JPH0293538A - マスクカセット - Google Patents
マスクカセットInfo
- Publication number
- JPH0293538A JPH0293538A JP63246262A JP24626288A JPH0293538A JP H0293538 A JPH0293538 A JP H0293538A JP 63246262 A JP63246262 A JP 63246262A JP 24626288 A JP24626288 A JP 24626288A JP H0293538 A JPH0293538 A JP H0293538A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- masks
- holder
- cassette
- frame
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- Pending
Links
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 7
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、高集積半導体回路素子の製造等のための露光
用マスクを収納する容器に関する。
用マスクを収納する容器に関する。
[従来の技術]
従来、マスク(レチクルを含む)を収納する容器として
は、例えばマスクを保管する専用ケースであって必要な
時は簡易的に密閉された状態から取り出すものが考えら
れている。また、この専用ケース中でマスクが摺動する
のを防ぐために、マスクの外周を圧縮バネの力で押圧す
る方式が考えられている。
は、例えばマスクを保管する専用ケースであって必要な
時は簡易的に密閉された状態から取り出すものが考えら
れている。また、この専用ケース中でマスクが摺動する
のを防ぐために、マスクの外周を圧縮バネの力で押圧す
る方式が考えられている。
その他に、マスクを垂直にたてた状態で保管する収納容
器(マスクカセット)として、第4図に示すようなもの
が提案されている。
器(マスクカセット)として、第4図に示すようなもの
が提案されている。
同図において、CMはカセット本体、MSはマスクが載
置されるステージ、XMは収納されているマスク、CC
はカセットカバー CRはカセット本体CMとカセット
カバーCCとを結合し解除する機構、St、S2は耐外
圧仕様にするためのシール材、Cvはバルブである。
置されるステージ、XMは収納されているマスク、CC
はカセットカバー CRはカセット本体CMとカセット
カバーCCとを結合し解除する機構、St、S2は耐外
圧仕様にするためのシール材、Cvはバルブである。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上述したマスクの専用ケースはマスク1
枚を収納するものであり、複数枚のマスクを垂直にたて
た状態で保管するものではない。
枚を収納するものであり、複数枚のマスクを垂直にたて
た状態で保管するものではない。
また、第4図に示すマスクカセットは取出し収納の際に
カセット本体CMとカセットカバーccとを−々離す必
要があり、取出し収納が簡単とはいいがたい。
カセット本体CMとカセットカバーccとを−々離す必
要があり、取出し収納が簡単とはいいがたい。
本発明は、上述の従来形における問題点に鑑み、以下に
示す条件をすべて満足するようなマスクカセットを提供
することを目的とする。
示す条件をすべて満足するようなマスクカセットを提供
することを目的とする。
(1)マスクカセット内に複数枚のマスクを保管するこ
とができ、マスクの取出し収納が簡単であること。
とができ、マスクの取出し収納が簡単であること。
(2)マスクカセット内で、マスクは所定位置に高精度
に位置決めされていること。
に位置決めされていること。
(3)マスクを垂直にたてた状態で保管するマスクカセ
ットにおいて、マスクの落下防止対策が施されているこ
と。
ットにおいて、マスクの落下防止対策が施されているこ
と。
[課題を解決するための手段および作用]上記の目的を
達成するため、本発明に係るマスクカセットは、マスク
を垂直に載置するマスクホルダにマスクを石n気的に吸
着保持するチャック手段を設け、またマスクをマスクカ
セットに挿入する際にマスクの外縁に突当たってマスク
を所定位置に設置する位置決め手段と、マスクの外縁を
