JPH0285280A - テトラヒドロピラン−2,4−ジオン、該化合物を含有する除草剤および望ましからぬ植物成長を防除する方法 - Google Patents

テトラヒドロピラン−2,4−ジオン、該化合物を含有する除草剤および望ましからぬ植物成長を防除する方法

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、式I: [式中、 R1は水素原子;cl−C6−アルコキシ基もしくはC
!〜C6−アルキルチオ基によって置換されていてもよ
いC1−C6−アルキル基:C2〜C6アルケニル基;
C2〜C6−アルキニル基:1回〜3回ハロゲン原子、
ニトロ基、シアノ基、C1〜C6−アルキル基、C1〜
C6−ハロゲン化アルキル基、01〜C6−アルコキシ
基および/またはc、−C6−アルキルチオ基によって
置換されていてもよいフェニル基;C1〜C6−アルキ
ルスルホニル基:ペンゾール環で1回〜3回ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、C1〜C6−アルキル基、c
i〜C6−ハロゲン化アルキル基、C1〜06−アルコ
キシ基および/またはC1−C6アルキルチオ基によっ
て置換されていてもよいペンゾールスルホニル基:C2
〜C6−アルキルカルボニル基;C3〜c6−アルケニ
ルカルボニル基:ペンゾール環で1回〜3回ハロゲン原
子シアノ基、ニトロ基、C1〜c6−アルキル基C1〜
C6−ハロゲン化アル牛ルa、C,〜c6アルコキシ基
、CI−CG−アルキルチオ基によって置換されていて
もよいベンゾイル基を表わし: R2はC!〜C6−アルキル基、C7〜c6−アルケニ
ル基; C2〜C6−アルキニル基;cl〜CGハロゲ
ン化アルキル基;C3〜C6−シクロアルキル基を表わ
し; A、B、Dは=CH−および−N−を表わし:Eは酸素
原子、硫黄原子または−N f(7−を表わし、但し、 R7は水素原子、Cl−C6−アルキル基;C2〜C6
−アルケニル基:C2〜C6−アルカノイル基;ペンゾ
ール環で1回〜3回C1〜C6−アルキル基、01〜C
6−アルコキシ基、C,〜C6−アルキルチオ基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、ニトロ基および/またはC1〜C
6−ハロゲン化アルキル基によって置換されていてもよ
いベンゾイル基;ベンジル基;1回〜3回ハロゲン原子
、ニトロ基、シアノ基、C1〜C6−アルキル基、C1
〜C6−ハロゲン化アルキル基、C1〜C6−アルコキ
シ基および/またはC1〜CG−アルキルチオ基によっ
て置換されていてもよいフェニル基を表わすものとし: Xはハロゲン原子、C1〜CG−アルキル基:1回〜3
回ハロゲン原子、c、−C6−アルコキシ基および/ま
たはC1−CB−アルキルチオ基によって置換されてい
てもよいC3〜CB−シクロアルキル基; C2〜C6
−アルケニル基; c 2〜C6−アルキニル基:C!
〜C6−アルコキシ基:C2〜C6−アルキニルオキン
基;C1〜C[、−アルキルチオ)& ; CI〜C6
−アルコキシカルボニルJJ、 : C2〜C6−アル
カノイルオキシ基:ペンゾール環で1回〜3回ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、C1−C6−アルキル基、
Cl−C6−アルコキシ基および/またはC1−CB−
ハロゲン化アルキル基によって置換されていてもよいベ
ンジルオキシ基;NR5R6;ホルミル基もしくはC2
〜C6−アルカノイル基ならびにそれらのイミン、オキ
シムおよびシッフ塩基;1回〜3回ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、C1〜C6−アルキル基、C!〜C1
1−アルコキシ基、C1〜C6−ハロゲン化アルキル基
および/またはNR3R4によって置換されていてもよ
いフェニル基を表わし; nは0,1または2を表わし、この場合X基は、nが2
である際には異なっていてもよく;R3R4R5、R6
は水素原子、C1〜c6−アルキル基、フェニル基、C
2〜C6−アルカノイル基、ベンゾイル基および/また
はベンジル基を表わし; Zは酸素原子またはオキシムエーテル基−NOR8を表
わし、但し、 R8は1回〜3回ハロゲン原子、C1〜C6−アルコキ
シ基および/またはC1−CG−アルキルチオ基によっ
て置換されていてもよいc、−c6アルキル基または0
2〜C6−アルケニル基;C2〜C6−アル牛ニルJJ
 ; C7〜C6−ハロゲン化アル* = ル基: 1
 回〜3回ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、C1−
C6−アルキル基、C1−c6ハロゲン化アルキル基、
CI〜C6−アルコキシ基および/またはC1〜C6−
アルキルチオ基によって置換されていてもよいフェニル
基によってそれぞれ3回まで置換されたC!〜C6−ア
ルキル基またはC2〜C6−アルケニル基:1回〜3回
ハロゲン原子によって置換されていてもよいテニル基を
表わす]で示されるテトラヒドロピラン−2,4−ジオ
ンおよびその環墳認容性の塩に関する。
更に、本発明は、化合物■の製造、化合物Iの除草剤と
しての使用および成長調整剤としての使用ならびに相応
する薬剤に関する。
化合物Iは、特許請求の範囲の記載によって包含される
、多数の互変異性体の形で存在することができる。
従来の技術 テトラヒドロピラン−2,4−ジオンオ牛シムエーテル
誘導体が中子葉植物に対して除草作用を有することは、
公知である。このための例は6位にフェニル基を有する
テトラヒドロピラン−2,4−ジオンである(英国特許
m2140803号明細書)。
発明が解決しようとする課題 しかし、僅かな使用量で栽培植物との良好な認容性(選
択性)゛を有害植物に対する良好な作用として有する化
合物が求められた。
課題を解決するための手段 この課題に相応して、首記したテトラヒドロピラン−2
,4−ジオン誘導体が見い出された。
更に、Zがオキシムエーテル基(−N OR8)を表わ
すような式Iの誘導体は良好な除草作用を有しかつZが
酸素原子を表わすような式■の誘導体は成長調整の性質
を有することが見い出された。
ZがN0R5基を表わすような式Iのテトラヒドロピラ
ン−2,4−ジオン誘導体は、Zが酸素原子を表わすよ
うな式1のテトラヒドロピラン−2,4−ジオン誘導体
を相応するヒドロキシルアミンまたはそのアンモニウム
化合物R[lON +−12もしくはR[10N H3
ΦWOと反応させることによって得ることができる。こ
の場合、WOはクロリド、プロミド、ヨーシト、硫酸水
素塩および燐酸塩のような無機酸の陰イオンを表わし;
反応温度は、一般に0℃〜約80℃である好ましくは、
有利に2が酸素原子を表わすような式1のテトラヒドロ
ピラン−2,4−ジオン誘導体は、アンモニウム化合物
と、固体の塩基の存在下に溶剤中で20℃〜80℃の温
度で反応される。適当な塩基は、例えばアルカリ金属お
よびアルカリ土類金属の炭酸塩、炭酸水素塩、酢酸塩、
アルコラード、水酸化物および酸化物、殊に水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、酸化マグネシウム、酸化カル
シウムである。更に、有機塩基、例えばピリジンまたは
第三アミンを使用することができる。塩基は、化学量論
的!11または過剰計で添加される。
溶剤としては、例えばジメチルスルホキシド、アルコー
ル、例えばメタノール、エタノールもしくはインプロパ
ツール・ドルオール・へ牛サンもしくはシクロヘキサン
;塩素化炭化水素、例エバクロロホルム、ジクロルメタ
ン:エステル、例えば酢酸エチルエステル;またはエー
テル、例えばジオキサンもしくはテトラヒドロフランが
適当である。
Zが酸素原子を表わすような式Iのテトラヒドロピラン
−2,/1−ジオン誘導体は、自体公知の方法で、式I
l: ラン)中で反応させ、エノールエステルに変え、引続き
酸性または塩基性触媒を用いて、同じ溶剤または別の溶
剤(例えば、酢酸エステル、ドルオール)巾で0〜10
0℃の温度で反応させることによって得られる。酸性ま
たは塩基性触媒の例は、塩化アルミニウム、塩化鉄、イ
ミダゾール誘導体、例えばN−メチルイミダゾールであ
るか、ないしはピリジン、例えばジメチルアミノピリジ
