JPH0294448A - 電力用半導体スイッチ装置 - Google Patents

電力用半導体スイッチ装置

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JPH0294448A
JPH0294448A JP24381388A JP24381388A JPH0294448A JP H0294448 A JPH0294448 A JP H0294448A JP 24381388 A JP24381388 A JP 24381388A JP 24381388 A JP24381388 A JP 24381388A JP H0294448 A JPH0294448 A JP H0294448A
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JP
Japan
Prior art keywords
gate
switching element
power semiconductor
chip
semiconductor switching
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Pending
Application number
JP24381388A
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English (en)
Inventor
Shigeki Kadoma
茂樹 門間
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Priority to DE19893910470 priority patent/DE3910470C2/de
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の目的) (産業上の利用分野) 本発明は、電力用半導体スイッチ装置に関する。
(従来の技術) 最近、電力回路のスイッチとして半導体スイッチ装置が
広く使用されている。このような用途のうち、数10O
A以上の電力回路に用いらける電力用半導体スイッチ装
置は、通常、第5図に示づように構成されている。ずな
わら、じ−1ヘシンクを兼ねた銅製のアノード電極1と
同じくヒートシンクを兼ねた銅製のカソード電極2との
間にサイリスタヤGTOで代表される半導体スイッチン
グ要素を構成する半導体デツプ3を介在させるとと−す
に半導体チップ3と各電極1.2との間に異種金属層4
を介在させ、ざらにアノード電極1とカソード電極2と
の間からゲート電極線5を取り出したものとなっている
。なお、半導体チップ3が収容されている空間は、実際
には図示しない外囲器によって覆われている。そして、
実装するときには、アノード電極1とカソード電極2と
の間に図中太矢印で示すように大きな圧接力を加え、こ
れによって半導体チップ3と7ノード電極1およびカソ
ード電極2との間の熱抵抗を十分率さな値まで減少させ
るようにしている。なお、異種金属層4は、アノード電
極1およびカソード電極2と半導体チップ3との熱膨張
係数の違いによって半導体チップ3に大きな熱応力が発
生するのを緩和する役目を担っている。
しかしながら、上記のように構成された従来の電力用半
導体スイッチ装置にあっては次のような問題があった。
すなわち、電流容量を増加さけようとすると、それに対
応させて半導体デツプ3の径を大きくする必要がある。
したがって、大ぎな半導体ウェハを必要とする。また、
スイッチング特性を向上させるには、−設面に半導体ウ
ェハに微細加工処理を施す必要がある。このように、大
ぎな半導体ウェハ仝体に−様な精度で微細加工処理を施
すことは極めて難しい。このため、従来の電力用半導体
スイッチ装置では、構造上の制約から大容量でしかもス
イッチング特性の良いものを形成することが困難であっ
た。また、従来の電力用半導体スイッチ装置では、単一
の半導体チップ3(a−用い、この半導体デツプ3の電
極面を放熱炉として利用しているので、半導体チップ3
からの放熱を促進ざVるには大きな圧接力を加える必要
かある。しかし、圧接力と放熱特性との間には必ずしも
比例関係が成立しないので、大きな圧接力を加えたこと
によって、逆に半導体チップ3に発生する熱応力を緩和
させることが困難となり、結局、冷却と言う面からも人
寄は化が困難であった。
(発明が解決しようとする課題) 上述の如く、従来の電力用半導体スイッチ装置にあって
は、構造的に大容量化および高性能化が困難であった。
そこで本発明は、大容量化および高性能化を実現できる
構造で、しかも実装も容易な電力用半導体スイッチ装置
を提供することを目的としている。
(発明の構成) (課題を解決するための手段) 本発明にあっては、ヒートシンクを兼ねたアノード電極
と同じくヒートシンクを兼ねたカソード電極とで半導体
スイッチング要素を構成するデツプを挟むとともに上記
両電極間からゲートリード線を取出してなる電力用半導
