JPH0291555A - 酸素センサの安定化処理方法及び処理雰囲気制御システム - Google Patents
酸素センサの安定化処理方法及び処理雰囲気制御システムInfo
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- JPH0291555A JPH0291555A JP63244859A JP24485988A JPH0291555A JP H0291555 A JPH0291555 A JP H0291555A JP 63244859 A JP63244859 A JP 63244859A JP 24485988 A JP24485988 A JP 24485988A JP H0291555 A JPH0291555 A JP H0291555A
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- Measuring Oxygen Concentration In Cells (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、製造された酸素センサを所定の雰囲気に晒し
て実装時における該酸素センサの初期特性を安定させる
酸素センサの安定化処理方法に関する。
て実装時における該酸素センサの初期特性を安定させる
酸素センサの安定化処理方法に関する。
[従来技術及び課題]
従来より2例えば内燃機関の制御を行うために排ガス中
の酸素濃度を検出すること等のガス中の酸素ガス検出が
広く行われている。このガス中の酸素ガス検出は、酸素
イオン伝導性固体電解質を用いた酸素センサや酸化物半
導体を用いた酸素センサによって行われる場合が多い。
の酸素濃度を検出すること等のガス中の酸素ガス検出が
広く行われている。このガス中の酸素ガス検出は、酸素
イオン伝導性固体電解質を用いた酸素センサや酸化物半
導体を用いた酸素センサによって行われる場合が多い。
これらの酸素センサは、酸素イオン伝導性固体電解質中
を酸素イオンが通過したり、酸化物半導体の格子中に酸
素が出入りするために1周囲雰囲気の酸素ガス分圧を起
電力や導電率等の電気的変化として出力する。
を酸素イオンが通過したり、酸化物半導体の格子中に酸
素が出入りするために1周囲雰囲気の酸素ガス分圧を起
電力や導電率等の電気的変化として出力する。
ところが、製造された直後のこれら酸素センサにあって
は、センサ素子としての固体電解質や酸化物半導体等の
酸素検出部表面の酸素の吸着状態等が、実際に使用され
るときの酸素検出部表面の状態とは異なる。その結果、
製造された直後の酸素センサを実装すると、使用初期に
おいて酸素検出特性が大きく変化する場合がある。その
ため。
は、センサ素子としての固体電解質や酸化物半導体等の
酸素検出部表面の酸素の吸着状態等が、実際に使用され
るときの酸素検出部表面の状態とは異なる。その結果、
製造された直後の酸素センサを実装すると、使用初期に
おいて酸素検出特性が大きく変化する場合がある。その
ため。
製造直後の酸素センサは、これを大気あるいは不活性ガ
ス等の高温雰囲気に晒し、初期特性安定化処理を行って
いる。
ス等の高温雰囲気に晒し、初期特性安定化処理を行って
いる。
しかし、このような安定化処理が施された酸素センサで
あっても、実装初期において検出特性が未だ大きく変動
する場合がある。
あっても、実装初期において検出特性が未だ大きく変動
する場合がある。
本発明の目的はかかる課題を解決すること、即ち実装初
期から安定な酸素検出特性を維持し。
期から安定な酸素検出特性を維持し。
もつて高精度の検出特性を当初から発揮し得る酸素セン
サを提供するための安定化処理方法を開発することにあ
る。併せて、かかる安定化処理方法を実施するための処