把持する手段とを設けることとしている。
達成するため、本発明に係るマスクカセットは、マスク
を垂直に載置するマスクホルダにマスクを石n気的に吸
着保持するチャック手段を設け、またマスクをマスクカ
セットに挿入する際にマスクの外縁に突当たってマスク
を所定位置に設置する位置決め手段と、マスクの外縁を
把持する手段とを設けることとしている。
これにより、マスクをマスクカセットに挿入する際には
、位置決め手段により所定位置に位置決めすることがで
き、その後はチャック手段および把持手段により磁気的
および機械的にマスクを吸着保持ならびに把持できる。
、位置決め手段により所定位置に位置決めすることがで
き、その後はチャック手段および把持手段により磁気的
および機械的にマスクを吸着保持ならびに把持できる。
また、簡易な構成であるので、複数枚のマスクを収納で
きるようなマスクカセットを構成するのも容易である。
きるようなマスクカセットを構成するのも容易である。
[実施例]
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第1図は、本発明の一実施例に係るマスクカセットの構
成を示す。説明のため、1つのマスクホルダに係る部分
のみ図示し、不要な部分は省略した。第2図は、第1図
のマスクホルダ部分をA方向から見た側面および一部断
面区である。また、第3図は、第1図のマスクホルダ部
分をB方向から見た正面図であり、マスクフレームの交
換状態を示す図である。
成を示す。説明のため、1つのマスクホルダに係る部分
のみ図示し、不要な部分は省略した。第2図は、第1図
のマスクホルダ部分をA方向から見た側面および一部断
面区である。また、第3図は、第1図のマスクホルダ部
分をB方向から見た正面図であり、マスクフレームの交
換状態を示す図である。
これらの図において、1は多数枚のマスクを収納するマ
スクカセット、2はマスクのマスクフレーム5を鉛直に
吸着保持するチャック手段を備えたマスクホルダ、3は
突当て方式によりマスクフレーム5をマスクカセット1
の中の所定の位置に位置決めするためのVブロック、4
は■ブロック3にマスクフレーム5を押しつける可動片
である。可動片4は収納したマスクフレーム5の落下防
止の機能をも果す。
スクカセット、2はマスクのマスクフレーム5を鉛直に
吸着保持するチャック手段を備えたマスクホルダ、3は
突当て方式によりマスクフレーム5をマスクカセット1
の中の所定の位置に位置決めするためのVブロック、4
は■ブロック3にマスクフレーム5を押しつける可動片
である。可動片4は収納したマスクフレーム5の落下防
止の機能をも果す。
第2図を参照して、マスクホルダ2の詳細を説明する。
同図において、6はマスクフレーム5が非磁性体の場合
にマスクフレーム5に埋め込まれる磁性体、7は可動片
4を回転させるためのロータリーソレノイド、8はマス
クフレーム5を吸着保持するためにマスクホルダ2に固
定された永久磁石、9は永久磁石8の磁束に対して逆の
磁束を発生させるためのソレノイドコイル、10はソレ
ノイドコイル9へ励bn電流を流すためのリード線であ
る。
にマスクフレーム5に埋め込まれる磁性体、7は可動片
4を回転させるためのロータリーソレノイド、8はマス
クフレーム5を吸着保持するためにマスクホルダ2に固
定された永久磁石、9は永久磁石8の磁束に対して逆の
磁束を発生させるためのソレノイドコイル、10はソレ
ノイドコイル9へ励bn電流を流すためのリード線であ
る。
上記構成において、マスクフレーム5をマスクホルダ2
に近づけると永久6i1石8の磁束はマスクフレーム5
を介して磁路を形成し、これによりマスクはマスクホル
ダ2に吸着保持される。なお、マスクフレーム5が磁性
体で構成されていない場合は、マスクフレーム5に埋め
込まれた磁性体6により磁路が形成され、これによりマ
スクがマスクホルダ2に吸着保持される。マスクがマス
クホルダ2に吸着保持される際には、マスクフレーム5
がVブロック3に突き当たりながら位置決めされるので
、マスクは高精度に吸着保持されることとなる。
に近づけると永久6i1石8の磁束はマスクフレーム5
を介して磁路を形成し、これによりマスクはマスクホル
ダ2に吸着保持される。なお、マスクフレーム5が磁性
体で構成されていない場合は、マスクフレーム5に埋め
込まれた磁性体6により磁路が形成され、これによりマ
スクがマスクホルダ2に吸着保持される。マスクがマス