ンである。
式Iの化合物を得るためには、常にアルデヒド で示される相応するテトラヒドロピラン−2,4ジオン
誘導体と、置換基R2が導入される酸クロリドとを、塩
基(例えば、トリエチルアミン)の存在下で希釈剤(例
えば、テトラヒドロフから出発する多数の公知方法が存
在する:a)亜鉛の存在下にエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ペンゾールのような溶剤中での相応する4−ブロ
ム−3−メトキシ−クロトン酸エステルとの反応(J、
IIeterocyclic Chew、 21.17
55 (1984))ないしはb)触媒としてのルイス
酸(例えば、チタンテトラクロリド)を用いるジクロル
メタンのような溶剤中でのジケトンとの反応(Chew
、1.etLers、  I 975.1ot)または
C)テトラヒドロフランのような溶剤中でのアセト酢酸
アルキルエステルのジアニオン、すなわち例えばジナト
リウム塩との反応(^ngev、 Chell、 86
.40(1974))。
アルデヒドは、例えば相応するアルコールの酸化、カル
ボン酸誘導体の還元または例えばビルスマイヤー(V 
i lsmeyer)反応のような親電子性芳香族化合
物置換によって得られる。
本発明によるテトラヒドロフラン−2,4−ジオン誘導
体の作用方向は、置換パターンによって影響を及ぼされ
;例えば、ZがN−0R8基を表わすような化合物は、
良好な除q作用を有しZが酸素原子を表わすようなテト
ラヒドロフラン−2,4−ジオン誘導体は、有利に成長
調整の性質を有する。
R1が水素原子を表わすような式lの化合物は、形式的
に式1とは異なる多数のJ、E変−v外体の形で生じる
ことができ、この互変異性体の形は、同様に本発明に属
する。
オレフィン性の不飽和置換基が存在する場合には、公知
方法でE−異性体および2−異性体が生じることができ
、これらの異性体は、同様に本発明に属する。
R8がハロゲン化アルキル基またはハロゲン化アルケニ
ル基を表わす場合には、1〜3個のハロゲン原子を有す
るものが特に有利である。
本発明による化合物は、より判り易くするために、次に
群で記載することにする: 式1.1〜T、67ラン、チオフェンおよびピロール 式1.7〜■、15のオキサゾール、チアゾールおよび
イミダゾール 式1,25〜1.30の1.2.3−オキサジアゾール
、1,2.3−チアジアゾールおよび1,2゜3−トリ
ゾール 式1.16〜1.24のイソオキサゾール、インチアゾ
ールおよびピラゾール 式1.31〜1.36の1.2.4−オキサジアゾール
、1,2.4−チアジアゾールおよびl、2゜4−トリ
アゾール 式1.37〜1.39の1.3.4−オキサジアゾール
、1,3.4−チアジアゾール 式■中のR1は、有利に水素原子を表わすかまたは酸基
、例えばC!〜C6−アルキルカルボニル基、C2〜C
6−アルケニルカルボニル基、例えばアセチル基、プロ
ピオニル基、アクロイル基、ブチリル基、イソブチリル
基、ピバロイル基、バレロイル基、場合によってはC1
〜c6−アルキル基によって置換されたベンゾイル基、
例えば4−メチルベンゾイル基、4−エチルベンゾイル
基、2.4.6−トリメチルベンゾイル基、ベンゾイル
基、p−メチルフェニルスルホニル基、さらに1価の金
属陽イオン、殊にナトリウム、カリウム、または1当1
1:、の多価の陽イオン、例えばアルカリ土類金属陽イ
オン、殊にマグネシウム、カルシウムおよび別の農業的
に使用i−+]能な陽イオン、例えばマンガン陽イオン
、銅陽イオン、亜鉛陽イオンおよび秩陽イオンならびに
アンモニウム陽イオン、ホスホニウム陽イオン、スルホ
ニウム陽イオンおよびスルホキソニウム陽イオン、例え
ばアンモニウム、テトラアルキルアンモニウム、ベンジ
ルトリアルキルアンモニウム、トリスアルキルスルホニ
ウムまたはトリアルキルスルホキソニウムを表わす。
式I中のR2は、有利に炭素原子数1〜6の非分−j1
鎖状、分子鎖状または環式アルキル基、例えばメチル基
、エチル基、n−プロピル基。
イソプロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基イソブチ
ル基、第三ブチル基、n−ペンチル基、インペンチル基
、第二ペンチル基、第三ペンチル基、ネオペンチル基、
n−ヘキ/ル基、ンクロプロピル基、シクロブチル基、
シクロベブチル基およびシクロヘキシル基を表わす。
特に有利なのは、炭素原子数1〜4の非分子鎖状アルキ
ル基、すなわちメチル基、エチル基プロピル基、ブチル
基;殊にエチル基およびプロピル基である。
環員A、B、DおよびEの中、3個以下は、同時にヘテ
ロ原子であるのが有利である。
Xは、有利に弗素原子、塩素原子、臭素原子メチル基、
エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチ
ル基、イソブチル基、第ニブチル基、第三ブチル基、n
−ペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、メトキシ基、エト
キン基、イソプロピルオキシ基、第三ブチルオキシ基、
メチルチオ基、エチルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエ
チルアミ7基、ジブチルアミツノ、(、メトキシメチル
基、エトキシメチルJλ、メチルチオメチル基、エチル
チオメチル基、lメトキシエチル基、2−メトキシチオ
−エチル基、1I3−ジメトキシプロピル基、2−エト
キンエチル基、1−メチル−2−メチルチオ−エチル基
、2−メチル−1−メチルチオメチルプロピル基、l−
メチル−ブチル基、2−メチル−1−プロペニル基、フ
ェニル基、4−メチルフェニル基4−トリフルオルメチ
ルフェニル基、2,4ジクロルフエニル基、4−メトキ
シフェニル基2.4.6−1−リメチルフェニル基、3
.5−ジブロムフェニル基、4−メチルチオフェニル基
4−フルオルフェニル基;殊にメチル基、エチル基、n
−プロピル基、イソプロピル基、第一ブチル基、第三ブ
チル基、シクロプロピル基シクロペンチル基、l−メト
キシエチル基、ジメチルアミノ基、4−フルオルフェニ
ル基、塩素原子を表わす。
R8は、有利にメチル基、エチル基、プロピル基、アリ
ル基、プロピ−2−イニル基、3−フルオルプロピル基
、トランス−3−クロル−プロペ−2−エニル基、トラ
ンス−ブチ−2−エニル基シスー3−クロループロペ−
2−エニル基、210ループロペ−2−エニル基、)f
 −2−イ= k基2−メトキシエチル基、E−4(4
−フルオルフェニル)−ブチ−2−エニル基;E−4(
4−クロルフェニル)−ブチ−2−エニル基、E−4(
4第三ブチルフエニル)−ブチ−2−エニル基;E4(
4−トリフルオルフェニル)−ブチ−2−エニル基;E
−4−フェニル−ブチ−2−エニル基、テニル基、5−
テニル基、殊にメチル基、エチル基、プロピル基、アリ
ル基、トランス−3−クロル−プロペ−2−エニル基、
トランス−ブチ−2エニル基、5−クロル−テニル基を
表わす。
nは0、■または2である。
R7は、有利にメチル基、エチル基、ベンジル基、フェ
ニル基、アセチル基、ベンゾイル基イソプロピル基、4
−メトキシフェニル基を表わす。
式Iのテトラヒドロピラン−2,4−ジオン系の6位の
有利な複素環式化合物は、フラニル2、チエノー2−イ
ル、ピロール−2−イル、フラン−2−イル、チエノー
3−イル、ピロール−3−イル、イソオキサゾール−5
−イル、イソオキサゾール−4−イル、インオキサゾー
ル−3−イル、インチアゾール−5−イル、イソチアゾ
ール−4−イル、イソチアゾール−3−イル、ピラゾー
ル−5・イル、ピラゾール−4−イル、ピラゾール−3
−イル、1,3−オキサゾール−2−イル、1.3−オ
キサゾール−4−イル、1.3−オキサゾール−5−イ
ル、1.3−チアゾール−2,−イル、1,3−チアゾ
ール−4−イル、1,3−チアゾール−5−イル、イミ
ダゾール−2−イル、イミダゾール−4−イル、イミダ
ゾール−5−イル、1,2.3−オキサジアゾール−4
−イル、1,2.3−オキサジアゾール5−イル、1,
2.3−チアジアゾール−4−イル、1.2.3−チア
シアプール−5−イル、1,2.3トリアゾール−4−
イル、1,2.3−トリアゾール−5−イル、1,2.