理雰囲気制御システムを開発することにある。
サを提供するための安定化処理方法を開発することにあ
る。併せて、かかる安定化処理方法を実施するための処
理雰囲気制御システムを開発することにある。
C:*題の解決手段]
本発明者等はかかる実情下、先に酸素センサの安定化処
理方法を提案した(特願昭62−182723)。
理方法を提案した(特願昭62−182723)。
本願は、より一層確実に上述の課題を解決すべく鋭意検
討の結果本発明を完成するに至ったものであり2本発明
は上述の課題を下記手段によって解決する。
討の結果本発明を完成するに至ったものであり2本発明
は上述の課題を下記手段によって解決する。
(1)酸素センサの初期特性を安定させる酸素センサの
処理方法であって。
処理方法であって。
センサの晒される雰囲気が、リーン・リッチの交互変換
雰囲気であって、平均空気過剰率(T)、空気過剰率の
変化幅(Δλ)及びリーン・リッチの変換周期(1)に
ついて次の条件:T −0,95〜1.05 Δλ=0.05〜0.5 t−0,5〜300 (S ) を満たすことを特徴とする酸素センサの安定化処理方法
。
雰囲気であって、平均空気過剰率(T)、空気過剰率の
変化幅(Δλ)及びリーン・リッチの変換周期(1)に
ついて次の条件:T −0,95〜1.05 Δλ=0.05〜0.5 t−0,5〜300 (S ) を満たすことを特徴とする酸素センサの安定化処理方法
。
(2)酸素センサ又は酸素センサ素子を配置し、その周
囲を所定の雰囲気に維持する処理空間。
囲を所定の雰囲気に維持する処理空間。
処理空間に雰囲気形成ガスを導入するガス導入手段。
処理空間の雰囲気を検知するセンサ、及びセンサからの
信号に応じてガス導入手段によるガスを調節し、処理空
間の雰囲気を制御する雰囲気制御手段。
信号に応じてガス導入手段によるガスを調節し、処理空
間の雰囲気を制御する雰囲気制御手段。
を備えていることを特徴とする処理雰囲気制御システム
。
。
上記条件を満たす雰囲気は内燃機関駆動初期の排ガスに
よる雰囲気に近似する。そのため、酸素センサ素子の検
出部表面における酸素等のガス吸着状態を、実装したと
同様な状態に変性できる。
よる雰囲気に近似する。そのため、酸素センサ素子の検
出部表面における酸素等のガス吸着状態を、実装したと
同様な状態に変性できる。
リーン・リッチの交互変換雰囲気であるので。
雰囲気ガスと検出部表面に吸着ガスとの交換を迅やく行
い得る。
い得る。
又、処理雰囲気制御システムによって、処理空間の実際
の雰囲気に応じて、処理空間を上記条件を満たす雰囲気
に自動的に制御できる。従って。
の雰囲気に応じて、処理空間を上記条件を満たす雰囲気
に自動的に制御できる。従って。
常に所期の雰囲気による安定化処理が可能となる。
[好適な実施態様]
本発明によ゛って処理可能な酸素センサとしては、ジル
コニア等の酸素イオン伝導性固体電解質を用いた酸素セ
ンサ、チタニア、 S n O2等の酸化物半導体を用
いた酸素センサ等がある。
コニア等の酸素イオン伝導性固体電解質を用いた酸素セ
ンサ、チタニア、 S n O2等の酸化物半導体を用
いた酸素センサ等がある。
リーン争リッチの交互変換雰囲気としては例えば第1.
2図に示すようなλ(空気過剰率)のSin曲線にする
とよい。例えばリーンガスとしてはλl、02〜1.3
0. リッチガスとしてはλ0.70〜0.98の範
囲内に設定するとよい。
2図に示すようなλ(空気過剰率)のSin曲線にする
とよい。例えばリーンガスとしてはλl、02〜1.3
0. リッチガスとしてはλ0.70〜0.98の範
囲内に設定するとよい。
このSin曲線はリーンとリッチとの正確な対称曲線で
あることが好ましい。但し、リーン側の保持時間とリッ