クホルダ2に吸着保持される際には、マスクフレーム5
がVブロック3に突き当たりながら位置決めされるので
、マスクは高精度に吸着保持されることとなる。
マスクホルダ2からマスクを外すときは、リード線10
を介してソレノイドコイル9を励磁し、永久磁石8の磁
束を瞬間的に打ち消せばよい。これにより、マスクフレ
ーム5は永久磁石8による吸着保持から開放される。
を介してソレノイドコイル9を励磁し、永久磁石8の磁
束を瞬間的に打ち消せばよい。これにより、マスクフレ
ーム5は永久磁石8による吸着保持から開放される。
なお、このマスクフレーム5は磁気的手段により垂直に
吸着保持されているが、ロータリソレノイド7によって
可動片4を駆動しマスクフレーム5の外縁を押圧するこ
とにより、落下防止およびVブロック3への確実な突当
てが実現される。
吸着保持されているが、ロータリソレノイド7によって
可動片4を駆動しマスクフレーム5の外縁を押圧するこ
とにより、落下防止およびVブロック3への確実な突当
てが実現される。
第3図は、上記構成のマスクカセット1中のマスクホル
ダ2に対しマスクを取出しまたは収納する際の状態を示
している。同図において、11はマスクを搬送するマス
クハンドである。
ダ2に対しマスクを取出しまたは収納する際の状態を示
している。同図において、11はマスクを搬送するマス
クハンドである。
まず、マスクフレーム5をマスクフレーム2に取付ける
シーケンスを説明する。まず、マスクハンド11により
ハンドリングされるマスクフレーム5がマスクホルダ2
に載置される前に、永久磁石8の磁束をソレノイドコイ
ル9でキャンセルして吸着力をなくしておく。さらに、
可動片4を第3図の破線で示す位置から実線で示す位置
へと移動しておく。これにより、マスクフレーム5がマ
スクホルダ2へ衝撃を伴つて吸着されるのを防ぐことが
できる。また、マスクホルダ2へのマスクハンド11の
進入は妨げられることがなくなる。
シーケンスを説明する。まず、マスクハンド11により
ハンドリングされるマスクフレーム5がマスクホルダ2
に載置される前に、永久磁石8の磁束をソレノイドコイ
ル9でキャンセルして吸着力をなくしておく。さらに、
可動片4を第3図の破線で示す位置から実線で示す位置
へと移動しておく。これにより、マスクフレーム5がマ
スクホルダ2へ衝撃を伴つて吸着されるのを防ぐことが
できる。また、マスクホルダ2へのマスクハンド11の
進入は妨げられることがなくなる。
次に、マスクフレーム5とマスクホルダ2とのギャップ
がほぼゼロとなった所で、ソレノイドコイル9への通電
を止めて永久磁石8によりマスクフレーム5の吸着保持
を行なう。そして、マスクハンド11をマスクホルダ2
上から退避する。その後、可動片4をロータリーソレノ
イド7により駆動し、マスクフレーム5の外縁を押して
マスクを確実に固定する。以上でマスクの収納が完了し
た。
がほぼゼロとなった所で、ソレノイドコイル9への通電
を止めて永久磁石8によりマスクフレーム5の吸着保持
を行なう。そして、マスクハンド11をマスクホルダ2
上から退避する。その後、可動片4をロータリーソレノ
イド7により駆動し、マスクフレーム5の外縁を押して
マスクを確実に固定する。以上でマスクの収納が完了し
た。
また、マスクをマスクホルダ2から取外すシーケンスは
、上記したシーケンスを逆にすればよい。すなわち、ま
ず可動片4を駆動して実線で示す位置で待機させ、マス
クハンド11でマスクフレーム5を把持する。その後、
ソレノイドコイル9を励磁して永久磁石8の吸着力を打
ち消し、マスクを把持したままマスクハンド11を引き
出す。このハンドリング終了後、ソレノイドコイル9へ
の通電をやめる。
、上記したシーケンスを逆にすればよい。すなわち、ま
ず可動片4を駆動して実線で示す位置で待機させ、マス
クハンド11でマスクフレーム5を把持する。その後、
ソレノイドコイル9を励磁して永久磁石8の吸着力を打
ち消し、マスクを把持したままマスクハンド11を引き
出す。このハンドリング終了後、ソレノイドコイル9へ
の通電をやめる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、マスクカセット
内のマスクホルダにマグネットチャック、位置決めVブ
ロックおよび押え金を備えているので、以下のような効
果がある。
内のマスクホルダにマグネットチャック、位置決めVブ
ロックおよび押え金を備えているので、以下のような効
果がある。
