JPH0286768A - 粉末ラクトバチルス・プランタラムの製法 - Google Patents
粉末ラクトバチルス・プランタラムの製法Info
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- JPH0286768A JPH0286768A JP63240093A JP24009388A JPH0286768A JP H0286768 A JPH0286768 A JP H0286768A JP 63240093 A JP63240093 A JP 63240093A JP 24009388 A JP24009388 A JP 24009388A JP H0286768 A JPH0286768 A JP H0286768A
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Landscapes
- Micro-Organisms Or Cultivation Processes Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、生きた粉末ラクトバチルス・プランタラムを
多く得るために、ラクトバチルス・プランタラムを培養
した処理液に、前記ラクトバチルス・プランタラムに対
する保護剤を混入した後、前記処理液を乾燥して粉末状
の製品を造る粉末ラクトバチルス・プランタラムの製法
に関する。
多く得るために、ラクトバチルス・プランタラムを培養
した処理液に、前記ラクトバチルス・プランタラムに対
する保護剤を混入した後、前記処理液を乾燥して粉末状
の製品を造る粉末ラクトバチルス・プランタラムの製法
に関する。
従来、保護剤として脱脂粉乳(MSNF)を使用するこ
とが考えられていた。
とが考えられていた。
しかし、脱脂粉乳を混入した処理液を乾燥した場合の製
品中におけるラクトバチルス・プランタラムの生残率は
、乾燥直後で約3.7〜12%と非常に低いという欠点
があった。
品中におけるラクトバチルス・プランタラムの生残率は
、乾燥直後で約3.7〜12%と非常に低いという欠点
があった。
本発明の目的は、製品中におけるラクトバチルス・プラ
ンタラムの生残率を高める点にある。
ンタラムの生残率を高める点にある。
本発明における粉末ラクトバチルス・プランタラムの製
法の特徴手段は、処理液に対する重量%として、 ホエー 8〜30% グルコース 3〜20% を、前記保護剤に含有させておくことにあり、その作用
・効果は次の通りである。
法の特徴手段は、処理液に対する重量%として、 ホエー 8〜30% グルコース 3〜20% を、前記保護剤に含有させておくことにあり、その作用
・効果は次の通りである。
つまり、乾燥直後の製品中のラクトバチルス・プランタ
ラムの生残率は、約70%以上というように従来の方法
よりも高くなり、しかも、各種実験の結果、処理液に対
する重量%として、ホエー 8%以下 グルコース 3%以下 では、あまり生残率を向上させる効果がないばかりか、
生残率は従来よりも高くても、保存性が悪く、また、 ホエー 30%以上 グルコース 20%以上 では、保護剤が不必要に多くなって高価になってしまう
と共に、乾燥に悪影響を及ぼす。
ラムの生残率は、約70%以上というように従来の方法
よりも高くなり、しかも、各種実験の結果、処理液に対
する重量%として、ホエー 8%以下 グルコース 3%以下 では、あまり生残率を向上させる効果がないばかりか、
生残率は従来よりも高くても、保存性が悪く、また、 ホエー 30%以上 グルコース 20%以上 では、保護剤が不必要に多くなって高価になってしまう
と共に、乾燥に悪影響を及ぼす。
従って、製品中のラクトバチルス・プランタラムの生残
率及び保存性を簡単に高めることができるために、生き
た粉末ラクトバチルス・プランタラムの生産効率を高め
てコストを下げることもできると共に、長期にわたる使
用が可能になった。
率及び保存性を簡単に高めることができるために、生き
た粉末ラクトバチルス・プランタラムの生産効率を高め
てコストを下げることもできると共に、長期にわたる使
用が可能になった。
次に、本発明の実施例を示す。
ラクトバチルス・プランタラム(Lactobaci
l Iusplantarum)をLCM培地で24時
間培養した処理液に、処理液に対する重量%として、 ホエー 8〜30% グルコース 3〜20% を、ラクトバチルス・プランタラムに対する保護剤とし
て混入した後、処理液をスプレードライヤーで噴霧乾燥
を行って、粉末状の製品を造る。
l Iusplantarum)をLCM培地で24時
間培養した処理液に、処理液に対する重量%として、 ホエー 8〜30% グルコース 3〜20% を、ラクトバチルス・プランタラムに対する保護剤とし
て混入した後、処理液をスプレードライヤーで噴霧乾燥