チ側のそれとを若干具ならせた非対称モードであっても
差支えない。例えば9両保持時間の比をに3〜3:1(
リーン・リッチ比)の範囲に設定し得る。又、リーンと
リッチとの切換速度についても、一定範囲に設定すると
よい。
あることが好ましい。但し、リーン側の保持時間とリッ
チ側のそれとを若干具ならせた非対称モードであっても
差支えない。例えば9両保持時間の比をに3〜3:1(
リーン・リッチ比)の範囲に設定し得る。又、リーンと
リッチとの切換速度についても、一定範囲に設定すると
よい。
例えば、0.9Δλの範囲から外れる高リーン領域又は
高リッチ領域の一の保持時間(第2図。
高リッチ領域の一の保持時間(第2図。
tm)を2次式:
%式%()
の範囲内にするとよい。
リーン又はリッチ雰囲気は、H,Co。
HC,O及びN2等の混合ガス、又は燃料(例えばプロ
パン、ブタン)と空気との燃焼ガスによって形成される
。特に、燃焼ガスによるものは、リッチ雰囲気とリーン
雰囲気との間の変更が容易であると共に、コスト上好ま
しい。
パン、ブタン)と空気との燃焼ガスによって形成される
。特に、燃焼ガスによるものは、リッチ雰囲気とリーン
雰囲気との間の変更が容易であると共に、コスト上好ま
しい。
又、この雰囲気に晒される酸素センサ素子の検出部表面
を高温(例えば700〜1300℃、好ましくは900
〜1200℃)に維持するとよい。効率的に安定化処理
を行うことができる。加熱は、上述した雰囲気を形成す
るための燃焼ガスの熱を利用したり、ヒータ付酸素セン
サであればそのヒータを利用して行い得る。ヒータ加熱
の場合、素子検出部以外はほとんど加熱されない。従っ
て、安定化処理時においてリード線やシール材等が劣化
しない。また、別途設けられたヒータないしは加熱炉を
利用してもよい。この場合、酸素センサを主体金具等に
組み付ける前の酸素センサ素子の段階で安定化処理を行
うことができ、又多数の酸素センサを一括処理できる。
を高温(例えば700〜1300℃、好ましくは900
〜1200℃)に維持するとよい。効率的に安定化処理
を行うことができる。加熱は、上述した雰囲気を形成す
るための燃焼ガスの熱を利用したり、ヒータ付酸素セン
サであればそのヒータを利用して行い得る。ヒータ加熱
の場合、素子検出部以外はほとんど加熱されない。従っ
て、安定化処理時においてリード線やシール材等が劣化
しない。また、別途設けられたヒータないしは加熱炉を
利用してもよい。この場合、酸素センサを主体金具等に
組み付ける前の酸素センサ素子の段階で安定化処理を行
うことができ、又多数の酸素センサを一括処理できる。
従って、より効率的な安定化処理が可能となる。
[実施例]
以下1本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第3図は本発明の処理雰囲気制御システムの一実施例を
示したものであり、このシステムは、大略、雰囲気形成
管1.ガス導入手段2.雰囲気制御手段3.及び加熱炉
4からなる。なお、Aが安定化処理すべき酸素センサ(
ここでは素子)である。
示したものであり、このシステムは、大略、雰囲気形成
管1.ガス導入手段2.雰囲気制御手段3.及び加熱炉
4からなる。なお、Aが安定化処理すべき酸素センサ(
ここでは素子)である。
雰囲気形成管1の所定位置に処理台5が配置され、処理
台5上に複数のセンサ素子A・・・が載置されている。
台5上に複数のセンサ素子A・・・が載置されている。
雰囲気形成管1の一端(第3図左側)にはバーナ6が取
付けられており、このバーナ6によってガス導入手段2
から供給される空気及び燃料が燃焼ガスとなる。そして
、この燃焼ガスが管1内に導入されて管1内において所
定のリッチ・リーン雰囲気を形成する。又、処理台5よ
りもバーナ6側にはハニカム状の整流管7が備えられて