4−オキサジアゾール−3イル、1.2.4−オキサジ
アゾール−5−イル、1.2.4−チアジアゾール−3
−イル、1,2,4チアジアゾール−5−イル、1,2
.4−1−リアゾール−3−イル、1,2.4−トリア
ゾール−5−イル、1,3.4−オキサジアゾール−2
−イル、1゜3.4−チアジアゾール−2−イル、1,
3./Il−リアゾール−2−イルである。有利には、
フラン2−イル、チエノー2−イル、ビロール−2−イ
ルイソオキサゾール−5−イル、インオキサゾール−3
−イル、インチアゾール−5−イル、1,3チアゾール
−4−イル:1,3−チアゾール−5−イル、イミダゾ
ール−2−イルであり、特に有利には、イソオキサゾー
ル−5−イル、インキサシ−ルー3−イルである。
除草作用を有する作用物質としては、有利にZがオキシ
ムエーテル基(−NOR8)を表わすような化合物Iが
適当である。成長調整作用に関しては、Zが酸素原子を
表わすような化合物Iが有利である。新規のテトラヒド
ロビラン2.4−ジオンないしは該化合物を含有する除
草剤および成長調整剤は、例えば直接に噴霧可能な溶液
、粉末、懸濁液、また高百分率の水性、油性または他の
@濁液または分散液、乳濁液、油分散液、ペースト状物
、ダスト剤、散布剤または粒剤の形でスプレー法、ミス
ト法、ダスト法、散布法または注入法によって使用する
ことができる。使用形は、使用目的により左右され:こ
の使用形は、全ての場合に本発明による作用物質のでき
るだけ微細な分布を保証する。
直t〆I!”i: :’に町tiヒの溶液1乳濁液、ペ
ースト又は油分散液を製造するために、中位乃至高位の
沸点の鉱油留分例えば溶油又はディーゼル油、更にコー
ルクー浦等、並びに植物性又は動物性、辛出源の油。
脂肪族、環状及び芳香族炭fE水未例えばペンゾール、
ドルオール、キジロール、パラフィン、テトラヒドロナ
フタリン、アルキル置換ナフタリン又はその誘導体、 
例えばメタノール、エタノール。
プロパツール、ブタノール、クロロフォルム、四LjS
 化炭4 、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、
クロルベンゾール、インフォロン等1強hTfi性溶剤
例えばN、N−ジメチルフォルムアミド、ジメチルスル
フオキシド、N−メチルピロリドン及び水が使用されろ
水性使用形は乳濁液濃縮物、ペースト又は湿潤n1能の
粉末(噴q・1粉末)、油分散、゛υより水の添加によ
り製造されろことができる。乳濁液、ペースト又は油分
散液を製造するためには、物質はそのまま又は油又は溶
剤中に溶;1イして、湿潤剤、接着剤1分1救剤又は乳
化剤尾より水中に均質に混合されることかできる。しか
も有効物質、湿潤剤、接着剤1分散剤又は乳化剤及び場
合により溶剤又は油よりなる濃縮物を製造することもで
き、これは水にてイi釈するのに適する。
表面活性物質としては次のものが挙げられる:リグニン
スル7オン酸、ナフタリンスルフォン酸。
フェ/−ルスル7オン酸のアルカリ塩、アルカリ上項塩
、アンモニウム塩、アルキルアリールスルフォナート、
アルキルスルフアート、アルキルスルフォナート、ジブ
チルナフタリンスルフォン酸のアルカリ塩及びアルカリ
土類塩、ラウリルエーテルスル7アート、脂肪アルコー
ルスルフアート脂肪酸アルカリ塩及びアルカリ土類塩、
硫酸化へキサデカメール、ヘプタデカメール、オクタデ
カメールの塩、 硫酸化脂IJJアルコールグリコール
エテルの塩、スルフォン化ナフタリン又はナツタ’J 
ン透導体とフォルムアルデヒドとの縮合生成物ナフタリ
ン或はナフタリンスルフォン酸とフェノ−ル、& ヒフ
ォルムアルデヒドとの縮合生成物、ポリオキンエチレン
−オクチルフェノールエーテル。
エトキシル化インオクチルフェノール、オクチルフェノ
ール ノニルフェノール、アルキルフェノールポリグリ
コールエーテル、トリブチルフェニルポリグリコールエ
ーテル、アルキルフェールホ。
ジエーテルアルコール。イソトリデシルアルコール、 
脂肪アルコールエチレンオキシド−&i 合物。
エトキシル化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル、エトキシル化ポリオキシプロピレン、ラウリル
アルコールポリグリコールエーテルアセタール、ソルビ
ットエステル、リグニン、亜硫酸廃液及びメチル繊維未
粉末、散布剤及び振り゛かけ剤は有効物16(と固状1
11体物質とを混合又は−緒に磨砕することにより製造
されることができる。
粒状体例えば被覆−1透浸−及び均質粒状体は有効物質
を固状担体物質に結合することにより製造されることが
できろ。固状担体物質は例えば鉱物1―例えばシリカゲ
ル、珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩。
滑石、カオリン、アタクレ9石灰石1石灰、白亜。
11亙塊粒に1石灰質黄色粘土、粘土、白雲石、珪藻土
、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、酸化マグネシウ
ム、磨砕合成愼脂、肥料例えば硫酸アンモニウム、燐酸
アンモニウム、 fillアンモニウム。
尿素及び植物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及びク
ルミ殻粉、繊維素粉末及び他の固状担体物質である。
配合物は、作用物質0.1〜95重社%、特に0,5〜
90重礒%を含有する。この場合、作用物質は、90%
〜100%、特に95%〜100%の純度(N M R
スペクトルによる)で使用される。
本発明による化合物は、例えば次のように配合すること
ができる: 製剤例は以下のiDlりである。
1.90屯ni:部の化合物4.1をN−メチル−α−
ピロリドン10爪rii部と混合する時は、極めて小さ
い滴の形にて使用するのに適する溶液が得られる。
II 、  20 iTj 計部の化合物4.4を、キ
ジロール80重「1:・部、エチレンオキシド8乃至1
oモルをオレイン酸−N−モノエタノールアミド1モル
に附加した附加生成物10爪11」部、ドデシルペンゾ
ールスルフォン酸のカルシウム塩5重沿部及びエチレン
オキシド40モルをヒマシ油1モルに附加した附加生成
物5屯阻部よりなる混合物中に溶解する。この溶液を水
100000重H(部に注入しかつ細分布することによ
り有効成分0.02重壱%を含有する水性分散液が得ら
れる。
Il+、  20重計部の化合物4.28を、シクロヘ
キサノ240重附部、インブタノール30重量部、エチ
レンオキシド7モルをインオクチルフェノール1モルに
附加した附加生成物20重計部及びエチレンオキシド4
0モルをヒマシ油1モルに附加した附加生成物10重(
辻部よりなる混合物中に溶解する。この溶液を水100
000重量部に注入しかつ細分布することにより有効成
分0.02重量%を含有する水性分散液が得られる。
■、20重敏部重化部物5.2を、シクロヘキサ/−ル
25重量部、沸点210乃至280℃の鉱油留分65重
量部及びエチレンオキシド40モルをヒマシ泊1モルに
附加した附加生成物10重量部よりなる混合物中に溶解
する。この溶液を水100000重屑部に注4しかつ細
分布することにより有効成分0.02重4%を含有する
水性分散液が得られる。
■、20重量部の化合物5.4を、ジイソブチル−ナフ
タリン−α−スルフォン酸のナトリウム塩3ff ff
i部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルフォン酸のす)
 IJウム塩17重量部及び粉末状珪酸ゲル60重計部
と充分に混和し、かつハンマーミル中において磨砕する
。この混合物を水20000重量部に細分布することに
より有効成分0.1重量%を含有する噴霧液が得られる
■、  3重量部の化合物6.3を、細粒状カオリン9
7重量部と密に混和する。かくして有効物質3重量%を
含有する噴霧剤が得られる。