体スイッチ装置において、前記半導体スイッチング要素
は、それぞれ独立した半導体スイッチング素子チップを
定格電流条件を漏す数だけ前記両電極間に並列に配置し
てなる半導体スイッチング素子チップ群で構成されこれ
ら半導体スイッチング素子チップの各々とゲートリード
線との接続を行なうためのゲート分扉部材を設けたこと
を特徴としている。
また、前記ゲート分配部材と前記アノード電極及びカソ
ード電極との間に電気絶縁機能と良熱伝導機能とを備え
た手段が設けられていることを特徴としている。
また、前記半導体スイッチング素子チップは、同一円に
沿って配列されてa3す、前記ゲート分配部材は円板状
に形成されており、このゲート分配部材の大きさを前記
各半導体スイッチング素子チップ近傍まで延ばしたこと
を特徴としている。
また、前記ゲートリード線は前記円板状に形成されたゲ
ート分配部材のほぼ中央で接続されていることを特徴と
する請求項5記載の電力用半導体スイッチ装置。
(作 用) このようにゲート分配部材を設けたために、各チップと
ゲートリード線との接続が安定して行なえる。つまり、
各チップからの複数のゲート接続線を一つにまとめる必
要がないため配線の複雑ざを解決できる。
また、請求項2のように構成されたものでは、画電極と
ゲート分配部材の電気絶縁が行なえ、しかも良熱伝導で
あるため温度分布の均一化が囲まれ熱応力を緩和できる
また、請求項5および6のように構成されたものにおい
ては、各チップとゲート分配部材との接続距離が短かく
でき各チップのスイッチング特性を均一化するのに奇与
し、円板状のゲート分配部材の中央にゲートリード線を
接続したことによりさらにスイッチング特性が安定する
(実施例) 以下図面を参照しながら実施例をば1明する。第1図に
は一実施例に係る電力用半導体スイッチ装置の平面図が
示されている。第2図は第1図におけるA−A断面図で
ある。このスイッチ装置は第2図に示すように大きくわ
けて例えば厚さ10簡、直径90mの銅板で形成され互
いに対向配置されたアノード電極11およびカソード電
極12とこの電極間に挿設された窒化アルミニウム板1
3a(以後MN板と略称する。)と13b 、 /ff
1N板13a、 13b間に配置された絶縁ゴム板14
に囲まれた状態でアノード電極11とカソード電極12
との間に第1図に示すように挿設された10個の小型の
半導体スイッチング素子チップ15(以後単にチップと
略称する。)とアノード電皆11とカソード電極12と
で挟まれた部分を封じる絶縁性の外囲器16、MN板1
3bとアノード電極11との間には円板形状のゲート分
配置φ17とA1N板13Cが挿設された構成となって
いる。
ゲート分配極17の大きさは、可能な限りチップ15の
位置まで近づけるように大きくされている。
A1N板13bはAffN板13aの内側に円板状をな
している。絶縁ゴム板14中には第3図で示すJ:うに
アノード電極11とカソード電極12との間にたとえば
一辺が10#の立方体状の空間を形成する孔(この孔は
デツプ15を収納するためのもの)が上記円形電極11
.12の中心を中心点として描かれる円に沿って等間隔
に10組設置プられている。そして、これら孔によって
形成された10個の立方体状の空間にそれぞれアノード
電極11との間およびカソード電極12との間に各々モ
リブデン板18a、18bを介在さぜた状態で前述した
チップ15が装着されている。
なお、この孔の大きさは2枚のモリブデン板18a。
18bとチップ15とを合計した厚みより僅かに大ぎい
値に設定されている。
各チップ15はシリコンウェハを用いて形成されたMO
SFET、IGET等の絶縁グー1〜形1〜ランジスク
で構成されている。これらチップ15のグー1〜電極線
19は第3図に示すようにアノード電極11に形成され
た溝20に沿ってグー1ル分配極17に接続され、さら
に第1図又は第2図に示すようにゲート分配極17から
ゲートリード線21が同じく溝22内に沿つ′C外周方
向に延びこのリード線21は外囲器16の壁を貫通して
外部に導かれている。
なお、絶縁ゴム14はチップ15とMN板13が直接接
触してチップ15が損傷するのを防ぐ目的で設(プてお
り、設けなくてもよいものである。
このように構成された電力用半導体スイッチ装置は圧接
力が加えられた状態あるいは各部がハンダ付けされた状
態で実装される。なお、モリブデン板18a、 18b
は熱膨張係数がチップ15を構成しているシリコンに近
い。したがってモリブデン板18a、 18bはアノー
ド電極11およびカソード電極12とチップ15との熱
膨張係数の違いによってチップ15に発生する平面方向
の熱応力を緩和させるのに寄与する。また、I’UN板
13はシリコンの熱膨張係数に近い熱膨張係数を有し、
しかも絶縁性に富み、熱伝導性も勝れている。このため
MNN板3は各チップ15に発生する径方向の熱応力を
緩和させる(径方向の熱応力の緩和は前記の絶縁ゴム1
4が挿入されていない場合に限られる)とともにアノー
