JPH029406A - 不純物除去フイルター - Google Patents
不純物除去フイルターInfo
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- JPH029406A JPH029406A JP63161844A JP16184488A JPH029406A JP H029406 A JPH029406 A JP H029406A JP 63161844 A JP63161844 A JP 63161844A JP 16184488 A JP16184488 A JP 16184488A JP H029406 A JPH029406 A JP H029406A
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Landscapes
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- Filtering Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体装置の製造が行なわれるクリーンル
ームや、半導体装置の製造に用いる材料等に使用される
不純物除去フィルターに関するものである。
ームや、半導体装置の製造に用いる材料等に使用される
不純物除去フィルターに関するものである。
第５図は、例えば従来のガス供給系の構成を示す図であ
り、図において、（１）は窒素等のガスの供給源である
ボンベ、（２）はボンベ（１）から供給される窒素ガス
を使用する、例えば拡散炉等の装置、（３）はボンベ（
１）と装置（２）の闇に設置され、窒素ガス中の水分や
炭素等を吸着する、例えばモレキュラクーグ（主成分で
ある硅酸にカルシクムやナトリクム等を混合させたもの
）のような吸着部、（４）は吸着部（３）で除去されな
かった輩素ガス中の固体状の異物を除去し、清浄な窒素
ガスを装置（２）に送るフィルタ一部である。
り、図において、（１）は窒素等のガスの供給源である
ボンベ、（２）はボンベ（１）から供給される窒素ガス
を使用する、例えば拡散炉等の装置、（３）はボンベ（
１）と装置（２）の闇に設置され、窒素ガス中の水分や
炭素等を吸着する、例えばモレキュラクーグ（主成分で
ある硅酸にカルシクムやナトリクム等を混合させたもの
）のような吸着部、（４）は吸着部（３）で除去されな
かった輩素ガス中の固体状の異物を除去し、清浄な窒素
ガスを装置（２）に送るフィルタ一部である。
また、第６図は第５図に示すもののフィルター部（４）
の概略構造を示す断面図であり、（５）はフィルタ一部
（４）の外装であるフィルターホルダー、（６）はフィ
ルターホルダー（５）のほぼ中央にガスの流れ叫と垂直
に装着された、例えばテフロン製の異物除去フィルター
である。
の概略構造を示す断面図であり、（５）はフィルタ一部
（４）の外装であるフィルターホルダー、（６）はフィ
ルターホルダー（５）のほぼ中央にガスの流れ叫と垂直
に装着された、例えばテフロン製の異物除去フィルター
である。
なお、 （ｌｏａ）がガスの入口側、 （ｌｏｂ）がガ
スの出口側である。
スの出口側である。
次に動作について説明する。第６図に示す構成図におい
て、加圧もしくは吸引によりボンベ（１）中の窒素ガス
を吸着部（３）に送る。吸着部（３）ではｌ素ガス中の
不純物となる、例えば水分や炭素が吸着されて純度の高
い窒素ガスがフィルタ一部（４）に送られる。フィルタ
一部（４）ではフィルターホルダー（５）に入った窒素
ガスが異物除去フィルター（６）を通過する際、この場
合０．０１μｍ程度以上の固体状異物が除去され、より
純度の高い、清浄な窒素ガスが、例えば拡散炉である装
置（２）Ｋ供給される。
て、加圧もしくは吸引によりボンベ（１）中の窒素ガス
を吸着部（３）に送る。吸着部（３）ではｌ素ガス中の
不純物となる、例えば水分や炭素が吸着されて純度の高
い窒素ガスがフィルタ一部（４）に送られる。フィルタ
一部（４）ではフィルターホルダー（５）に入った窒素
ガスが異物除去フィルター（６）を通過する際、この場
合０．０１μｍ程度以上の固体状異物が除去され、より
純度の高い、清浄な窒素ガスが、例えば拡散炉である装
置（２）Ｋ供給される。
以上のように、従来、フィルタ一部（４）と吸着部（３
）とが別個に構成されるものであり、異物除去フィルタ
ー（６）では、固体状の異物しか除去できない。
）とが別個に構成されるものであり、異物除去フィルタ
ー（６）では、固体状の異物しか除去できない。
また、気体状の不純物を除去するには、前段に吸着部（
３）を加えなければならず、それらが構成された状態で
は、広いスペースを必要とするという問題点があり之。
３）を加えなければならず、それらが構成された状態で
は、広いスペースを必要とするという問題点があり之。
この発明は上記のような問題点を解消する丸めになされ
たもので、固体状や気体状、液体状の不純物を容易に除
去することができるとともに、小型化が図られる不純物
除去フィルターを得ることを目的とする。
たもので、固体状や気体状、液体状の不純物を容易に除
去することができるとともに、小型化が図られる不純物
除去フィルターを得ることを目的とする。
この発明に係る不純物除去フィルターは、−表面部ま九
は内部に虐化剤・還元剤・吸着剤のいずれか、あるいは
、それら複数よりなる反応剤を具備するように構成され
たものである。
は内部に虐化剤・還元剤・吸着剤のいずれか、あるいは
、それら複数よりなる反応剤を具備するように構成され
たものである。
この発明における不純物除去フィルターは、小面積に酸
化剤・還元剤・吸着剤を含み、それら機能が付加されて
おシ、気体中・液体中の固体状の塵埃や気体状及び液体
状の不純物が同時に除去される機能を有する。
化剤・還元剤・吸着剤を含み、それら機能が付加されて