■、30重量部の化合物1.1を、粉末状珪酸ゲル92
重量部及びこの珪酸ゲルの表面上に吹きつけられたパラ
フィン油8重量部よりなる混合物と密に混和する。かく
して良好な接着性を有する有効物質の製剤が得られる。
1.20重量部の化合物8.2を、ドデシルペンゾール
スルフォン酸のカルシウム塩2重is、脂肪アルコール
ポリグリコールエーテル8重量部、フェノールスルフォ
ン酸−尿素−フォルムアルデヒドー縮合物のナトリウム
塩2重量部及びパラフィン系鉱油68重量部と密に混和
する。安定な油状分散液が得られる。
除?江剤もしくは成長調整剤または作用物質の適用は、
発芽前の処理法で行なうことができるか、または発芽後
の処理法で行なうことができる。作用物質がある栽培植
物に対して殆ど認容性でない場合には、除り剤を噴霧装
置を用いて敏感な栽培植物の茎葉にできるだけ当てずに
、作用物質がその下で成育する望ましからぬ植物の茎葉
」二または露出した土壌表面に達するように除草剤を噴
霧する散布技術を使用することができる(ポスト−ダイ
レフテッド法(post−directcd)法、レイ
−バイ(lay−by)法)。
除?、!作用を有する作用物質の使用量は、防除目的、
季節、目的植物および成長段階に応じて活性物質(a、
S、)0.01〜3kg/ha、特に0.05〜1.O
ky/h aである。
Zが特に酸素原子を表わすような一最式Iのテトラヒド
ロピラン−2,4−ジオンは、一般に著しく良好な成長
調整作用を有する。該化合物は、実際に植物の全ての成
長段階に種々の形で影響を及ぼすことができ、したがっ
て該化合物は、成長調整剤として使用することもできる
該化合物の作用の多様性は、種々のファクターに依存す
る。この場合、決定的なことは、特にβ)植物の種類お
よび品種、 b)植物の成長段階および季節に関連する適用の時点、 C)適用の目的および方法(種子の消毒、土壌処理また
は茎葉への使用)、 d)気候的ファクター、例えば温度、降水量、昼の長さ
および光の強さ、 e)土壌の性状(肥料を含めて)、 f)作用物質の配合または使用形、およびg)薬剤の使
用量および作用物質含量 にある。
植物の栽培、農業および園芸においての本発明による植
物成長調整剤の一連の種々の使用法から、次の幾つかの
例を記載することとする。
A、成長調整作用を有するテトラヒドロピラン2.4−
ジオンr  <z=o>を用いた場合には、植物の栄養
成長を強力に抑制することができ、このことは、殊に高
さの成長の減少の点で云えることである。それに応じて
、処理した植物は、ずんぐりした成長を示し;さらに、
暗色の茎葉の呈色を観察することができる。
例えば、道端、垣根、水路の傾斜面ならびに公園、スポ
ーツ施設および果樹園のような芝地面、観賞用の芝地お
よび飛行場での雑草の生育の減少は、実際に有利である
ことが証明され、したがって労力および費用のかかる芝
刈りは、頻繁に行なわなくともよい。
それによって、果樹林および別の樹木または浦木林の場
合には、費用のかかりすぎる伐採は、減らすことができ
る。
マf−#m、イネ、トウモロコシ、ヒマワリおよびダイ
ズのような貯蔵に敏感な栽培植物の安定性を高めること
は、経済的に重要なことである。この場合に惹起された
茎の短縮化および強化は、収穫前の不利な気候条件下で
植物の“貯蔵” (折れること)の危険を減少させるか
または除去する。
また、ワタの場合に高さの成長を抑制するためおよび成
熟の経過を時間的に変化させるために使用することも重
要である。したがって、この重要な栽培植物を完全に機
械的に収穫することが可能となる。
植物の側方への分岐は、成長調整作用を有する化合物I
を使用することによって増大させることもできるし、抑
制することもできる。例えば、タバコ植物の場合に葉の
成長のために側芽(側枝)の形成を抑制することは、重
要なことである。
成長調整作用を有する化合物Iを用いた場合には、例え
ば冬季のアブラナの場合に耐凍結性を著しく向上させる
こともできる。この場合には、−面で高さの成長および
豊満すぎる(このことによって特に凍結に敏感な)茎葉
物質ないしは植物物質の成長が抑制される。他面、若い
アブラナ植物は、播種後および冬季の凍結の開始前に有
利な成長条件にも拘わらず栄養成長段階で留まったまま
である。
それによって、開花抑制の早期撤廃および生殖段階への
移行の傾向にある植物の凍結の危険も除去される。別の
栽培植物、例えば冬季の穀類の場合にも、本発明による
化合物で処理した状態で秋期には実際に良好に一本の茎
から多くの穂を出すが、e満すぎないように冬季に入り
込むことは、有利である。それによって、高められた凍
結敏感性は予防することができ、かつ比較的に僅かな茎
葉物質ないしは植物物質による種々の疾病(例えば、菌
類での疾病)の感染は予防することができる。史に、栄
養成長の抑制は、数多くの栽培植物の場合に土壌での緊
密な植え付けを可能にし、したがって土壌面積に対して
多大な収穫を達成することができる。
B、テトラヒドロピラン−2,4−ジオンI  (Z=
O)を基礎とする成長調整剤を用いた場合には、植物部
分についても植物内容物質についても多大な収穫を達成
することができる。
すなわち、例えば芽、花、葉、果実、種子、根および塊
茎についての多量の成長を誘発しテンサイ、サトウキビ
および柑橘類の果実中の糖の含有量を上昇させ、穀類も
しくはダイズ中の蛋白質含量を増大させるかまたはゴム
の樹を刺激してラテックスの流れを増加させることが可
能である。
式l  (Z=0)のテトラヒドロピラン−2゜4−ジ
オンは、植物の物質代謝に関係するかまたは栄養成長お
よび/または生殖成長を促進するかもしくは抑制するこ
とによって収穫量の増大を惹起することができる。
C0最後に、テトラヒドロピラン−2,4−ジオンI 
 (Z=O)を用いた場合には、成長段階の短縮化もし
くは長期化ならびに収穫される植物部分の成熟の促進も
しくは遅延を収穫前または収穫後に達成することができ
る。
例えば、柑橘類の果実、オリーブの場合または核果、石
果および堅果の他の種類および品種の場合に時間的に集
中した落下によってかまたは樹木への付着強さの減少に
よって可能になる収穫の簡易化は、経済的に重要なこと
である。菓軸および苗条軸の間の分離組織の形成を促進
させることは、有用植物、例えばワタの良好に制御可能
な落葉にとって本質的なことでもある。
D、更に、テトラヒドロピラン−2,4−ジオン1  
(Z=O)を用いた場合には、植物の水消費量を減少さ
せることができる。このことは、例えば干からびた地域
または半分子からびた地域において高い出費をもって人
工的に潅厩しなければならない農業の利用面積にとって
特に重要なことである。本発明による物質を使用するこ
とによって潅厩の徹底性は減少し、ひいては安価な経営
を実施することができる。存在する水は、成長調整剤の
影響下でいっそう良好に利用される。その理由は、特に 気孔の開口幅を減少させ、 厚手の表皮およびクチクラを形成させ、土壌への根差し
を改善させ、 微気候に植物存続状態で緊密な成長によって有利に影響
を及ぼすからである。
本発明により使用すべき作用物質は、栽培植物に種子の
状態から(種子消毒剤として)供給することもできるし
、土壌の上に、すなわち根を通じて供給することができ
、ならびに噴霧によって茎葉の上に供給することもでき
る。
Zが特に酸素原子を表わすような成長調整作用を有する
化合物Iに対する植物の認容性が高いために、使用量は
、著しく変動することができる。種子を処理する場合に
は、一般に種子1kgあたり0.001〜500y、特
に0.01〜10gの作用物質量が必要とされる。茎葉
および土壌を処理するためには、一般に0.O1〜10
ky/ha、有利に0.1〜5kg/haの施与で十分
である。
適用方法の多様性に関連して、本発明による除草作用を
有する化合物および成長調整作用を有する化合物ならび
に該化合物を含有する薬剤は、なおさらに若干の栽培植
