JPH0276744A - スリットノズルインクジェットヘッド及びスリットノズル板の製造方法 - Google Patents
スリットノズルインクジェットヘッド及びスリットノズル板の製造方法Info
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- JPH0276744A JPH0276744A JP23032788A JP23032788A JPH0276744A JP H0276744 A JPH0276744 A JP H0276744A JP 23032788 A JP23032788 A JP 23032788A JP 23032788 A JP23032788 A JP 23032788A JP H0276744 A JPH0276744 A JP H0276744A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
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- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/1433—Structure of nozzle plates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/11—Embodiments of or processes related to ink-jet heads characterised by specific geometrical characteristics
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ノンインパクトプリンティング技術に関する
ものでわり、特に、記録インクを記録媒体上に飛翔させ
て記録を行うインクジェット記録技術に用いられるイン
クジェットへ、ドの構造及びその製法に関するものであ
る〇 〔従来の技術〕 従来、ノンインパクトプリンティング技術において、記
録インク中の発熱体を加熱し、そのときに発生する蒸気
1包の圧力によってインク滴を形成飛翔させて記録を行
う技術があり、これについては、ヒ、−レ、ト・パラカ
ード・ジャーナル(HEWLETT@PAcKRD、J
OURNAL )第36巻、第5号に記載されている。
ものでわり、特に、記録インクを記録媒体上に飛翔させ
て記録を行うインクジェット記録技術に用いられるイン
クジェットへ、ドの構造及びその製法に関するものであ
る〇 〔従来の技術〕 従来、ノンインパクトプリンティング技術において、記
録インク中の発熱体を加熱し、そのときに発生する蒸気
1包の圧力によってインク滴を形成飛翔させて記録を行
う技術があり、これについては、ヒ、−レ、ト・パラカ
ード・ジャーナル(HEWLETT@PAcKRD、J
OURNAL )第36巻、第5号に記載されている。
第8図を用いて、この技術について説明する0第8図(
a)の断圓図に示すように、記録へ、ドは、ノズル孔8
18を有するノズル板802、基板806及び発熱体8
12などから構成されている。
a)の断圓図に示すように、記録へ、ドは、ノズル孔8
18を有するノズル板802、基板806及び発熱体8
12などから構成されている。
各発熱体毎にインク室822t−設けるために、ノズル
板802には壁808が多数個形成されているO 第8図(b)にノズル板802の平面図を示す。この図
よりわかるように、ノズル孔818と壁808と°を交
互に形成することにより、マルチノズル化を実現してい
る・このノズル孔818と発熱体812は1対1に対応
し、更にほぼ同一軸上に並んでいる〇 このようなヘッドにおいて、発熱体812に1流を流し
、発熱させることにより接した記録インク804を急激
に気化させ蒸気バブル810を作るO このときの急激な体積膨張によ多ノズル孔818よりイ
ンク1sooを噴射するものである。
板802には壁808が多数個形成されているO 第8図(b)にノズル板802の平面図を示す。この図
よりわかるように、ノズル孔818と壁808と°を交
互に形成することにより、マルチノズル化を実現してい
る・このノズル孔818と発熱体812は1対1に対応