おシ、気体中・液体中の固体状の塵埃や気体状及び液体
状の不純物が同時に除去される機能を有する。
以下、この発明の−＊施例を図について説明する。第１
図はこの発明の一実施例のガス供給系の構成を示す因、
第２図は第１図に示すもののフィルタ一部の概略構造を
示す断面図である。図において、（１） ＃ （２）
、 （４） 、 （５）及び（６）は従来と同じもので
あ！Ｉ）、（７）Ｆｉ異物除去フィルター（６）の、ガ
スが供給される側に接着された反応剤層の、例えばモレ
キュラシープのような吸着剤層、（８）は異物除去フィ
ルター（６）とａ着剤Ｍ（７）とからなる吸着剤付きの
構造を有する第１のフィルターである。
図はこの発明の一実施例のガス供給系の構成を示す因、
第２図は第１図に示すもののフィルタ一部の概略構造を
示す断面図である。図において、（１） ＃ （２）
、 （４） 、 （５）及び（６）は従来と同じもので
あ！Ｉ）、（７）Ｆｉ異物除去フィルター（６）の、ガ
スが供給される側に接着された反応剤層の、例えばモレ
キュラシープのような吸着剤層、（８）は異物除去フィ
ルター（６）とａ着剤Ｍ（７）とからなる吸着剤付きの
構造を有する第１のフィルターである。
次に、前作について第１図および第２図を用いて説明す
る。７９１図く示す構成図において、加圧もしくは吸引
によ夕、ボンベ（１）がら１１例えば２素ガスをフィル
タ一部（４）に送る。フィルタ一部（４）ではフィルタ
ーホルダー（５）に送られた窒素ガス中の例えば塵埃や
水分、炭素のような固体状・気体状の不純物が、第１の
フィルター（８７ｆｔ通過することによシその部分に吸
着されて除去される。それによシ、純度の高い、清浄な
窒素ガスが装置（幻に送られる。このような高純度で、
清浄なガスを用いて半導体装置の製造が行われることに
なる。
る。７９１図く示す構成図において、加圧もしくは吸引
によ夕、ボンベ（１）がら１１例えば２素ガスをフィル
タ一部（４）に送る。フィルタ一部（４）ではフィルタ
ーホルダー（５）に送られた窒素ガス中の例えば塵埃や
水分、炭素のような固体状・気体状の不純物が、第１の
フィルター（８７ｆｔ通過することによシその部分に吸
着されて除去される。それによシ、純度の高い、清浄な
窒素ガスが装置（幻に送られる。このような高純度で、
清浄なガスを用いて半導体装置の製造が行われることに
なる。
また、第３図はこの発明の他の実施例のフィルタ一部の
構造を示す断面図である。上記Ｎ２図のものでは、フィ
ルターホルダー（５）の中央に異物除去フィルター（６
）と吸着剤層（７）との二層から成る吸着剤付きの構造
を有する第１のフィルター（８）を設けたものを示した
が、フィルターホルダー（５）の中央に吸着剤を含有し
九構造を有す第２のフィルター（９）を設けたものであ
る。この場合にも、上記と同様の処理が行われるもので
ある。
構造を示す断面図である。上記Ｎ２図のものでは、フィ
ルターホルダー（５）の中央に異物除去フィルター（６
）と吸着剤層（７）との二層から成る吸着剤付きの構造
を有する第１のフィルター（８）を設けたものを示した
が、フィルターホルダー（５）の中央に吸着剤を含有し
九構造を有す第２のフィルター（９）を設けたものであ
る。この場合にも、上記と同様の処理が行われるもので
ある。
ところで、４８ｇ４図はクリーンルームの概略断面構造
を示す図であ夛、ｊＩｓ図に示す第２のフィルター（９
）を空調用フィルターとして用い九個を示すものである
。この場合、クリーンルームの清浄空ｒｆｆｌ（６）は
７アン＠によって空気が循環されることＫよって得られ
るが、その空間αυ内で装置（２）等を使用することに
よって生じた塵埃や臭気等もファン（２）によプともに
循環される。その際、クリーンルームの清浄空間＠の天
井に取シ付けられ丸１例えば活性炭のような吸着剤、あ
るいは酸化剤や還元剤の機能を単独に、あるいは複数着
ね備え良禽２のフィルター（９）により、上記塵埃や臭
気等の固体状・気体状・液体状の不純物が中和されたシ
、吸着されることによって除去される。上記第２のフィ
ルター（２）を通過することによシ、清浄な空気のみが
クリーンルームの清浄空間（６）に供給される。
を示す図であ夛、ｊＩｓ図に示す第２のフィルター（９
）を空調用フィルターとして用い九個を示すものである
。この場合、クリーンルームの清浄空ｒｆｆｌ（６）は
７アン＠によって空気が循環されることＫよって得られ
るが、その空間αυ内で装置（２）等を使用することに
よって生じた塵埃や臭気等もファン（２）によプともに
循環される。その際、クリーンルームの清浄空間＠の天
井に取シ付けられ丸１例えば活性炭のような吸着剤、あ
るいは酸化剤や還元剤の機能を単独に、あるいは複数着
ね備え良禽２のフィルター（９）により、上記塵埃や臭
気等の固体状・気体状・液体状の不純物が中和されたシ
、吸着されることによって除去される。上記第２のフィ
ルター（２）を通過することによシ、清浄な空気のみが
クリーンルームの清浄空間（６）に供給される。
なお、上紀笑施例では、第１のフィルター（８）および
第２のフィルター（９）が気体中の固形異物やミスト等
を除去する場合について説明したが、これに限定されず
、例えば、純水や薬品の液体中に含まれる固形異物や不
要なイオン等を除去するフイルターとして適用される場
合であってもよく、上記実施例と同様の効果を奏する。
第２のフィルター（９）が気体中の固形異物やミスト等
を除去する場合について説明したが、これに限定されず
、例えば、純水や薬品の液体中に含まれる固形異物や不
要なイオン等を除去するフイルターとして適用される場
合であってもよく、上記実施例と同様の効果を奏する。
以上のように、この発明によれば、フィルターの表面部
または内部に酸化剤・還元剤・吸着剤のような反応剤を
具備する構成となされたので、気体や液体中の固体状・