物中で望ましからぬ植物を除去するために使用すること
ができる。例えば、次の栽培植物がこれに関連する:タ
マネギ(AAlllu cepa )パイナツプル(A
nanas C0m08u8 )ナンキンマメ(Ara
chis hypogaea )アスパラガス(Asp
aragus officinalls )オートムギ
(Avena sat土va )フダンソウ(Beta
 vulgaris spp、 altissima 
)サトウジシャ(Beta vulgaris spp
、rapa )γカテンサイ(Beta vulgar
is spp、esculenta )ブラシー力 ナ
パス(変種ナバス) (Brassicanapus 
 var、napus  )ブラシー力 ナパス(変種
ナボ°ブラシーカ)(Brasslca napus 
war、 napobrassica )ブラシー力 
ナパス(変種ラバ) (Erassicanapus 
 var、rapa  )ブラシー力 ナパス(R’a
tシルベストリス)(Brassica napus 
var、 5ilvestris )トウ゛ンバキ(C
anθ11土a 5inensis )ベニバナ(Oa
rthamus tinctorius )二ャリーヤ
 イリノイネンシス(Caryailllnoinen
sis  ) マルブシュカン(C1trus limon )グレー
プフルーツ(0itrus maxima )ダイダイ
(C1trus reticulata )ナラミカン
(C1trus 51nensis )コーヒーツキ[
Coffea arabica (coffeacan
ephora 、  Coffea 1iberica
 ) )アミメロン(Cucumis melo )キ
ュウリ(Cucumis 5ativus )ギョウギ
シバ(C!ynodon dactylon )ニンジ
ン(Daucus carota )アブラヤミ(El
aeis guineenis )イチゴ(Fraga
ris vesca )大−rl (Glycine 
max )木綿(Gossypium hirsutu
m (Gossypiumarboreum Goss
ypium herbaceum Gossypium
vitifolium ) 〕 ヒマワリ(He1ianthus annuus )キ
クイモ(He1ianthus tuberosus 
)ゴムツキ(Hevea brasiliensis 
)大麦(Hordeum Vulgare )カラハナ
ソウ(Humulus 1upulus )アメリカイ
モ(Ipomoea batatas )オニグルミ(
Juglans regia )ニガナ(Lactuc
a 5ativa )レンズマメ(Lens culi
naris )アマ(Linum usitatiss
imum )ト マ ト  (Lycopersico
n  lycopersicum   )リンゴ(f、
 (MaluS 5p11)、)キャツサパ(Mani
hot escu:Lenta )ムラサキウマゴヤシ
(Medicago 5ativa )ハツカ(Men
tha piperita )バショウ匡(Musa 
spp・) タバコ[N1cotiana tabacum (N、
 rusticaオリーブ(0Lea europae
a )イネ(0ryza 5ativa ) キビ(Panicum miliaceum )アズキ
(Phaseolus 1unatus )ササゲ(P
haseolus mungo )ゴガンササゲ(Ph
aseolus vu1gar土8)パセリ(Penn
isetum glaucum )ヘトロセリウム ク
リスパム(変種チーベロサム)  (Petrosel
inum crispum spp、 tuberos
um )トウヒ(Picea abies ) モ ミ  (Abies  alba  )マツルji
 (Pinus spp、)シロエントウ(Pisum
 sativum )サクシ(Prunus aviu
m )アンス(Prunus domestica )
プルヌス ダルシス(Prunus dulcis )
モモ(Prunus persica )ナシ(Pyr
us communis )サグリ(Ribes 5y
ivestre )サンザシ(Ribes uva−c
rispa )トウゴマ(Ricinus commu
nis )サトウキビ(Saccharum offi
cinarum )ライムギ(5ecale cere
ale )ゴマ(Sesamum indicum )
ジャガイモ(Solanum tuberosum )
モロコシ[I Sorghum bicolor (s
、 vulgare ) ]モロコシガヤ(Sorgh
um dochna )ホウレ カカオ ムラサ 小麦( トリテ イワツ コケモ ソラマ ビグナ 〔 ブドウ トウモ ンソウ(5pinacia oLeracea )ツキ
(Theobroma cacao )キツユクサ(T
rifolium pratense )Tritic
um  aQ8tiVum  )イカム・ ドラム(T
riticum durum )ツジ(Vaccini
um carymbosum )モ(Vacciniu
m vitis−idaea )メ(Vicia fa
ba ) シネンシス(変種ウングイキュラータ)Vigna 5
inensis (V、unguiculata ) 
〕(Vitis vinifera ) ロコシ(Zea mays ) 作用スペクトルを拡大するためおよび相乗効果を達成す
るために、テトラヒドロビラン2.4−ジオンIは、別
の除草作用または成長調整作用をイfする作用物質群の
数多くの代表例と混合し、かつ共通に散布することがで
きる。例えば、混合成分としては、ジアジン、4H−3
゜l−ベンズオキサジン誘導体、ベンゾチアジアジノン
、2,6−シニトロアニリン、N−フェニルカルバメー
ト、チオールカルバメート、ハロゲン化カルボン酸、ト
リアジン、アミド、尿素ジフェニルエーテル、ドリアジ
ノン、ウラシル、ベンゾフラン誘導体、シクロヘキサン
−1゜3−ジオン誘導体、キノリンカルボン酸誘導体、
アリールオキシフェノキシプロピオン酸、ヘテロアリー
ルオキシフェノキシプロピオン酸ならびにそれらの塩、
エステルおよびアミド等がこれに該当する。
更に、化合物Iは、単独でかまたは別の除草剤との組合
せ物でなお他の植物保護剤、例えば害虫または植物病原
性菌類もしくは細菌類を防除するための薬剤と混合して
共通に散布するのに有用である。更に、栄養不足および
微量成分不足をなくすために使用される鉱酸塩溶液との
混合可能性は、重要である。また、非植物毒性油および
濃厚部を添加することもできる。
実施例 合成例: 次の合成例に記載された方法を出発化合物の相応する変
性下に他の化合物Iの取得のために使用した。こうして
得られた化合物は、次表中に物理的記載をもって示され
ている。この記載なしの化合物は、構造的類縁性のため
に相応する生物学的作用を期待することができる。Zが
酸素原子を表わすような成長調整作用を有する化合物I
は、その基が表中に記載された除草作用を有する化合物
1に相当する。
装造例 a)6−(3−イソプロピルイソオキサゾール−5イル
)−テトラヒドロピラン−2,4−ジオンT HF 3
50 mσ中の水素化ナトリウム16゜5gを一10℃
で装入し、アセト酢酸メチルエステル6 t、5yを滴
加した。この混合物を一60℃に冷却し、これにへキサ
ン中の1.6モルのn−ブチルリチウム溶液344mQ
を添加した。添加の終結後、−60℃で30分間さらに
撹拌し、次にTHF50m12中の5−ホルミル−3イ
ソプロピルイソオキサゾール69.5yを一60℃で迅
速に滴加した。この混合物を30分間さらに撹拌し、次
にメタノール10m12を添加し、引続き酢酸309を
添加した。10分間後、氷500g上に流し込み、室温
に加熱し、かつ1時間さらに撹拌した。水相を3回塩化
メチレンで抽出し、冷却下に希塩酸でp Hを4.5に
