JPH0291555A - 酸素センサの安定化処理方法及び処理雰囲気制御システム - Google Patents

酸素センサの安定化処理方法及び処理雰囲気制御システム

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JPH0291555A
JPH0291555A JP63244859A JP24485988A JPH0291555A JP H0291555 A JPH0291555 A JP H0291555A JP 63244859 A JP63244859 A JP 63244859A JP 24485988 A JP24485988 A JP 24485988A JP H0291555 A JPH0291555 A JP H0291555A
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博 宮田
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博之 前田
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峰次 那須
Makoto Nakamura
信 中村
Noriyuki Maekawa
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、製造された酸素センサを所定の雰囲気に晒し
て実装時における該酸素センサの初期特性を安定させる
酸素センサの安定化処理方法に関する。
[従来技術及び課題] 従来より2例えば内燃機関の制御を行うために排ガス中
の酸素濃度を検出すること等のガス中の酸素ガス検出が
広く行われている。このガス中の酸素ガス検出は、酸素
イオン伝導性固体電解質を用いた酸素センサや酸化物半
導体を用いた酸素センサによって行われる場合が多い。
これらの酸素センサは、酸素イオン伝導性固体電解質中
を酸素イオンが通過したり、酸化物半導体の格子中に酸
素が出入りするために1周囲雰囲気の酸素ガス分圧を起
電力や導電率等の電気的変化として出力する。
ところが、製造された直後のこれら酸素センサにあって
は、センサ素子としての固体電解質や酸化物半導体等の
酸素検出部表面の酸素の吸着状態等が、実際に使用され
るときの酸素検出部表面の状態とは異なる。その結果、
製造された直後の酸素センサを実装すると、使用初期に
おいて酸素検出特性が大きく変化する場合がある。その
ため。
製造直後の酸素センサは、これを大気あるいは不活性ガ
ス等の高温雰囲気に晒し、初期特性安定化処理を行って
いる。
しかし、このような安定化処理が施された酸素センサで
あっても、実装初期において検出特性が未だ大きく変動
する場合がある。
本発明の目的はかかる課題を解決すること、即ち実装初
期から安定な酸素検出特性を維持し。
もつて高精度の検出特性を当初から発揮し得る酸素セン
サを提供するための安定化処理方法を開発することにあ
る。併せて、かかる安定化処理方法を実施するための処
理雰囲気制御システムを開発することにある。
C:*題の解決手段] 本発明者等はかかる実情下、先に酸素センサの安定化処
理方法を提案した(特願昭62−182723)。
本願は、より一層確実に上述の課題を解決すべく鋭意検
討の結果本発明を完成するに至ったものであり2本発明
は上述の課題を下記手段によって解決する。
(1)酸素センサの初期特性を安定させる酸素センサの
処理方法であって。
センサの晒される雰囲気が、リーン・リッチの交互変換
雰囲気であって、平均空気過剰率(T)、空気過剰率の
変化幅(Δλ)及びリーン・リッチの変換周期(1)に
ついて次の条件:T −0,95〜1.05 Δλ=0.05〜0.5 t−0,5〜300 (S ) を満たすことを特徴とする酸素センサの安定化処理方法
(2)酸素センサ又は酸素センサ素子を配置し、その周
囲を所定の雰囲気に維持する処理空間。
処理空間に雰囲気形成ガスを導入するガス導入手段。
処理空間の雰囲気を検知するセンサ、及びセンサからの
信号に応じてガス導入手段によるガスを調節し、処理空
間の雰囲気を制御する雰囲気制御手段。
を備えていることを特徴とする処理雰囲気制御システム
〔作用〕
上記条件を満たす雰囲気は内燃機関駆動初期の排ガスに
よる雰囲気に近似する。そのため、酸素センサ素子の検
出部表面における酸素等のガス吸着状態を、実装したと
同様な状態に変性できる。
リーン・リッチの交互変換雰囲気であるので。
雰囲気ガスと検出部表面に吸着ガスとの交換を迅やく行
い得る。
又、処理雰囲気制御システムによって、処理空間の実際
の雰囲気に応じて、処理空間を上記条件を満たす雰囲気
に自動的に制御できる。従って。
常に所期の雰囲気による安定化処理が可能となる。
[好適な実施態様] 本発明によ゛って処理可能な酸素センサとしては、ジル
コニア等の酸素イオン伝導性固体電解質を用いた酸素セ
ンサ、チタニア、 S n O2等の酸化物半導体を用
いた酸素センサ等がある。
リーン争リッチの交互変換雰囲気としては例えば第1.