ド電極11とカソード電極12との間の絶縁を保持した
状態でアノード電(※11とカソード電極12との温度
差を小さくするのに奇ちする。また、ゲート分配極11
とアノード電極11との間のMNN板3c又はカソード
電極12との間のM、N板13bを挿設することにより
アノード電極11とカソード電極12との温度差を小さ
くするのに寄与する。
したかつてスイッチ装置全体の温度の均一化に効果があ
る。
前述のようにグー1ル分配極17の大きざをチップ15
群の近くまで大ぎくし、絶縁をdNN板3b、 13c
により行うことによりアノード電極11とカソード電極
12との熱伝導を良くして電極間の温度差を小さくし、
チップ群15に発生ずる熱応力を緩和さぜる効果が大き
くなる。また、ゲート分配極17を大きくしてチップ1
5に近づけ、チップ15との距離を短かくすることによ
りゲート分配極17とチップ群15とを接続するグーi
−電極線19を短くすることができスイッチング特性を
均一化することが出来る。
第4図と第5図は、本発明の他の実施例に係る電力用半
導体スイッチ装置を示覆もので第4図は平面図、第5図
は第4図におけるB−8断面図である。
この実施例は、複数のチップ15のスイッチング特性を
さらに均一化する目的でなされたしので、ゲートリード
線21を円板−状のゲート分配(本17のほぼ中心位置
で接続したもので必る。
つまり、第5図に示すようにアノード電極11にグー1
ル分配極17の中心近傍まで延びる満22を形成し、こ
の溝22に沿ってグー1〜リード線21を導いてグー1
ル分配(〜17と接続している。ゲート分配極17とチ
ップ15との接続は第3図と同様にゲート化(か19で
行なっている。
この実施例の構成では、グー1へリード線21からチッ
プ15までの配線距離は各デツプ15ともに実質的に同
じになり、スイッチング特性はざらに均一化できる。
また、この実施例ではチップ15と/uN板13aとの
間に先の実施例のような絶縁ゴム14を介在ざVていな
いのC、チップ15の径ノ)向の熱応力を緩和できると
ともに、MNN板J、熱伝達特性も優れているlこめチ
ップ15の側面も使って有効に放熱できる。
なd3、本発明は上記実施例に限定されることなく種々
変形して用いることができる。
例えば、MN板はアルミナあるいは粉末の窒化アルミニ
ウムまたは表面か酸化シリコンで覆われたシリコン等を
用いてもにり、また、複数に独立させた各デツプ15の
配置ら円周状に等間隔に配置されるものに限られず並列
接続であればどのような配列でもよい。またチップ15
の配列に応じてゲート分配極17の形状も円板状に限定
されず種々変形できる。仮にチップを円周に沿って配列
した場合で−しゲート分配極17を例えば略星形状とし
て、1なわらゲート分配極17の外周をチップ15の近
傍まで延ばせばよい。
以上に)ホべたように本発明によればグー1ル分配極と
アノード電極及びカソード電極との絶縁をA1.N板で
行ない、ゲート分配極を大きくすることによりチップに
発生する熱応力上の問題を゛容易に解決でき、しかも人
寄最化ならびに高性能化を実現できる。
また外囲器からのゲート線をゲート分配)へ中心で接続
することによりスイッチング特性を均一化し高速スイッ
チング特性をうろことか出来る。
(発明の効果〕 以上詳述したように本発明によれば複数に分割したチッ
プとグーミルリード線の接続をグー1ル分配部材を介し
て行なうことにより、確実な接続が行なえるとともにス
イッチング特性が向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は一実施例に係る電力用半導体スイッチ装置の平
面図、第2図は第1図にお()るA−A線切断矢視図、
第3図は同装置に組み込まれたMN板を局部的に取出し
て示1分解斜視図、第4図は伯の実施例に係る電力用半
導体スイッチ装置の平面図、第5図は第4図にお(プる
B−13線切断矢視図、第6図は、従来の電力用半導体
スイッチ装置の模式図である。 1・・・アノード電極 2・・・カソード電(〜 3a、13b、13c ・NIN板 5・・・半導体スイッチング素子チップ6・・・外囲器 7・・・ゲート分配極(ゲート分配部+A)代理人 弁
理士 則 近 憲 佑 同  松山光速 第 図 第 図

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ヒートシンクを兼ねたアノード電極と同じくヒー
    トシンクを兼ねたカソード電極とで半導体スイッチング
    要素を構成するチップを挟むとともに上記両電極間から
    ゲートリード線を取出してなる電力用半導体スイッチ装
    置において、前記半導体スイッチング要素は、それぞれ
    独立した半導体スイッチング素子チップを定格電流条件
    を満す数だけ前記両電極間に並列に配置してなる半導体
    スイッチング素子チップ群で構成されこれら半導体スイ
    ッチング素子チップの各々とゲートリード線との接続を
