JPH0295516U - - Google Patents
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- JPH0295516U JPH0295516U JP408789U JP408789U JPH0295516U JP H0295516 U JPH0295516 U JP H0295516U JP 408789 U JP408789 U JP 408789U JP 408789 U JP408789 U JP 408789U JP H0295516 U JPH0295516 U JP H0295516U
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- JP
- Japan
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- exhaust
- processing tank
- trap
- equipment
- duct
- Prior art date
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- Pending
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- Weting (AREA)
Description
第１図は本考案実施例による排気設備の系統図
、第２図は従来における排気設備の系統図である
。 図において、１：半導体プロセス工程の処理槽
、３：排気ダクト、５：排気フアン、５ａ：フア
ンモータ、８：圧力センサ、９：圧力コントロー
ラ、１０：インバータ、１１：トラツプ、１２：
ドレン排出管、１４：エジエクタ式ドレン排出機
構。
、第２図は従来における排気設備の系統図である
。 図において、１：半導体プロセス工程の処理槽
、３：排気ダクト、５：排気フアン、５ａ：フア
ンモータ、８：圧力センサ、９：圧力コントロー
ラ、１０：インバータ、１１：トラツプ、１２：
ドレン排出管、１４：エジエクタ式ドレン排出機
構。
Claims (1)
- 半導体ウエハの薬品処理、洗浄、乾燥を行う処
理槽に対する排気設備であり、ドラフトチヤンバ
としての処理槽に排気ダクト、排気フアンを接続
して排気を行うものにおいて、排気圧を一定圧力
に保持する排気フアンの運転制御手段と、排気ダ
クトの途中に介装して排気中の含有ミストを捕集
するトラツプと、該トラツプに組み込んだエジエ
クタ式のドレン排出手段とを具備したことを特徴
とする半導体プロセス用の排気設備。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP408789U JPH0295516U (ja) | 1989-01-18 | 1989-01-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP408789U JPH0295516U (ja) | 1989-01-18 | 1989-01-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0295516U true JPH0295516U (ja) | 1990-07-30 |
Family
ID=31206289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP408789U Pending JPH0295516U (ja) | 1989-01-18 | 1989-01-18 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0295516U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160052346A (ko) * | 2014-10-31 | 2016-05-12 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 액처리 장치 |
| JP2021044536A (ja) * | 2019-09-03 | 2021-03-18 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | ミスト回収装置および基板処理装置 |
-
1989
- 1989-01-18 JP JP408789U patent/JPH0295516U/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160052346A (ko) * | 2014-10-31 | 2016-05-12 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 액처리 장치 |
| JP2016092143A (ja) * | 2014-10-31 | 2016-05-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置 |
| US10056269B2 (en) | 2014-10-31 | 2018-08-21 | Tokyo Electron Limited | Substrate liquid processing apparatus |
| JP2021044536A (ja) * | 2019-09-03 | 2021-03-18 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | ミスト回収装置および基板処理装置 |
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