2図に示すようなλ(空気過剰率)のSin曲線にする
とよい。例えばリーンガスとしてはλl、02〜1.3
0.  リッチガスとしてはλ0.70〜0.98の範
囲内に設定するとよい。
このSin曲線はリーンとリッチとの正確な対称曲線で
あることが好ましい。但し、リーン側の保持時間とリッ
チ側のそれとを若干具ならせた非対称モードであっても
差支えない。例えば9両保持時間の比をに3〜3:1(
リーン・リッチ比)の範囲に設定し得る。又、リーンと
リッチとの切換速度についても、一定範囲に設定すると
よい。
例えば、0.9Δλの範囲から外れる高リーン領域又は
高リッチ領域の一の保持時間(第2図。
tm)を2次式: %式%() の範囲内にするとよい。
リーン又はリッチ雰囲気は、H,Co。
HC,O及びN2等の混合ガス、又は燃料(例えばプロ
パン、ブタン)と空気との燃焼ガスによって形成される
。特に、燃焼ガスによるものは、リッチ雰囲気とリーン
雰囲気との間の変更が容易であると共に、コスト上好ま
しい。
又、この雰囲気に晒される酸素センサ素子の検出部表面
を高温(例えば700〜1300℃、好ましくは900
〜1200℃)に維持するとよい。効率的に安定化処理
を行うことができる。加熱は、上述した雰囲気を形成す
るための燃焼ガスの熱を利用したり、ヒータ付酸素セン
サであればそのヒータを利用して行い得る。ヒータ加熱
の場合、素子検出部以外はほとんど加熱されない。従っ
て、安定化処理時においてリード線やシール材等が劣化
しない。また、別途設けられたヒータないしは加熱炉を
利用してもよい。この場合、酸素センサを主体金具等に
組み付ける前の酸素センサ素子の段階で安定化処理を行
うことができ、又多数の酸素センサを一括処理できる。
従って、より効率的な安定化処理が可能となる。
[実施例] 以下1本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第3図は本発明の処理雰囲気制御システムの一実施例を
示したものであり、このシステムは、大略、雰囲気形成
管1.ガス導入手段2.雰囲気制御手段3.及び加熱炉
4からなる。なお、Aが安定化処理すべき酸素センサ(
ここでは素子)である。
雰囲気形成管1の所定位置に処理台5が配置され、処理
台5上に複数のセンサ素子A・・・が載置されている。
雰囲気形成管1の一端(第3図左側)にはバーナ6が取
付けられており、このバーナ6によってガス導入手段2
から供給される空気及び燃料が燃焼ガスとなる。そして
、この燃焼ガスが管1内に導入されて管1内において所
定のリッチ・リーン雰囲気を形成する。又、処理台5よ
りもバーナ6側にはハニカム状の整流管7が備えられて
おり、センサ素子Aがより均一な燃焼ガスに晒される。
なお、処理台5が下流側へ向って高く傾斜され、センサ
素子Aが燃焼ガスに十分に晒されるようになっている。
ガス導入手段2は、コンプレッサ(図示せず)からの空
気を供給する主、副空気供給管8,9゜及びガスボンベ
(図示せず)からの主、副燃料(プロパンガス)供給管
10.11を有し、各供給管8、 9.10.11がバ
ーナ6へ接続されている。
又、各供給管8. 9.10.11には開度調整弁ga
、9a、lOa、llaが備えられると共に、更に副供
給管9.11には夫々開閉弁(電磁三方弁)9b、ll
bも備えられている。三方弁である゛ので、バーナ6ヘ
ガスを供給しないときは、停滞ガスを大気へ放出でき、
開となったときその負荷による特性変動を防止できる。
なお、開閉弁9b。
11bはタイマ12に接続されており、所定時間毎に弁
9b、llbが交互に開閉されてリーン会リッチ変換す
ることになる。
雰囲気制御手段3は、コンピュータユニット(CPU)
1Bを有し、その−側(入力側)は雰囲気形成管1に取
付けられたA/Fセンサ14に接続され、その他側(出
力側)は前記各調整弁3a。
9 a、 10a、 llaに接続されている。なお、
15はA/Fメータである。
加熱炉4は、複数のヒータteと断熱材17とからなり
、雰囲気形成管1を介してセンサ素子Aを所定の温度ま
で加熱する。18は熱雷対であり、この熱電対1Bに接
続された温度調節器L9によってセンサ素子Aが700
〜1300℃に加熱制御される。尚。
雰囲気形成管1と加熱炉4が一体となっているので、コ
ンパクト化に寄与している。
こうした処理雰囲気制御システムについて。
λ、Δλ、t、tm等の雰囲気条件の設定及びその制御
は1例えば次のように行われる。
(1)雰囲気条件の設定等 先ず、開閉弁9b、llbをともに閉としたときバーナ
6からの燃焼ガスがλ−1になるように各主供給管8.