    行なうためのゲート分配部材を設けたことを特徴とする
    電力用半導体スイッチ装置。
  2. (2)前記ゲート分配部材と前記アノード電極及びカソ
    ード電極との間に電気絶縁機能と良熱伝導機能とを備え
    た手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載
    の電力用半導体スイッチ装置。
  3. (3)前記ゲート分配部材と前記ゲートリード線との接
    続箇所から前記各々の半導体スイッチング素子チップま
    での接続距離をほぼ等しく構成したことを特徴とする請
    求項1記載の電力用半導体スイッチ装置。
  4. (4)前記各半導体スイッチング素子チップの回りには
    、上記チップに発生する熱応力を緩和させね機能と上記
    チップの外面全体から前記両電極に熱を伝達させる機能
    とを備えた手段が設けられていることを特徴とする請求
    項1に記載の電力用半導体スイッチ装置。
  5. (5)前記半導体スイッチング素子チップは、同一円に
    沿って配列されており、前記ゲート分配部材は円板状に
    形成されており、このゲート分配部材の大きさを前記各
    半導体スイッチング素子チップ近傍まで延ばしたことを
    特徴とする請求項1記載の電力用半導体スイッチ装置。
  6. (6)前記ゲートリード線は前記円板状に形成されたゲ
    ート分配部材のほぼ中央で接続されていることを特徴と
    する請求項5記載の電力用半導体スイッチ装置。
  7. (7)前記半導体スイッチング素子チップはシリコンで
    構成され、前記手段は窒化アルミニウム層、粉末の窒化
    アルミニウム層、表面が酸化シリコン層で覆われたシリ
    コン層の中から選ばれた1種を含んで構成されているこ
    とを特徴とする請求項4に記載の電力用半導体スイッチ
    装置。
JP24381388A 1988-03-31 1988-09-30 電力用半導体スイッチ装置 Pending JPH0294448A (ja)

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JP24381388A JPH0294448A (ja) 1988-09-30 1988-09-30 電力用半導体スイッチ装置
DE19893910470 DE3910470C2 (de) 1988-03-31 1989-03-31 Leistungshalbleiter-Schaltervorrichtung mit in den beteiligten Chips verringerter Wärmebelastung, insb. Wärmespannung
US07/331,288 US5006921A (en) 1988-03-31 1989-03-31 Power semiconductor switching apparatus with heat sinks

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JP24381388A JPH0294448A (ja) 1988-09-30 1988-09-30 電力用半導体スイッチ装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008543170A (ja) * 2005-05-23 2008-11-27 パーフェクト スイッチ,エルエルシー 高電流電気スイッチおよび方法
US11251163B2 (en) 2019-12-18 2022-02-15 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device having circuit board interposed between two conductor layers
US11658231B2 (en) 2019-12-17 2023-05-23 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008543170A (ja) * 2005-05-23 2008-11-27 パーフェクト スイッチ,エルエルシー 高電流電気スイッチおよび方法
US11658231B2 (en) 2019-12-17 2023-05-23 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device
US11251163B2 (en) 2019-12-18 2022-02-15 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device having circuit board interposed between two conductor layers

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