(1)マスクの取出し収納が簡単であり、マスクを高精
度に位置決め保持することができる。
度に位置決め保持することができる。
(2)マスクが垂直の状態であっても確実な保持が可能
である。
である。
(3)保持手段に永久磁石を使っているため、エネルギ
ーを供給する必要がない。また、停電時においてもマス
クが落下する危険がない。
ーを供給する必要がない。また、停電時においてもマス
クが落下する危険がない。
(4)構成が簡単であり、複数枚のマスクを収納するよ
う構成することも容易である。
う構成することも容易である。
第1図は、本発明の一実施例に係るマスクカセットの構
成図、 第2図は、第1図のマスクホルダ部分をA方向から見た
側面および一部断面図、 第3図は、第1図のマスクホルダ部分をB方向から見た
正面図、 第4図は、従来のマスクカセットを示す斜視図である。 :可動片、 :マスクフレーム、 6n性体、 二ロータリーソレノイド、 :永久磁石、 :ソレノイドコイル、 0:リード線、 1:マスクハンド。
成図、 第2図は、第1図のマスクホルダ部分をA方向から見た
側面および一部断面図、 第3図は、第1図のマスクホルダ部分をB方向から見た
正面図、 第4図は、従来のマスクカセットを示す斜視図である。 :可動片、 :マスクフレーム、 6n性体、 二ロータリーソレノイド、 :永久磁石、 :ソレノイドコイル、 0:リード線、 1:マスクハンド。
Claims (1)
- (1)少なくとも1枚の露光用マスクを収納するマスク
カセットであって、 該マスクを垂直に載置するマスクホルダと、該マスクホ
ルダに設けられた、マスクを磁気的に吸着保持するチャ
ック手段と、 マスクの外縁に対する突当て方式により、マスクを所定
位置に設置する位置決め手段と、 マスクの外縁を把持する手段とを 具備することを特徴とするマスクカセット。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63246262A JPH0293538A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | マスクカセット |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63246262A JPH0293538A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | マスクカセット |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0293538A true JPH0293538A (ja) | 1990-04-04 |
Family
ID=17145907
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63246262A Pending JPH0293538A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | マスクカセット |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0293538A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109385601A (zh) * | 2017-08-09 | 2019-02-26 | 株式会社饭沼Gauge制作所 | 掩膜装置以及掩膜制造方法 |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP63246262A patent/JPH0293538A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109385601A (zh) * | 2017-08-09 | 2019-02-26 | 株式会社饭沼Gauge制作所 | 掩膜装置以及掩膜制造方法 |
CN112030103A (zh) * | 2017-08-09 | 2020-12-04 | 株式会社饭沼Gauge制作所 | 掩膜装置以及掩膜制造方法 |
CN109385601B (zh) * | 2017-08-09 | 2021-07-09 | 株式会社饭沼Gauge制作所 | 掩膜制造装置以及掩膜制造方法 |
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