し、かつ塩化メチレンで抽出した。この抽出液を5%の
炭酸水素す) IJウム溶液で洗浄し、水で洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥し、かつ回転蒸発器中で溶剤を取出
す。残留物をメチル第三ブチルエーテルと一緒に撹拌す
ることによって結晶させ、かつ吸引濾過する。純粋な生
成物15gが得られる。
b)3−ブチリル−6−(3−イソプロピルイソオキサ
ゾール−5−イル)−テトラヒドロピラン2.4−ジオ
ン THF200m12中の6−(3−イソプロヒルイソオ
キサゾール−5−イル)−テトラヒドロピラン2.4−
ジオン27.9gを装入し、これにトリエチルアミン1
2.69を添加した。0℃で塩化酪酸13.3gを滴加
し、かつ0℃で1時間さらに撹拌した。この混合物を蒸
発濃縮し、塩化メチレンと水との間に分配した。有機相
を後処理し、すなわち水で抽出し、10%の炭酸ナトリ
ウム溶液で抽出し、再び水で抽出し、硫酸ナトリウムで
乾燥し、かつ再び蒸発濃縮した。
残留物を無水塩化メチレンに溶解し、かつ4−(N、N
−ジメチルアミノ)−ピリジン1.3gと一緒に48時
間撹拌する。溶剤の除去後、塩化メチレンおよびメタノ
ール=98.5:1.5でシリカゲル」二でクロマトグ
ラフィー処理する。単離された化合物を僅かなシクロへ
牛サンから再結晶させる。生成物13gが得られる。
c)3−(1−エトキシイミノブチル)−6−(3−イ
ソプロピルイソオキサゾール−5−イル)−テトラヒド
ロピラン−2,4−ジオン 3−ブチリル−6−(3−イソプロピルイソオキサゾー
ル−5−イル)−テトラヒドロピラン−2,4ジオン3
9を無水メタノール30mQに溶解しこれに順次に炭酸
水素ナトリウム0.99およびエト牛シアミン塩酸塩l
、19を添加し、室温で12時間撹拌し、引続き乾燥さ
せた。残留物を塩化メチレン50rl!に入れ、1回水
で洗浄し、2回飽和炭酸水素す) IJウム溶液で洗浄
し、再び水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、かつ溶
剤を取出す。オキシムエーテル3゜1gが得られた。
1.6 1.7 1.8 1.9 1.10 プロヒル エチル アリル E−3−クロルフbブー2−エニル E−ブドー2−=ル 5−クロル−千エンー2−イルメチル 四  〜  〜  〜  〜 キ 鋲 く 4.6 4.7 4.8 4.9 4.10 4.11 4.12 4.13 4.14 4.15 4.16 4.17 エチル メチル ブロヒシレ ブロプー2−イニル 3−フルオルプロヒル Z−3−クロルプロブ−2−エニル 2−クロルプロプー2−エニル ブトー2−イニル 2−メトキンエチル E−4(4−フルオルフェニル)ブドー2−エニルE−
4(4−トリフルオルフェニル)ブドー2−エニルE−
4(+−クロルフェニル)ブドー2−エニルE−4(4
−t−7ヂルフエニル)ブドー2−二二ル工 +−I 
 工工 4.40 4.41 4.42 4.43 4.44 4.45 4.46 4.47 4.48 4.49 4.50 4.51 4.52 ブロヒシレ E−4(4−フルオルフェニル)ブドー2−エニルE−
4(4−クロルフェニル)ブドー2−エニルg−+(4
−t−ブチルフェニル)ブドー2−エニルE−4(4−
)リフルオルメチルグエニル)ブドー2−エニルF、−
4−フェニルブドー2−エニル ベンジル 4−フルオルベンジル 3−トリフルオルメチルベンジル 4−ニトロ−ことジル 4−シアノベンジル 3−クロルベンジル ナエンー2−イルメチル 5−プロムチエン−2−イルメチル 匡 嬢 5.6 5.7 5.8 5.9 5.1゜ 5.11 5.12 5.13 5.14 5.15 5.16 エチル 5−クロルナエン−2−イルメチル メチル プロヒルプ ロブ− 3−フルオルフェニル Z−3−クロルプロプ−2−エニル 2ークロルブロア゛−2−エニル ブトー2−イニル 2−メトキシエチル E−4(4−t−ブチルフェニル)ブドー2−エニルE
−4(4−フルオルフェニル)ブドー2−エニルE−4
(4−クロルフェニル)ブドー2−二二ル5、17 5、18 5、19 5、20 5、21 5、22 5、23 5、24 5、25 5、26 5、27 5、28 E−4(4−)クロルオルメチルフェニル)ブドー2に
−4−フェニルブドー2−エニル ベ々ル 4−フルオルベンジル 3−トリフルオルメチル(ンジル 4−ニトロベン・ジル 4−シアノベンジル 3−クロルベンジル チエシー2−イルメチル 5−プロムチエン−2−イルメチル ブロヒ笈 エチル アリル エチル 5.29 5,30 5.31 5.32 5.33 5.34 5.35 5.36 5.37 5.38 5.39 5.40 ブロヒンレ E−3−クロルプロブ−2−エニル E−ブドー2−エニル 5−クロルナエン−2−イルメチル メチル フ゛ロヒンレ フリブー2−イニル 3−フルオルプロヒル Z−3−クロルプロブ−2−エニル 2−クロルプロプー2−エニル ブトー2−イニル 2−メトキシエチル E−4(4−t−ブチルフェニル)ブドー2−二二ル5
.41 5.42 5.43 5.44 5.45 5.46 5.47 5.48 5.49 5.50 5.51 5.52 プロピル  E−4(4−フルオルプロヒル)ブドー2
−エニルE−4(4−クロルグエニル)7’)−2−エ
ニルE−4(4−)リフルオルメチルフェニル)ブドー
2−エニルE−4−7エニルプトー2−エニル ベンジル 4−フルオルベンジル 3−トリフルオルメチルベンジル 4−ニトロベンジル 4−シアノベンジル 3−クロルベンジル チエシー2−イルメチル 5−ブームチエン−2−イルメチル 6.14 6.15 6.16 6.17 6.18 6.19 6.20 6.21 6.22 6.23 6.24 6.25 エチル 2−メトキシエチル E−4(4−フルオルフェニル)ブドー2−エニルE−
4(4−クロルフェニル)フ゛トー2−エニルE−4(
4−トリフルオルメチルフェニル)ブドー2−エニルE
−4−7エニルブトー2−エニル ベンソル 4−フルオjVsyシル 3−トリフルオルメチルベンジル 4−ニトロへ一4ジル 4−ン了ノベンジル 3−クロルベンジル チェンー2−イルメチル 7.7 7.8 7.9 7.10 7.11 7.12 7.13 7.14 7.15 7.16 7.17 7.18 エチル フ゛ロヒシレ ブロブー2−イニル 3−フルオルソ5ヒル Z−3−クロルグーブー2−エニル 2−クロルブーブー2−エニル ブトー2−イニル 2−メトキシエチル に−4(a−t−ブチルフェニル)ブドー2−エニルE
−4(4−アルオルグエニル)ブドー2−エニルE−4
(4−クロルフェニル)ブドー2−エニルE−4(4−
)リフルオルメチルフェニル)ブドー2−エニルE−4
−フェニルブドー2−エニル 悶 饗 さe−e−e−e−ド ア、19 7.20 7.21 7.22 7.23 7.24 7.25 7.26 7.27 7.28 7.29 7.30 ベンジル 4−フルオAtくlジル 3−トリフルオルメチルベンジル 4−ニトロベンジル 4−シアノベンジル 3−クロル(アリル チエシー2−イルメチル 5−プロムチエン−2−イルメチル ブービレ  エチル アリル E−3−クロルフbブー2−エニル E−ブドー2−エニル エチル 7.31 7.32 7’、33 7.34 7.35 7.36 7.37 7.38 7.39 7.40 7.41 7.42 プロピル  5−クロルナエン−2−イルメチルメチル プロピル ′プロプー2−イニル 3−フルオルフェニルレ Z−3−クロルプロプ−2−エール 2−クロルプロブ−2−エニル ブトー2−イニル 2−メトキシエチル E−4(4−ブチルフェニル)ブドー2−エニルE−4
(4−フルオルフェニル)ブドー2−エニルp−4(+
