JPH0281046A - ペリクル枠構造体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はＬＳＩ製造のリソグラフィー工程において使用
されるフォトマスクやレティクル等の透明基板（以下マ
スクと略す）の異物付着を防止することを目的として使
用されるペリクル枠構造体に関する。

［従来の技術］ 半導体製造においてウェハー上に微細な回路パターンを
形成する場合、ステッパー等の半導体製造装置を使用し
ている。ここで重要なのは前記半導体製造装置に組み込
まれる回路パターンを形成するためのマスクの品質であ
る。近年、大規模集積回路の発展に伴いその画線幅も非
常にｍ細になり、今後もその傾向は進むと予想され、そ
れゆえマスクの品質が半導体製造装置の稼働率や製造コ
ストに大きく影響するものとなってきている。特にマス
クに付着する異物が歩留りを低下させることが重要であ
る。この問題を解決するひとつの手段として、いわゆる
ベリ、クルを装着してマスクを異物から保護する方法が
取られている（例えば、特公昭５４−２８７１６号公報
参照）。一方、大規模集積回路がカスタム化し、多品種
少量生産の方向が強まってきつつあり、このことは多数
のマスクを使用することを意味し、マスクの保管管理の
必要性が増してきた。その際、ペリクル装着の保管は管
理上簡便であることが認められつつある。

第４図はこのような所に使われるペリクルの斜視図、第
５図はその断面図である。光学薄膜ｌがペリクル枠２に
接着層３によりシワ、クルミなく固着されている。ペリ
クル枠２の他の端面に両面テープ４を白゛し、その上に
保護フィルム５を配置した構造となっている。

このようにペリクルの光学的薄膜体は緊張した状態で枠
体に接着されており、かつ全面が均一な露光光線透過率
を有することが必要であるため、この接むに際しては、
薄膜体の張力を常に保持し、かつ使用時のエアブロ−等
によってもメ１ｊ離が生ずることのない十分な接谷強度
が要求される。

しかしながら、光学的薄膜体は、その特性上高精度の１
ろ滑面を有していることもあって、砕体との接６而から
時折剥離か生ずることがあつｔ二。

又、光学的薄膜体は、高い光線透過率を得るために、反
射防ｔコーティングを？ｊうことかあるが（たとえば特
開昭５８−１９８５０１号公報）、この場合には反射防
１１−コーティング層の接む力は反射時ＩＦコーティン
グ材料の材質あるいは膜厚の関係から強くすることが困
難であり、−層ｉｌ＋雌が生じやすいという欠点があっ
た。

Ｃ発明が解決しようとする課題］ 本発明は、こうした実情に鑑み光学的薄膜体とペリクル
枠との接着強度を改善することを目的とするものであり
、具体的にはペリクル枠と光学的薄膜体との接着強度を
高め、確実に固着したペリクル枠構造体を提供すること
を目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らは、１−記課題を解決すべく検討を車ねでき
たが、あらかじめ、薄膜体の接着部の少くとも一部に微
細な凹凸を設けることが何効であることを見出し、本発
明に至った。

すなイっち、本発明は、ペリクル枠に光学的薄膜体を接
着してなるペリクル構造体において、該光学的薄膜体の
接着面の少くとも２０％以−Ｌに、微細な凹凸が形成さ
れているペリクル枠構造体である。

以下、図面により本発明を説明する。

第１図は、接着面の少くとも一部に微細な凹凸を形成し
た光学的薄膜体を説明する図である。

第２図は、光学的薄膜体とペリクル枠との接着部を模式
的に説明する図、第３図ａは微細凹凸を形成するための
ロールの一例を示す図、第３図すはそのロール表面の一
例を示す図である。

図中、８は微細凹凸部、７はロール、８はロール表面で
ある。

この光学的薄膜体の大きさは、ペリクル枠に応じて通常
１〜８インチ径もしくは１〜８インチ角である。光学的
薄膜体６の材質は、光の透過性、膜強度等からポリマー
が使用される。ポリマーとしては、ポリエチレンテレフ
タレート、セルロースエステル類、ポリカーボネート、
ポリメタクリル酸メチル等を挙げることができ、特に一
般に好適素材として、ニトロセルロースやセルロースア
セテートが用いられている。この厚みは使用する素材に
もよるが、およそ０．３〜１５μ層の範囲である。

本発明においては、反射防止層を光学的薄膜体の片面又
は両面に設けたものにも適用することができる。このよ
うな反射防止層は通常２層積層して使用されるが、この
うち内層の素材としては、ポリスチレン、ポリエーテル
スルホン、ポリスルホン、ポリカーボネート、ポリフェ
ニレンエーテル等の比較的屈折率の高いものか用いられ
る。この膜の厚みは使用する素材、反射防止の施される
波長によって異なるが、およそ０．０５〜０．１１μｌ
の範囲である。又、反射防止層の外層の素材としては、
弗素系ポリマー　シリコーンポリマー等の低屈折率のも
のが用いられる。この膜の厚みは、使用する素材、反射
防止の施される波長によって異なるが、およそ０．０５
〜０．１２μｍの範囲である。