を行って、粉末状の製品を造る。
次に、前記製品中におけるラクトバチルス・プランタラ
ムの生残率を確認するための実験例を示す。
ムの生残率を確認するための実験例を示す。
実験例1
前記処理液に対し、
ホエー 15wt、%
グルコース lQwt、%
を混入し、東京理化器機製、5O−1型の、スプレード
ライヤーで、表1の条件下で噴霧乾燥して粉末状の製品
を回収し、その粉末中の生菌数を測定した。
ライヤーで、表1の条件下で噴霧乾燥して粉末状の製品
を回収し、その粉末中の生菌数を測定した。
表2
尚、表2において、ラクトバチルス・プランタラムの生
残率を下記の式から求めた。
残率を下記の式から求めた。
次に、乾燥して得られた粉末を、37℃の空気中でIO
日間保存した後の生菌数を測定して、保存性をfIi認
した。
日間保存した後の生菌数を測定して、保存性をfIi認
した。
上記結果は、表2に示す。
尚、前記ホエーはパウダー状で、その成分は、表3に示
す。
す。
表 3
表4
脂 肪 1.0%
水 分 3.0%
蛋白質 12.0%
炭水化物 76.0%(乳糖が主成分)灰 分
8.0% 一般生菌数 1000個/g以下 大腸菌群 陰性 通りで、牛乳からチーズ又はカゼインを製造した副産物
として得られるものである。
8.0% 一般生菌数 1000個/g以下 大腸菌群 陰性 通りで、牛乳からチーズ又はカゼインを製造した副産物
として得られるものである。
実験例2
前記処理液に対し、
ホエー 15wt、%グルコース
lQwt、%酸化ケイ素(S102
)水和物 2. Qwt、%を混入させた後、実験
例1と同様にスプレードライヤーで噴霧乾燥して粉末を
造り、その粉末中の生菌数を測定した。
lQwt、%酸化ケイ素(S102
)水和物 2. Qwt、%を混入させた後、実験
例1と同様にスプレードライヤーで噴霧乾燥して粉末を
造り、その粉末中の生菌数を測定した。
上記結果は、表4に示す。
つまり、上記実験例1、実験例2で示すように、乾燥直
後の菌の生残率が良好であるばかりか、乾燥後の保存性
も優れている。
後の菌の生残率が良好であるばかりか、乾燥後の保存性
も優れている。
また、特に酸化ケイ素水和物を混入した場合は、菌の回
収率が向上すると共に、乾燥後の保存性が高くなったと
見られる。
収率が向上すると共に、乾燥後の保存性が高くなったと
見られる。
前記保護剤のうち、個々の成分に関し処理液に対して混
入した時の生残率又は菌体死滅速度の変化傾向を示すグ
ラフを、次に示す。
入した時の生残率又は菌体死滅速度の変化傾向を示すグ
ラフを、次に示す。
つまり、第1図は、ホエーの処理液に対する混入割合の
増加に伴って、生残率は増大する傾向を示し、菌に対′
する生活栄養素でもあるグルコースに関し、その濃度変
化に対する乾燥器内での菌体死滅速度の変化傾向は、乾
燥器の人口温度が180℃の時(第2図)と150℃の
時(第3図)とでは異なり、乾燥後の保存日数の変化に
伴う生菌数の変化は、グルコースの濃度変化〈例えば2
%、5%、10%)に伴って異なるばかりか、乾燥器の
人口温度が、180℃の時(第4図)と、150℃の時
(第5図)とでは異なる。
増加に伴って、生残率は増大する傾向を示し、菌に対′
する生活栄養素でもあるグルコースに関し、その濃度変
化に対する乾燥器内での菌体死滅速度の変化傾向は、乾
燥器の人口温度が180℃の時(第2図)と150℃の
時(第3図)とでは異なり、乾燥後の保存日数の変化に
伴う生菌数の変化は、グルコースの濃度変化〈例えば2
%、5%、10%)に伴って異なるばかりか、乾燥器の
人口温度が、180℃の時(第4図)と、150℃の時
(第5図)とでは異なる。
前記第2図乃至第5図より乾燥器の入口温度が高い方が
保存性が悪くなると共に、菌体死滅速度は、乾燥器入口
温度が150℃の場合は、グルコースの濃度の増大に伴
って遅くなり、180℃の場合は、グルコース濃度51
1t1%の時が一番遅く、また、空気中よりも窒素ガス
中の方が菌体は死滅しにくいことが判る。
保存性が悪くなると共に、菌体死滅速度は、乾燥器入口
温度が150℃の場合は、グルコースの濃度の増大に伴
って遅くなり、180℃の場合は、グルコース濃度51
1t1%の時が一番遅く、また、空気中よりも窒素ガス
中の方が菌体は死滅しにくいことが判る。
前記処理液に混入させる保護剤の個々の成分比率は、い
ろいろ実験した結果、前記範囲が適し、夫々が最低割合
(wt、%)以下では、生残率を高める効果が少なくな
り、また、最高割合(wt、%)以上では、高価になっ
て経済的に不利になるばかりか、乾燥効率の低下を招く
虞があり、望むべくは、処理液に対してホエーを15w
t0%、グルコースを10wt、%、酸化ケイ素(Si
n□)水和物を1〜2wt1%の割合で混入するのが良
い。
ろいろ実験した結果、前記範囲が適し、夫々が最低割合
(wt、%)以下では、生残率を高める効果が少なくな