おり、センサ素子Aがより均一な燃焼ガスに晒される。
付けられており、このバーナ6によってガス導入手段2
から供給される空気及び燃料が燃焼ガスとなる。そして
、この燃焼ガスが管1内に導入されて管1内において所
定のリッチ・リーン雰囲気を形成する。又、処理台5よ
りもバーナ6側にはハニカム状の整流管7が備えられて
おり、センサ素子Aがより均一な燃焼ガスに晒される。
なお、処理台5が下流側へ向って高く傾斜され、センサ
素子Aが燃焼ガスに十分に晒されるようになっている。
素子Aが燃焼ガスに十分に晒されるようになっている。
ガス導入手段2は、コンプレッサ(図示せず)からの空
気を供給する主、副空気供給管8,9゜及びガスボンベ
(図示せず)からの主、副燃料(プロパンガス)供給管
10.11を有し、各供給管8、 9.10.11がバ
ーナ6へ接続されている。
気を供給する主、副空気供給管8,9゜及びガスボンベ
(図示せず)からの主、副燃料(プロパンガス)供給管
10.11を有し、各供給管8、 9.10.11がバ
ーナ6へ接続されている。
又、各供給管8. 9.10.11には開度調整弁ga
、9a、lOa、llaが備えられると共に、更に副供
給管9.11には夫々開閉弁(電磁三方弁)9b、ll
bも備えられている。三方弁である゛ので、バーナ6ヘ
ガスを供給しないときは、停滞ガスを大気へ放出でき、
開となったときその負荷による特性変動を防止できる。
、9a、lOa、llaが備えられると共に、更に副供
給管9.11には夫々開閉弁(電磁三方弁)9b、ll
bも備えられている。三方弁である゛ので、バーナ6ヘ
ガスを供給しないときは、停滞ガスを大気へ放出でき、
開となったときその負荷による特性変動を防止できる。
なお、開閉弁9b。
11bはタイマ12に接続されており、所定時間毎に弁
9b、llbが交互に開閉されてリーン会リッチ変換す
ることになる。
9b、llbが交互に開閉されてリーン会リッチ変換す
ることになる。
雰囲気制御手段3は、コンピュータユニット(CPU)
1Bを有し、その−側(入力側)は雰囲気形成管1に取
付けられたA/Fセンサ14に接続され、その他側(出
力側)は前記各調整弁3a。
1Bを有し、その−側(入力側)は雰囲気形成管1に取
付けられたA/Fセンサ14に接続され、その他側(出
力側)は前記各調整弁3a。
9 a、 10a、 llaに接続されている。なお、
15はA/Fメータである。
15はA/Fメータである。
加熱炉4は、複数のヒータteと断熱材17とからなり
、雰囲気形成管1を介してセンサ素子Aを所定の温度ま
で加熱する。18は熱雷対であり、この熱電対1Bに接
続された温度調節器L9によってセンサ素子Aが700
〜1300℃に加熱制御される。尚。
、雰囲気形成管1を介してセンサ素子Aを所定の温度ま
で加熱する。18は熱雷対であり、この熱電対1Bに接
続された温度調節器L9によってセンサ素子Aが700
〜1300℃に加熱制御される。尚。
雰囲気形成管1と加熱炉4が一体となっているので、コ
ンパクト化に寄与している。
ンパクト化に寄与している。
こうした処理雰囲気制御システムについて。
λ、Δλ、t、tm等の雰囲気条件の設定及びその制御
は1例えば次のように行われる。
は1例えば次のように行われる。
(1)雰囲気条件の設定等
先ず、開閉弁9b、llbをともに閉としたときバーナ
6からの燃焼ガスがλ−1になるように各主供給管8.
lOのガス供給量を設定する。又、開閉弁9bを開とし
たときλが1.100±0.07の範囲のリーンガスと
なるように副空気供給管9の空気供給量を設定する一方
、開閉弁11bを開としたときλが0.90±0.07
の範囲内のりッチガスとなるように副燃料供給管11の
燃料供給量を設定する。
6からの燃焼ガスがλ−1になるように各主供給管8.