−クロルフェニル)ブドー2−二二ル7.43 7.44 7.45 7.46 7.47 7.48 7.49 7.50 7.51 7.52 ブービル E−4(4−)リフルオルメチルフェニル)ブドー2−
エニルE−4−フェニルブドー2−エニル ベンジル 4−フルオルベンジル 3−トリフルオルメチルベンジル 4−二トロペンシル 4−シアノベンジル 3−クロルベンジル チエシー2−イルメチル 5−プロムチエン−2−イルメチル 悶 8.5 8.6 8.7 8.8 8.9 8.10 8.11 8.12 8.13 8.14 8.15 8.16 エチル 5−クロルナエン−2−イルメチル メチル プロヒシレ ブロブー2−イニル 3−フルオルクbヒシレ Z−3−クロルブ旨ブー2−エニル 2−クロルプロプ−2−エニル ブトー2−イニル 2−メトキシエチル E−4(4−t−プ乏ルクエニル)ブドー2−エニルE
−4(4−フロオルグエニル)ブ)−2−エニルE−4
(4−クロルグエニル)ブドー2にニル8.17 8.18 8.19 8.20 8.21 8.22 8.23 8.24 8.25 8.26 8.27 8.28 E−4(44リフルオルメチルクエニル)ブドー2−エ
ニルE−4−フェニルブドー2−エニル ベンジル 4−フルオルダンジル 3−トリフルオルメチルベンジル 4−ニトロベンジル 4−シアノベンジル 3−クロルベンジル チエシー2−イルメチル 5−プロムチエン−2−イルメチル ブbとル エチル アリル エチル 8.29 8.30 8.31 8.32 8.33 8.34 8.35 8.36 8.37 8.38 8.39 8.40 フ5ヒル  E−3−クロル7°ロブ−2−エニルE−
ブドー2−エニル 5−クロルナエン−2−イルメチル メチル ゛プロヒシレ ブーブー2−イニル 3−フルオルプロヒル Z−3−クロルクーブー2−エニル 2−クロルグbブー2〜エニル ブトー2−イニル 2−メトキシエチル E−4(4−ブチルフェニル)ブドー2−エニル8.4
1 8.42 8.43 8.44 8.45 8.46 8.47 8.48 8.49 8.50 8.51 8.52 ブーヒル  K−4(4−フルオルフェニル)ブドー2
−エニルE−4(4−クロルフェニル)ブドー2−エニ
ルに−4(4−)リフルオルメチルフェニル)ブドー2
−エニルE−4−7エニルブトー2−エニル ベンジル 4−フルオAハζ4ツル 3−トリフルオA4%/しぐアリル 〃     4−二トロ入こ栓ツル 4−シアノベンジル 3−クロルベンジル チエシー2−イルメチル 5−ブームチエン−2−イルメチル 9.7 9.8 9.9 9.10 9.11 9.12 9.13 9.14 9.15 9.16 9.17 9.18 エチル ブロヒシレ ブロプー2−イニル 3−フルオルプロヒル Z−3−クロルプロプ−2−エニル 2−クロルブbブー2−エニル プトー2−イニル 2−メトキシメチル に−4(4−ブチルフェニル)ブドー2−二ニルE−4
(4−フルオルフェニル)ブドー2−エニルE−4(4
−クロルフェニル)ブドー2−エニルE−+(44リフ
ルオルメチルフエニル)ブドー2−エニルE−4−フェ
ニルブドー2−エニル 惰 頃 9.19 9.20 9.21 9.22 9.23 9.24 9.25 9.26 9.27 9.28 9.29 9.30 エチル ベンジル 4−フルオルベンジル 3−トリフルオルメチルへ一ベシレ 4−ニトロベンジル 4−シアノベンジル 3−クロルへ〕dVレ チエシー2−イルメチル 5−ブームチエン−2−イルメチル ブーピル エチル アリル E−3−クロルプロブ−2−エニル E−ブドー2−エニル 9.31 9.32 9.33 9.34 9.35 9.36 9.37 9.38 9.39 9.40 9.41 9.42 ブービシ  5−クロルナエン−2−イルメチルメチル ブロヒンレ ブロプー2−イニル 3−フルオルグービル Z−3−クロルクーブー2−エニル 2−クロルグbブー2−エニル ブトー2−イニル 2−メトキシエチル E−+(a−t−プチルクエニル)ブドー2−エニルE
−4(4−フルオルフェニル)ブドー2−エニルE−4
(4−クロルフェニル)ブドー2−二二ル9.43 9.44 9.45 9.46 9.47 9.48 9.49 9.50 9.51 9.52 ブbヒシレ E−4(4−トリフルオルメチルフェニル)ブドー2−
エニルE−4−7エニルブトー2−エニル ベンジル 4−フルオ、ルヘ)べbν 3−トリフル冴ルメチ、ルベ〕べυし 4−ニトロベンジル 4−シアノベンジル 3−クロルベンジル チエシー2−イルメチル 5−ブリムチエン−2−イルメチル 閃 米 奨 oooo。
P−11−I   P−11−1+ エ   エ   エ   エ   エ e 閃 12.6 12,7 12.8 12.9 12.10 プロピル エチル アリル E−3−クロルグーブー2−エニル E−ブドー2−エニル 5−クロルナエン−2−イルメチル 13.5 13.6 13.7 13.8 13.9 13.10 エチル ブー嵯 5−クロルナエン−2−イルメチル エチル アリル E−3−クロルグーブー2−エニル E−ブドー2−エニル 5−クロルチェン−2−イルメチル 使用例 Zがオキシムエーテル基(−N OR8)を表わすよう
な式Iのテトラヒドロピラン−2,4−ジオン誘導体の
除草作用は、次の温室試験によって示すことができた: 試験植物の栽培のために、容量300cm3および基質
としての腐植土約3%を有するロート砂を有するプラス
チック鉢を使用し;ダイズ植物を栽培するために泥炭を
添加した。試験植物の種子を種類に応じて別々に浅く播
種した。
発芽前の処理法を使用する場合には、調製した作用物質
をその直後に土壌表面上に施こしたこの場合には、この
作用物質を分配剤としての水の中に懸濁させるかまたは
乳化させ、微分配ノズルを用いて噴霧した。薬剤の施与
後、発芽および成長を開始させるために容器に少;d油
水した。その後に、植物が成長するまで、この容器を透
明なプラスチックキャップで覆った。
この覆いは、これが作用物質によって損なわれない限り
、試験植物の均一な発芽を促進する。
使用量は、0.5kg/haであった。
発芽後の処理法を使用するために、試験植物を成長形に
応じて最初に3〜15cmの成長高さになるまで栽培し
、次に初めて水中に@濁させたかまたは乳化させた作用
物質で処理した。
そのために、試験植物を直蒔きし、かつ同じ容器中で栽
培するか、またはこの試験植物を子葉植物として別に栽
培し、かつ処理する数日前に試験容器中に移植する。発
芽後に処理法の場合の使用量は、lhaあたり作用物質
0.5kgである。発芽後の処理法の場合には、覆いは
不用であった。
試験容器を温室内に設置し、この場合熱帯植物種は、熱
い範囲(20〜35℃)が好ましく、温帯植物種には、
10〜20°Cが好ましかった。試験時間は、2〜4週
間に及んだ。この時間の間、植物を成育させ、個々の処
理に対する植物の反応を評価した。
0〜100の目盛りに応じて評価した。この場合、10
0は、植物の成長なしかないしは少なくとも土壌表面部
分の完全な破壊を意味し、かつ0は、損傷なしかないし
は標準の成長経過を意味する。
温室試験で使用した植物は、次の種類から構成されてい
る: 又ズメノテッポウ オートムギ イヌビエ 7キノエノコυグリ エノコログサ コノ1ギ (Alopecuzus myosuroides)(
Avena fatua) (Echinochloa crus−gal 1i)
(Setaria  fatua) (SeLaria viridis) (Trijicum  aestivum)LOMY VEFA EO(CG ETFA S酊VI RZWA 例示的に選択された作用物質4.1は、発芽後の処理法
でlhaあたり活性物質0.5 kgを使用する際に栽
培植物のために同時に認容性をもってイネ科植物に対し
て除草活性を示す。
化合物4.3は、lhaあたり活性物質0.25に9を
使用する際に温室内で望ましからぬイネ科植物を防除す
る。