さて、このような光学的薄膜体から第４図のようなペリ
クルに加モするためには、接着剤を用いてペリクル枠に
確実に固定させる必要がある。本発明においては、光学
的薄膜体のペリクル枠との接着面の少くとも２０％以上
に、微細な凹凸を形成し、それによる投錨効果で接着力
を強化するものである。この凹凸は膜厚のおよそ１／３
〜２／３の深さて形成することが好ましい。

凹凸を形成する面積は、広い程接青力が向上するが、少
くとも全接告面積（ペリクル枠の投影面積）に対して２
０％以上あればペリクルとしての使用上問題はない。

又、前記の凹凸の形成法としては、各種の方法があるが
ペリクルの使用目的に照らして発塵の可能性のある手段
は採用できず、本発明においては凹凸面をもつロールを
薄膜体に転写することによる方法が好ましい。この場合
のロールの凹凸のピッチは０．ｉ〜０．８＋ｎｍ又その
押圧力は５０〜１５０ｇ程度が好ましい。又、ロールの
代りに微細凹凸面をもつ、ペリクル枠体と同じサイズの
押し具を用いることもできる。

又、本発明に使用される接着剤としては、デキストリン
、デンプン等の天然物、酢酸ビニル、アクリル樹脂等の
熱可塑性接着剤、アミノ樹脂、フェノール樹脂、エポキ
シ樹脂等の熱硬化性接着剤、ポリクロロプレン、ニトリ
ルゴム等のゴム系接着剤等がある。又、紫外線硬化型、
加熱仙化型、瞬間硬化型等の硬化の種類も種々変えられ
る。製造に要する時間を短くするためには、ポットライ
フの短い瞬間硬化型のものや紫外線硬化型のものが使い
やすい。

ペリクル枠は、一般にアルミニウム合金、プラスチック
等が使用できる。その大きさは、マスクの大きさに対応
して　１〜８ｉｎｃｈ径、または、１〜８１ｎｅｈ角程
度であり、その高さは２〜ｌＯｍｎ程度である。ペリク
ルは使用に供されるまで、清浄なケースに収納され、ゴ
ミの付着を防止する。使用に際しては、第５図の保護フ
ィルム５を剥離し、マスクに両面テープ４を介して装着
する。ステッパーに用いられるマスクにあっては、異物
の影響が極めて鋭敏に現われるため、マスクの画像側だ
けでなく、他の而にもペリクルが装着されることが多い
。

［実施例］ 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。

実施例１ 先ず平滑及村上に塗布してできた光学的薄膜体（膜厚７
．１μｌ）を、その基板に付着した状態でペリクル枠が
接着される部分を規定し、第３ａ図に示すロールを光学
的薄膜体に軽く押しつけ回転させると、そのロール表面
形状が光学的薄膜上に転写され微細な凹凸が多数できる
。この時の押しつけ力はｌｏｎｇ程度であり、ロール表
面の凹凸の突起ピッチは０．４１を使用し行い、光学的
薄膜体の約１／２程度のくぼみが生じた。

その後ペリクル枠に接着剤（エポキシ樹脂）を塗布し、
ロールにて凹凸を生じさせた部分に位置合わせを行い、
接着硬化を行う。その結果、ＴＳ２図に模式的に示すよ
うに強固に接着した。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明にしたがって、光学的薄膜
体のペリクル枠との接着面の少くとも一部に微細な凹凸
を形成することにより、その接着力は従来の平坦面接着
に比べ、格段に強固になり、接着後の剥離発生が殆どな
くなった。

また、この効果は反射防止コーティングを行った多層薄
膜体においては特に著しい。

【図面の簡単な説明】

第１図は接着面に微細な凹凸を形成した光学的薄膜体、 第２図は光学的薄膜体とペリクル枠との接着部を模式的
に説明する図、 第３ａ図は微細凹凸形成用ロールの一例を示す図、 第３ｂ図はそのロール表面の一例を示す図、第４図はべ
りタルの斜視図、 第５図は第４図のペリクルの断面を示す図。 ｌ・・・光学的薄膜体、２・・・ペリクル枠、３・・・
接着剤、４・・・両面テープ、５・・・保護フィルム、
６・・・微細凹凸部、７・・・ロール、訃・・ロール表
面。 特許出願人　旭化成電子株式会社 代理人　弁理士　小　松　秀　岳

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ペリクル枠に光学的薄膜体を接着してなるペリクル枠構
   造体において、該光学的薄膜体の接着面の少くとも２０
   ％以上に、微細な凹凸が形成されていることを特徴とす
   るペリクル枠構造体。