lOのガス供給量を設定する。又、開閉弁9bを開とし
たときλが1.100±0.07の範囲のリーンガスと
なるように副空気供給管9の空気供給量を設定する一方
、開閉弁11bを開としたときλが0.90±0.07
の範囲内のりッチガスとなるように副燃料供給管11の
燃料供給量を設定する。
次に、各供給管8〜11に空気又は燃料を供給し、バー
ナ6に点火する。そして、タイマ12により開閉弁9b
、llbを交互にオンオフ制御して。
バーナ6からの燃焼ガスを10秒間に5〜20回の割合
でリーン9リツチ変換させる。
又、加熱炉4による加熱温度は1000℃とする。
(2)雰囲気条件の制御 上記設定条件でリーン9リツチ変換されている形成管1
内の実際の雰囲気をA/Fセンサ14で監視すると共に
、A/Fメータ15で一定時間T(例えばT。−10秒
)の間λを測定し続ける。これらのλ値はCP[713
に入力され、その平均値Xを算出する。このTの目標値
λ。(例えば−1)からのズレに応じて、開度調整弁g
a、10aに出力し、その開度を調節する。それによっ
て、主供給管8,10のガス供給量を調節し、Tを目標
値λ。
に補正する。この場°合9m整量は実測Tのl/100
以内に押え徐々に調整するとよい。ハンチングの発生を
抑制できる。尚、Tの制御手順をフローチャートとして
第4図に示す。
更に、A/Fセンサ14に基づくλについての情報に応
じて、CPU13は開度調整弁9a、11aに出力し、
その開度を調節する。それによって、副供給管9.11
のガス供給量を調節し、Δλを補正する。又、タイマ1
2によってリーン・リッチ切換周期(t)、前記保持時
間(tm)を調整する。
こうして所定条件に設定、補正された雰囲気において、
センサ素子A・・・は、2時間安定化処理に供される。
尚2本例にあっては、センサ素子A・・・の存在位置と
A/Fセンサ14の取付位置とが異なるので。
両位置において雰囲気条件も若干具なる。よって、その
差を予め把握しておき、その差を考慮した補正信号をA
/FセンサI4からCPU13に出力するとよい。
[試験例] 試験例1 第1図2第1表に示す雰囲気条件で安定化処理された特
開昭82−217152記載の酸素センサ素子を、同出
願記載の酸素センサに組立て、三元触媒システムを装着
した6気筒エンジンで自己フィードバック制御を行い、
その制御空燃比(A/F)を測定した。又、10時間耐
久後の制御空燃比(A/F)も測定し1両者の差(ΔA
/F)を調べた。その結果を第1表に示す。
(以下余白) 第  1 表 上記表から明らかなように、前記所期の条件で安定化処
理されたものは、ΔA / F O,08以下という優
れた自己フィードバック制御を示す。
試験例2 雰囲気条件を第2図、第2表に示すように設定して、上
記試験例1と同様に特性変動値(ΔA/F)を調べた。
その結果を第2表に示す。
第  2  表 各試料について、tm−〇 本請求項(1)の範囲外 上記表から明らかなように、同様に優れた自己フィード
バック制御を示す。
[他の実施例] (1)センサ14はA/Fセンサでなくてもよい。即ち
、λを直接検知するのではなく、雰囲気のガス成分2例
えばHC,CO,O□等を検知したり。
又その特定成分のみを検知してλとの相関を考慮して2
間接的に検知するものであってもよい。
その取付数は複数としてもよい。例えば、検知すべき位
置に2個のセンサ14.14’を取付け、一のセンサ1
4によってλの最大値、他のセンサ14’によってλの
最小値を検知することにより、T及びΔλを補正する信
号を出力してもよい。
勿論、その取付位置はセンサ素子A・・・直近であ7て
もよい。
(2)ガス導入手段3において、副燃料供給管11はこ
れを省略してもよい。この場合2例えば主供給管8.■
0のガス供給量をTが0.95になるように設定し、副