lOのガス供給量を設定する。又、開閉弁9bを開とし
たときλが1.100±0.07の範囲のリーンガスと
なるように副空気供給管9の空気供給量を設定する一方
、開閉弁11bを開としたときλが0.90±0.07
の範囲内のりッチガスとなるように副燃料供給管11の
燃料供給量を設定する。
次に、各供給管8〜11に空気又は燃料を供給し、バー
ナ6に点火する。そして、タイマ12により開閉弁9b
、llbを交互にオンオフ制御して。
ナ6に点火する。そして、タイマ12により開閉弁9b
、llbを交互にオンオフ制御して。
バーナ6からの燃焼ガスを10秒間に5〜20回の割合
でリーン9リツチ変換させる。
でリーン9リツチ変換させる。
又、加熱炉4による加熱温度は1000℃とする。
(2)雰囲気条件の制御
上記設定条件でリーン9リツチ変換されている形成管1
内の実際の雰囲気をA/Fセンサ14で監視すると共に
、A/Fメータ15で一定時間T(例えばT。−10秒
)の間λを測定し続ける。これらのλ値はCP[713
に入力され、その平均値Xを算出する。このTの目標値
λ。(例えば−1)からのズレに応じて、開度調整弁g
a、10aに出力し、その開度を調節する。それによっ
て、主供給管8,10のガス供給量を調節し、Tを目標
値λ。
内の実際の雰囲気をA/Fセンサ14で監視すると共に
、A/Fメータ15で一定時間T(例えばT。−10秒
)の間λを測定し続ける。これらのλ値はCP[713
に入力され、その平均値Xを算出する。このTの目標値
λ。(例えば−1)からのズレに応じて、開度調整弁g
a、10aに出力し、その開度を調節する。それによっ
て、主供給管8,10のガス供給量を調節し、Tを目標
値λ。
に補正する。この場°合9m整量は実測Tのl/100
以内に押え徐々に調整するとよい。ハンチングの発生を
抑制できる。尚、Tの制御手順をフローチャートとして
第4図に示す。
以内に押え徐々に調整するとよい。ハンチングの発生を
抑制できる。尚、Tの制御手順をフローチャートとして
第4図に示す。
更に、A/Fセンサ14に基づくλについての情報に応
じて、CPU13は開度調整弁9a、11aに出力し、
その開度を調節する。それによって、副供給管9.11
のガス供給量を調節し、Δλを補正する。又、タイマ1
2によってリーン・リッチ切換周期(t)、前記保持時
間(tm)を調整する。
じて、CPU13は開度調整弁9a、11aに出力し、
その開度を調節する。それによって、副供給管9.11
のガス供給量を調節し、Δλを補正する。又、タイマ1
2によってリーン・リッチ切換周期(t)、前記保持時
間(tm)を調整する。
こうして所定条件に設定、補正された雰囲気において、
センサ素子A・・・は、2時間安定化処理に供される。
センサ素子A・・・は、2時間安定化処理に供される。
尚2本例にあっては、センサ素子A・・・の存在位置と
A/Fセンサ14の取付位置とが異なるので。
A/Fセンサ14の取付位置とが異なるので。
両位置において雰囲気条件も若干具なる。よって、その
差を予め把握しておき、その差を考慮した補正信号をA
/FセンサI4からCPU13に出力するとよい。
差を予め把握しておき、その差を考慮した補正信号をA
/FセンサI4からCPU13に出力するとよい。
[試験例]
試験例1
第1図2第1表に示す雰囲気条件で安定化処理された特
開昭82−217152記載の酸素センサ素子を、同出
願記載の酸素センサに組立て、三元触媒システムを装着
した6気筒エンジンで自己フィードバック制御を行い、
その制御空燃比(A/F)を測定した。又、10時間耐
久後の制御空燃比(A/F)も測定し1両者の差(ΔA
/F)を調べた。その結果を第1表に示す。
開昭82−217152記載の酸素センサ素子を、同出
願記載の酸素センサに組立て、三元触媒システムを装着
した6気筒エンジンで自己フィードバック制御を行い、
その制御空燃比(A/F)を測定した。又、10時間耐
久後の制御空燃比(A/F)も測定し1両者の差(ΔA
/F)を調べた。その結果を第1表に示す。
(以下余白)
第 1
表
上記表から明らかなように、前記所期の条件で安定化処
理されたものは、ΔA / F O,08以下という優
れた自己フィードバック制御を示す。
理されたものは、ΔA / F O,08以下という優
れた自己フィードバック制御を示す。
試験例2
雰囲気条件を第2図、第2表に示すように設定して、上
記試験例1と同様に特性変動値(ΔA/F)を調べた。
記試験例1と同様に特性変動値(ΔA/F)を調べた。
その結果を第2表に示す。
第 2 表
各試料について、tm−〇
本請求項(1)の範囲外
上記表から明らかなように、同様に優れた自己フィード
バック制御を示す。
バック制御を示す。
[他の実施例]
(1)センサ14はA/Fセンサでなくてもよい。即ち
、λを直接検知するのではなく、雰囲気のガス成分2例
えばHC,CO,O□等を検知したり。
、λを直接検知するのではなく、雰囲気のガス成分2例