気体状・液体状の不純物が同時に除去可能となって高性
能化が図られるとともに、小型化が図られる効果がある
。
または内部に酸化剤・還元剤・吸着剤のような反応剤を
具備する構成となされたので、気体や液体中の固体状・
気体状・液体状の不純物が同時に除去可能となって高性
能化が図られるとともに、小型化が図られる効果がある
。
第１図はこの発明の一実施例によるガス供給系の構成を
示す図、第２図は第１因に示すもののフィルタ一部の概
略構造を示す断面図、第３図は第１図に示すものの他の
実施例のフィルタ一部の概略構造を示す断面図、第４図
は第３図に示す構造のフィルターをクリーンルームに適
用した例を示す概略断面図、第５図は従来のガス供給系
の構成を示す図、ｆｊｇ６図は第５図に示すもののフィ
ルタ一部の概略構造を示す断面図である。 図において、（６）は異物除去フィルター、（７）は吸
着剤層、（３）は第１のフィルター、 ルターである。 なお、図中、同一符号は同一、 示す。
示す図、第２図は第１因に示すもののフィルタ一部の概
略構造を示す断面図、第３図は第１図に示すものの他の
実施例のフィルタ一部の概略構造を示す断面図、第４図
は第３図に示す構造のフィルターをクリーンルームに適
用した例を示す概略断面図、第５図は従来のガス供給系
の構成を示す図、ｆｊｇ６図は第５図に示すもののフィ
ルタ一部の概略構造を示す断面図である。 図において、（６）は異物除去フィルター、（７）は吸
着剤層、（３）は第１のフィルター、 ルターである。 なお、図中、同一符号は同一、 示す。
Claims (1)
- 一表面部または内部に酸化剤・還元剤・吸着剤のいずれ
か、あるいは、それら複数よりなる反応剤を具備するよ
うに構成されているものであることを特徴とする不純物
除去フィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63161844A JPH029406A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 不純物除去フイルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63161844A JPH029406A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 不純物除去フイルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH029406A true JPH029406A (ja) | 1990-01-12 |
Family
ID=15743018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63161844A Pending JPH029406A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 不純物除去フイルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH029406A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0897738A1 (en) * | 1997-01-31 | 1999-02-24 | Takasago Thermal Engineering Co. Ltd. | Cleaning apparatus, filter and method of manufacturing the same |
| WO1999061134A1 (fr) * | 1998-05-26 | 1999-12-02 | Takasago Thermal Engineering Co., Ltd. | Filtre d'epuration de l'air, procede de preparation associe, et dispositif a haut niveau d'epuration |
-
1988
- 1988-06-28 JP JP63161844A patent/JPH029406A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0897738A1 (en) * | 1997-01-31 | 1999-02-24 | Takasago Thermal Engineering Co. Ltd. | Cleaning apparatus, filter and method of manufacturing the same |
| EP0897738A4 (en) * | 1997-01-31 | 2001-02-28 | Takasago Thermal | CLEANING DEVICE, FILTER AND METHOD FOR THEIR PRODUCTION |
| WO1999061134A1 (fr) * | 1998-05-26 | 1999-12-02 | Takasago Thermal Engineering Co., Ltd. | Filtre d'epuration de l'air, procede de preparation associe, et dispositif a haut niveau d'epuration |
| US6352578B1 (en) * | 1998-05-26 | 2002-03-05 | Takasago Thermal Engineering Co., Ltd. | Air cleaning filter, process for preparing the same, and high-level cleaner |
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