り、また、最高割合(wt、%)以上では、高価になっ
て経済的に不利になるばかりか、乾燥効率の低下を招く
虞があり、望むべくは、処理液に対してホエーを15w
t0%、グルコースを10wt、%、酸化ケイ素(Si
n□)水和物を1〜2wt1%の割合で混入するのが良
い。
前記保護剤にはホエー及びグルコース以外の成分が含ま
れていても良い。
れていても良い。
前記処理液中に、酸化ケイ素水和物の微小粉末に代えて
、Fe20a粉末、A1□03粉末、ガラス粉、珪砂微
粉末、及び、クレー粉末のうちから選ばれた少なくとも
一種を、1wt1%〜5wt0%混入させても、粉末製
品の回収率は向上する。
、Fe20a粉末、A1□03粉末、ガラス粉、珪砂微
粉末、及び、クレー粉末のうちから選ばれた少なくとも
一種を、1wt1%〜5wt0%混入させても、粉末製
品の回収率は向上する。
図面は本発明に係る粉末ラクトバチルス・プランタラム
の製法に関し、第1図は菌の生残率を示すグラフ、第2
図及び第3図は夫々菌体死減速度を示すグラフ、第4図
及び第5図は保存に伴う生菌数の変化を示すグラフであ
る。
の製法に関し、第1図は菌の生残率を示すグラフ、第2
図及び第3図は夫々菌体死減速度を示すグラフ、第4図
及び第5図は保存に伴う生菌数の変化を示すグラフであ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ラクトバチルス・プランタラムを培養した処理液に
、前記ラクトバチルス・プランタラムに対する保護剤を
混入した後、前記処理液を乾燥して粉末状の製品を造る
粉末ラクトバチルス・プランタラムの製法であって、前
記処理液に対する重量%として、 ホエー8〜30% グルコース3〜20% を、前記保護剤に含有させておく粉末ラクトバチルス・
プランタラムの製法。 2、SiO_2粉末、Fe_2O_3粉末、Al_2O
_3粉末、ガラス粉末、及び、クレー粉末の中から選ば
れた少なくとも一種を、前記処理液に対して1〜5重量
%の割合で混入する請求項1記載の粉末ラクトバチルス
・プランタラムの製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63240093A JPH0286768A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 粉末ラクトバチルス・プランタラムの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63240093A JPH0286768A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 粉末ラクトバチルス・プランタラムの製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0286768A true JPH0286768A (ja) | 1990-03-27 |
Family
ID=17054386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63240093A Pending JPH0286768A (ja) | 1988-09-26 | 1988-09-26 | 粉末ラクトバチルス・プランタラムの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0286768A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6010725A (en) * | 1996-07-09 | 2000-01-04 | Nestec S.A. | Spray-drying process |
JP2016537017A (ja) * | 2013-10-28 | 2016-12-01 | セーホーエル.ハンセン アクティーゼルスカブ | 微生物の乾燥 |
-
1988
- 1988-09-26 JP JP63240093A patent/JPH0286768A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6010725A (en) * | 1996-07-09 | 2000-01-04 | Nestec S.A. | Spray-drying process |
JP2016537017A (ja) * | 2013-10-28 | 2016-12-01 | セーホーエル.ハンセン アクティーゼルスカブ | 微生物の乾燥 |
US10745661B2 (en) | 2013-10-28 | 2020-08-18 | Chr. Hansen A/S | Drying of microorganisms |
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