えばHC,CO,O□等を検知したり。
又その特定成分のみを検知してλとの相関を考慮して2
間接的に検知するものであってもよい。
間接的に検知するものであってもよい。
その取付数は複数としてもよい。例えば、検知すべき位
置に2個のセンサ14.14’を取付け、一のセンサ1
4によってλの最大値、他のセンサ14’によってλの
最小値を検知することにより、T及びΔλを補正する信
号を出力してもよい。
置に2個のセンサ14.14’を取付け、一のセンサ1
4によってλの最大値、他のセンサ14’によってλの
最小値を検知することにより、T及びΔλを補正する信
号を出力してもよい。
勿論、その取付位置はセンサ素子A・・・直近であ7て
もよい。
もよい。
(2)ガス導入手段3において、副燃料供給管11はこ
れを省略してもよい。この場合2例えば主供給管8.■
0のガス供給量をTが0.95になるように設定し、副
空気供給管9によって1.05まで調整し得るようにす
るとよい。
れを省略してもよい。この場合2例えば主供給管8.■
0のガス供給量をTが0.95になるように設定し、副
空気供給管9によって1.05まで調整し得るようにす
るとよい。
又、副供給管9.11は、これらをいずれも省略しても
よい。又、開閉弁9b、Ilbを省略して開度調整弁g
a、 9 a、 10a、 llaによってり一ン
ーリッチの切換をも行うようにしてもよい。但し、これ
らの態様にあっては、タイムラグを生じて所期の滑かな
λのSin曲線特性を得られない場合がある。
よい。又、開閉弁9b、Ilbを省略して開度調整弁g
a、 9 a、 10a、 llaによってり一ン
ーリッチの切換をも行うようにしてもよい。但し、これ
らの態様にあっては、タイムラグを生じて所期の滑かな
λのSin曲線特性を得られない場合がある。
(3)タイマ12は、これをCP U 1Hに接続し。
A/Fセンサ14からの信号に基づき連動制御してもよ
い。
い。
又、タイマ12はCP U 13に組込んでもよい。
(4)処理台5は適宜多段とし、又、傾斜状態を変更す
る等、安定化処理すべきセンサ(素子)A・・・が所期
の雰囲気に確実に晒される限り2いかなる態様でもよい
。
る等、安定化処理すべきセンサ(素子)A・・・が所期
の雰囲気に確実に晒される限り2いかなる態様でもよい
。
(5)試験例では、処理されるセンサ(素子)A・・・
とじて特開昭82−217152のチクニア系のものを
使用したが、他の種々の酸素センサに適用可能である。
とじて特開昭82−217152のチクニア系のものを
使用したが、他の種々の酸素センサに適用可能である。
(8)その他1本発明の要旨を変更しない限りにおいて
、更に種々の他の実施例を包含する。
、更に種々の他の実施例を包含する。
[発明の効果]
以上の如く本発明によれば、酸素センサ(素子)を、内
燃機関の排ガスの疑似雰囲気によって安定化でき、従っ
て空燃比制御の初期特性を極めC高水準に維持できる。
燃機関の排ガスの疑似雰囲気によって安定化でき、従っ
て空燃比制御の初期特性を極めC高水準に維持できる。
又、実際の処理雰囲気が所期の雰囲気条件から外れた場
合であっても、これを自動的に制御してその条件に雰囲
気を復元できるので、一定レベルの安定化処理を確実に
維持できる。従って、酸素センサの品質のバラツキを極
力防止できる。
合であっても、これを自動的に制御してその条件に雰囲
気を復元できるので、一定レベルの安定化処理を確実に
維持できる。従って、酸素センサの品質のバラツキを極
力防止できる。
更に、酸素センサの用途等に応じた雰囲気条件に設定、
制御することも極めて容易である。
制御することも極めて容易である。
第1,2図は試験例1.2の雰囲気条件を示すλの特性
Sln曲線を示す図。 第3図は処理雰囲気制御システムの一実施例を示す図、
及び 第4図はτの制御手順の一例を示すフローチャート。 を表す。 A・・・処理すべき酸素センサ(素子)1・・・雰囲気
形成管 2・・・ガス導入手段第 図 第2図 3・・・雰囲気制御手段 4・・・加熱炉
Sln曲線を示す図。 第3図は処理雰囲気制御システムの一実施例を示す図、
及び 第4図はτの制御手順の一例を示すフローチャート。 を表す。 A・・・処理すべき酸素センサ(素子)1・・・雰囲気
形成管 2・・・ガス導入手段第 図 第2図 3・・・雰囲気制御手段 4・・・加熱炉
Claims (4)
- (1)酸素センサの初期特性を安定させる酸素センサの
処理方法であって、 センサの晒される雰囲気が、リーン・リッチの交互変換
雰囲気であって、平均空気過剰率(@λ@)、空気過剰
率の変化幅(Δλ)及びリーン・リッチの変換周期(t
)について次の条件:@λ@=0.95〜1.05 Δλ=0.05〜0.5 t=0.5〜300(s) を満たすことを特徴とする酸素センサの安定化処理方法
。 - (2)センサの晒される雰囲気が、0.9Δλの範囲か
ら外れる高リーン領域又は高リッチ領域の一の保持時間