空気供給管9によって1.05まで調整し得るようにす
るとよい。
又、副供給管9.11は、これらをいずれも省略しても
よい。又、開閉弁9b、Ilbを省略して開度調整弁g
 a、  9 a、 10a、 llaによってり一ン
ーリッチの切換をも行うようにしてもよい。但し、これ
らの態様にあっては、タイムラグを生じて所期の滑かな
λのSin曲線特性を得られない場合がある。
(3)タイマ12は、これをCP U 1Hに接続し。
A/Fセンサ14からの信号に基づき連動制御してもよ
い。
又、タイマ12はCP U 13に組込んでもよい。
(4)処理台5は適宜多段とし、又、傾斜状態を変更す
る等、安定化処理すべきセンサ(素子)A・・・が所期
の雰囲気に確実に晒される限り2いかなる態様でもよい
(5)試験例では、処理されるセンサ(素子)A・・・
とじて特開昭82−217152のチクニア系のものを
使用したが、他の種々の酸素センサに適用可能である。
(8)その他1本発明の要旨を変更しない限りにおいて
、更に種々の他の実施例を包含する。
[発明の効果] 以上の如く本発明によれば、酸素センサ(素子)を、内
燃機関の排ガスの疑似雰囲気によって安定化でき、従っ
て空燃比制御の初期特性を極めC高水準に維持できる。
又、実際の処理雰囲気が所期の雰囲気条件から外れた場
合であっても、これを自動的に制御してその条件に雰囲
気を復元できるので、一定レベルの安定化処理を確実に
維持できる。従って、酸素センサの品質のバラツキを極
力防止できる。
更に、酸素センサの用途等に応じた雰囲気条件に設定、
制御することも極めて容易である。
【図面の簡単な説明】
第1,2図は試験例1.2の雰囲気条件を示すλの特性
Sln曲線を示す図。 第3図は処理雰囲気制御システムの一実施例を示す図、
及び 第4図はτの制御手順の一例を示すフローチャート。 を表す。 A・・・処理すべき酸素センサ(素子)1・・・雰囲気
形成管  2・・・ガス導入手段第 図 第2図 3・・・雰囲気制御手段 4・・・加熱炉

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)酸素センサの初期特性を安定させる酸素センサの
    処理方法であって、 センサの晒される雰囲気が、リーン・リッチの交互変換
    雰囲気であって、平均空気過剰率(@λ@)、空気過剰
    率の変化幅(Δλ)及びリーン・リッチの変換周期(t
    )について次の条件:@λ@=0.95〜1.05 Δλ=0.05〜0.5 t=0.5〜300(s) を満たすことを特徴とする酸素センサの安定化処理方法
  2. (2)センサの晒される雰囲気が、0.9Δλの範囲か
    ら外れる高リーン領域又は高リッチ領域の一の保持時間
    (tm)について、次の条件: tm=0〜100(s) を満たす請求項1記載の方法。
  3. (3)酸素センサ又は酸素センサ素子を配置し、その周
    囲を所定の雰囲気に維持する処理空間、処理空間に雰囲
    気形成ガスを導入するガス導入手段、 処理空間の雰囲気を検知するセンサ、及び センサからの信号に応じてガス導入手段によるガスを調
    節し、処理空間の雰囲気を制御する雰囲気制御手段、 を備えていることを特徴とする処理雰囲気制御システム
  4. (4)雰囲気制御手段によって処理空間の雰囲気を請求
    項1又は2記載の条件に制御する、請求項3記載の制御
    システム。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008002938A (ja) * 2006-06-22 2008-01-10 Ngk Spark Plug Co Ltd ガスセンサ処理方法及びガスセンサ処理装置

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