Zがオキシムエーテル基(−N OR8)を表わすよう
な化合物Iは、濶葉の栽培植物中ならびにイネ科植物に
は数えられない単子葉植物類中で認容性、ひいては選択
的である。更に、この化合物Iは、コムギおよびイネの
ようなイネ科の栽培植物中で望ましからぬ草を防除する
のに適当である。
代理人 弁理士 1)代 黒 治

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼ I [式中、 R^1は水素原子;C_1〜C_6−アルコキシ基もし
    くはC_1〜C_6−アルキルチオ基によって置換され
    ていてもよいC_1〜C_6−アルキル基;C_2〜C
    _6−アルケニル基;C_2〜C_6−アルキニル基;
    1回〜3回ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、C_1
    〜C_6−アルキル基、C_1〜C_6−ハロゲン化ア
    ルキル基、C_1〜C_6−アルコキシ基および/また
    はC_1〜C_6−アルキルチオ基によって置換されて
    いてもよいフェニル基;C_1〜C_6−アルキルスル
    ホニル基;ベンゾール環で1回〜3回ハロゲン原子、ニ
    トロ基、シアノ基、C_1〜C_6−アルキル基、C_
    1〜C_6−ハロゲン化アルキル基、C_1〜C_6−
    アルコキシ基および/またはC_1〜C_6−アルキル
    チオ基によって置換されていてもよいベンゾールスルホ
    ニル基;C_2〜C_6−アルキルカルボニル基;C_
    3〜C_6−アルケニルカルボニル基;ベンゾール環で
    1回〜3回ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C_1
    〜C_6−アルキル基、C_1〜C_6−ハロゲン化ア
    ルキル基、C_1〜C_6−アルコキシ基、C_1〜C
    _6−アルキルチオ基によって置換されていてもよいベ
    ンゾイル基を表わし; R^2はC_1〜C_6−アルキル基;C_2〜C_6
    −アルケニル基;C_2〜C_6−アルキニル基;C_
    1〜C_6−ハロゲン化アルキル基;C_3〜C_6−
    シクロアルキル基を表わし; A、B、Dは=CH−および=N−を表わし;Eは酸素
    原子、硫黄原子または−NR^7−を表わし、但し、 R^7は水素原子、C_1〜C_6−アルキル基;C_
    2〜C_6−アルケニル基;C_2〜C_6−アルカノ
    イル基;ベンゾール環で1回〜3回C_1〜C_6−ア
    ルキル基、C_1〜C_6−アルコキシ基、C_1〜C
    _6−アルキルチオ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニト
    ロ基および/またはC_1〜C_6−ハロゲン化アルキ
    ル基によって置換されていてもよいベンゾイル基;ベン
    ジル基:1回〜3回ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基
    、C_1〜C_6−アルキル基、C_1〜C_6−ハロ
    ゲン化アルキル基、C_1〜C_6−アルコキシ基およ
    び/またはC_1〜C_6−アルキルチオ基によって置
    換されていてもよいフェニル基を表わすものとし; Xはハロゲン原子、C_1〜C_6−アルキル基;1回
    〜3回ハロゲン原子、C_1〜C_6−アルコキシ基お
    よび/またはC_1〜C_6−アルキルチオ基によって
    置換されていてもよいC_3〜C_6−シクロアルキル
    基;C_2〜C_6−アルケニル基;C_2〜C_6−
    アルキニル基;C_1〜C_6−アルコキシ基;C_2
    〜C_6−アルケニルオキシ基;C_1〜C_6−アル
    キルチオ基;C_1〜C_6−アルコキシカルボニル基
    ;C_2〜C_6−アルカノイルオキシ基;ベンゾール
    環で1回〜3回ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、C
    _1〜C_6−アルキル基、C_1〜C_6−アルコキ
    シ基および/またはC_1〜C_6−ハロゲン化アルキ
    ル基によって置換されていてもよいベンジルオキシ基;
    NR^5R^6;ホルミル基もしくはC_2〜C_6−
    アルカノイル基ならびにそれらのイミン、オキシムおよ
    びシッフ塩基;1回〜3回ハロゲン原子、ニトロ基、シ
    アノ基、C_1〜C_6−アルキル基、C_1〜C_6
    −アルコキシ基、C_1〜C_6−ハロゲン化アルキル
    基および/またはNR^3R^4によって置換されてい
    てもよいフェニル基を表わし; nは0、1または2を表わし、この場合X基は、nが2
    である際には異なっていてもよく; R^3、R^4、R^5、R^6は水素原子、C_1〜
    C_6−アルキル基、フェニル基、C_2〜C_6−ア
    ルカノイル基、ベンゾイル基および/またはベンジル基
    を表わし;Zは酸素原子またはオキシムエーテル基 −NOR^8を表わし、但し、 R^8は1回〜3回ハロゲン原子、C_1〜C_6−ア
    ルコキシ基および/またはC_1〜C_6−アルキルチ
    オ基によって置換されていてもよい C_1〜C_6−アルキル基またはC_2〜C_6−ア
    ルケニル基;C_2〜C_6−アルキニル基;C_2〜
    C_6−ハロゲン化アルキニル基;1回〜3回ハロゲン
    原子、ニトロ基、シアノ基、C_1〜C_6−アルキル
    基、C_1〜C_6−ハロゲン化アルキル基、C_1〜
    C_6−アルコキシ基および/またはC_1〜C_6−
    アルキルチオ基によって置換されていてもよいフェニル
    基によってそれぞれ3回まで置換されたC_1〜C_6
    −アルキル基またはC_2〜C_6−アルケニル基:1
    回〜3回ハロゲン原子によって置換されていてもよいア
    ニル基を表わす]で示されるテトラヒドロピラン−2,
    4−ジオンおよびその環境認容性の塩。 2、式 I a: ▲数式、化学式、表等があります▼ I a [式中、A、R^1、R^2、R^8、Xおよびnは請
    求項1に記載の意味を有する]で示されるテトラヒドロ
    ピランジオン。 3、除草剤において、Zが−NOR^8基を表わすよう
    な請求項1に記載の式 I のテトラヒドロピラン−2,
    4−ジオンを含有することを特徴とする、除草剤。 4、植物成長調整剤において、Zが酸素原子を表わすよ
    うな請求項1に記載の式 I のテトラヒドロピラン−2
    ,4−ジオンを含有することを特徴とする、植物成長調
    整剤。 5、望ましからぬ植物成長を防除する方法において、望
    ましからぬ植物および/または望ましからぬ植物成長を
    取除くべき表面をZが −NOR^8基を表わすような請求項1に記載の式 I
    のテトラヒドロピラン−2,4−ジオンの除草作用を有
    する量で処理することを特徴とする、望ましからぬ植物
    成長を防除する方法。 6、植物成長を調整する方法において、Zが酸素原子を
    表わすような請求項1に記載の式 I のテトラヒドロピ
    ラン−2,4−ジオンの規定された作用量を種子、植物
    および/またはその生活圏に作用させることを特徴とす
    る、植物成長を調整する方法。
JP1143196A 1988-06-07 1989-06-07 テトラヒドロピラン−2,4−ジオン、該化合物を含有する除草剤および望ましからぬ植物成長を防除する方法 Expired - Fee Related JP2872688B2 (ja)

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