(tm)について、次の条件: tm=0〜100(s) を満たす請求項1記載の方法。 - (3)酸素センサ又は酸素センサ素子を配置し、その周
囲を所定の雰囲気に維持する処理空間、処理空間に雰囲
気形成ガスを導入するガス導入手段、 処理空間の雰囲気を検知するセンサ、及び センサからの信号に応じてガス導入手段によるガスを調
節し、処理空間の雰囲気を制御する雰囲気制御手段、 を備えていることを特徴とする処理雰囲気制御システム
。 - (4)雰囲気制御手段によって処理空間の雰囲気を請求
項1又は2記載の条件に制御する、請求項3記載の制御
システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63244859A JP2640510B2 (ja) | 1988-09-29 | 1988-09-29 | 酸素センサの安定化処理方法及び処理雰囲気制御システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63244859A JP2640510B2 (ja) | 1988-09-29 | 1988-09-29 | 酸素センサの安定化処理方法及び処理雰囲気制御システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0291555A true JPH0291555A (ja) | 1990-03-30 |
JP2640510B2 JP2640510B2 (ja) | 1997-08-13 |
Family
ID=17125053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63244859A Expired - Fee Related JP2640510B2 (ja) | 1988-09-29 | 1988-09-29 | 酸素センサの安定化処理方法及び処理雰囲気制御システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2640510B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008002938A (ja) * | 2006-06-22 | 2008-01-10 | Ngk Spark Plug Co Ltd | ガスセンサ処理方法及びガスセンサ処理装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53132417A (en) * | 1977-04-26 | 1978-11-18 | Nippon Steel Corp | Control method for atmosphere inside heating furnace of nonoxidizing type |
JPS5842717A (ja) * | 1981-09-08 | 1983-03-12 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 鋼材加熱炉の炉内雰囲気制御方法 |
JPS62243754A (ja) * | 1986-04-15 | 1987-10-24 | Isuzu Motors Ltd | 浸炭炉雰囲気制御装置 |
-
1988
- 1988-09-29 JP JP63244859A patent/JP2640510B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53132417A (en) * | 1977-04-26 | 1978-11-18 | Nippon Steel Corp | Control method for atmosphere inside heating furnace of nonoxidizing type |
JPS5842717A (ja) * | 1981-09-08 | 1983-03-12 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 鋼材加熱炉の炉内雰囲気制御方法 |
JPS62243754A (ja) * | 1986-04-15 | 1987-10-24 | Isuzu Motors Ltd | 浸炭炉雰囲気制御装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008002938A (ja) * | 2006-06-22 | 2008-01-10 | Ngk Spark Plug Co Ltd | ガスセンサ処理方法及びガスセンサ処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2640510B2 (ja) | 1997-08-13 |
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