった。
本発明は、以上述べたような従来の事情に対処してなさ
れたもので、金の反射膜の下地体への密着性を向上させ
ることにより、光記憶体の耐候性を高めた光記憶体を提
供することを目的とする。
れたもので、金の反射膜の下地体への密着性を向上させ
ることにより、光記憶体の耐候性を高めた光記憶体を提
供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明は、下地体上に、少なくとも密着層と金からなる
反射膜とが順次形成されており、前記密@層は、フッ化
カルシウムを一構成成分として形成されてなることを特
徴とする光記憶体である。
反射膜とが順次形成されており、前記密@層は、フッ化
カルシウムを一構成成分として形成されてなることを特
徴とする光記憶体である。
本発明の光記憶体は、例えば次のようにして作製される
。まず、この−F地体の材質としては、例えば強化ガラ
ス、石英ガラス、ポリカーボネート樹脂等が用いられる
。
。まず、この−F地体の材質としては、例えば強化ガラ
ス、石英ガラス、ポリカーボネート樹脂等が用いられる
。
次に、上記下地体の上に、密着層として、少なくともフ
ッ化カルシウムを含む材料を高周波マグネトロンスパッ
タ法、イオンブレーティング法、クラスターイオンビー
ム法、プラズマCVD法等により5〜200nmの膜厚
で被覆する。
ッ化カルシウムを含む材料を高周波マグネトロンスパッ
タ法、イオンブレーティング法、クラスターイオンビー
ム法、プラズマCVD法等により5〜200nmの膜厚
で被覆する。
次に、上記密着層の上に、反則膜として、金を高周波マ
グネ[・ロンスパッタ法、イオンブレーティング法、ク
ラスターイオンビーム法、CVD法等により10〜20
0na+の膜厚で被覆する。
グネ[・ロンスパッタ法、イオンブレーティング法、ク
ラスターイオンビーム法、CVD法等により10〜20
0na+の膜厚で被覆する。
さらに、必要に応じて上記反射膜上に各種樹脂等からな
る保護膜を形成することにより、本発明の光記憶体が(
qられる。
る保護膜を形成することにより、本発明の光記憶体が(
qられる。
[作用]
密着層に含ませるフッ化カルシウムは、金および下地体
の双方に対して大きな密着性を有すると共に、耐腐食性
にも優れている。このため、下地体から金反射膜が剥離
することがなく、高い信頼性を有する光記憶体が得られ
る。
の双方に対して大きな密着性を有すると共に、耐腐食性
にも優れている。このため、下地体から金反射膜が剥離
することがなく、高い信頼性を有する光記憶体が得られ
る。
[実施例1
以下に、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
実施例1〜6
第1表に示′g祠貿の下地体上に、フッ化カルシウムか
らなる密着層および金反射膜をそれぞれ第1表に示す膜
厚で形成した。次いで、金反射膜−[に第1表に示す材
質の保護膜を形成して6個の光記憶体を作製した。
らなる密着層および金反射膜をそれぞれ第1表に示す膜
厚で形成した。次いで、金反射膜−[に第1表に示す材
質の保護膜を形成して6個の光記憶体を作製した。
第1図は以上のようにして作製した光記憶体の一例の部
分断面図で、図中、1は下地体、2は密着層、3は反則
膜、4は保護膜である。
分断面図で、図中、1は下地体、2は密着層、3は反則
膜、4は保護膜である。
次に、これらの試料と、アルミニウムおよび金を反Q−
j膜とする従来品について、湿度80°0、相対湿度9
0%の耐食性試験を1ケ月間行い、信号の良否の指標と
なるエラーレートを測定した。その結果を第2表に示す
。
j膜とする従来品について、湿度80°0、相対湿度9
0%の耐食性試験を1ケ月間行い、信号の良否の指標と
なるエラーレートを測定した。その結果を第2表に示す
。
第1表
第2表
第2表に示すように、初期においてはいずれの試料もエ
ラーレートは5×1叶5であるが、1ケ月間の耐食性試
験後、本発明の試料のエラーレー1〜は多少の劣下がみ
られるものの、従来品とは比較にならないほど良好であ
った。
ラーレートは5×1叶5であるが、1ケ月間の耐食性試
験後、本発明の試料のエラーレー1〜は多少の劣下がみ
られるものの、従来品とは比較にならないほど良好であ
った。
[発明の効果]
以上、詳細にJべたように、本発明の光記憶体は、密着
層としてフッ化カルシウムを使用することによって、金
反射膜と下地体との密着性が高められていると共に、耐
食性にも優れており、従来技術による場合と比べ、高い
信頼性を有するものである。
層としてフッ化カルシウムを使用することによって、金
反射膜と下地体との密着性が高められていると共に、耐
食性にも優れており、従来技術による場合と比べ、高い
信頼性を有するものである。
第1図は本発明の光記憶体の一実施例を示す部分断面図
である。
である。
Claims (1)
- (1)下地体上に、少なくとも密着層と金からなる反射
膜とが順次形成されており、前記密着層は、フッ化カル
シウムを一構成成分として形成されてなることを特徴と
する光記憶体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63250969A JPH0298840A (ja) | 1988-10-06 | 1988-10-06 | 光記憶体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63250969A JPH0298840A (ja) | 1988-10-06 | 1988-10-06 | 光記憶体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0298840A true JPH0298840A (ja) | 1990-04-11 |
Family
ID=17215718
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63250969A Pending JPH0298840A (ja) | 1988-10-06 | 1988-10-06 | 光記憶体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0298840A (ja) |
-
1988
- 1988-10-06 JP JP63250969A patent/JPH0298840A/ja active Pending
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