し、更にほぼ同一軸上に並んでいる〇 このようなヘッドにおいて、発熱体812に1流を流し
、発熱させることにより接した記録インク804を急激
に気化させ蒸気バブル810を作るO このときの急激な体積膨張によ多ノズル孔818よりイ
ンク1sooを噴射するものである。
なお、図中816はメニスカスである。
しかしながら、上術した従来技術に於ける記録ヘッドは
、各発熱体毎にそれぞれインク室822を設けているた
めに、ノズル板側に発熱体812の数と同数以上の壁を
形成する必要がある。このため、記録密度を高めること
が困難である0また各発熱体812ごとにノズル孔81
8を設けているので、発熱体812の密度をあげてマル
チノズル型のへ、ドを構成しようとした場合、ノズル孔
818ごとの位置合わせが困難であプ、更には平板上に
平面的なノズル孔を形成しているため、各ノズル孔表面
近傍でのインクに対する濡れ状態の影響を受は安く、イ
ンク滴噴射特性にばらつきを生ずる。
、各発熱体毎にそれぞれインク室822を設けているた
めに、ノズル板側に発熱体812の数と同数以上の壁を
形成する必要がある。このため、記録密度を高めること
が困難である0また各発熱体812ごとにノズル孔81
8を設けているので、発熱体812の密度をあげてマル
チノズル型のへ、ドを構成しようとした場合、ノズル孔
818ごとの位置合わせが困難であプ、更には平板上に
平面的なノズル孔を形成しているため、各ノズル孔表面
近傍でのインクに対する濡れ状態の影響を受は安く、イ
ンク滴噴射特性にばらつきを生ずる。
また第2の問題点をg9図に示す・これはノズル孔近傍
での濡れ状態によるメニスカ表形状の差及びインク滴噴
射状態の差を示している@ll1g9図(a)はノズル
孔近傍が軸対称に均一に濡れている状態を示している・
この状態をいつも保てれば、同図+alの右側の図に示
すようにインク滴は常に安定な飛翔特性を示す・しかし
ながら第9図(b)、及び第9図(C)に示すように、
ノズル孔近傍が必要以上に濡れたり、また非軸対称に捕
れたりした場合、同図(b) 、 tc)の右側の図に
示すように、インクt4運度、インク滴体積及びインク
滴飛翔方向の不安定性を引き起こす@本発明の目的は、
上記の問題点を解決し、常に安定な飛翔特性が得られる
高記録密度の平面走査型インクジェットヘッド及びメブ
型スリットノズル板の製法を提供することにある0 〔課題を解決するための手段〕 本発明のインクジェットへ、ドは、記録インクを急激に
加熱して噴射エネルギーを与える発熱体アレイ、発熱体
アレイ上に形成された保護層、保護層上の発熱体間に発
熱体アレイと同ピツチで形成された壁アレイとから成る
基板と、 基板と対向配置されるスリ、トノズル板であって、前記
記録インクを前記基板との間で保持すると共に、前記記
録インクを一定方向にかつ安定に噴射するためのメチ状
でかつスリット状のノズル孔が前記発熱体アレイ上に平
行に対向させて配置さね、かつ該スリ、トノズル孔近傍
に形成されたインクリザーバ及び補助メニスカスアレイ
を備えたスリ、トノズル板と、 前記記録インクが満たされ、前記基板の裏面に形成され
たインクタンクよ#)構成されたことを特徴とし、 父上記のインクジェットヘッドに用いるスリットノズル
板の製法は、絶縁性の樹脂基板上に吹骨導′鑞性感光樹
脂を用いてインクリザーバ部、スリットノズル部、補助
孔部を形成する工程と、該導電感光樹脂を電極として、
鍍金を行う工程と、前記スリットノズル部及び前記補助
孔部に、絶縁性感光樹脂を前記ノズル板の厚さ程度フォ
トリングラフイー技術を用いて形成する工程と、前記イ
ンクリザーバ部に導電感光樹脂を数百〜数千オングスト
ローム形成する工程と、この状態で再び鍍金を前記ノズ
ル板の卑さ程度だけ行う工程と、最後に前記導電感光樹
脂、及び前記絶縁性感光樹脂を溶剤を用いて溶解する工
程とに依って構成されておシ、 更に、もう1つのスリ、トノズル板の製法は、絶縁性の
樹脂基板を用意し、金属IIを用いて前記インクリザー
バ部、前記スリ、トノズル部、前記補助孔部などを蒸着
法、スパッタ法などで形成する工程と、前記金属膜を電
極として、金鍍金を数千オングストローム厚行う工程と
、前記インクインクリザーバ部に導電感光樹脂を数百〜
数千オングストローム形成する工程と、前記スリ、トノ
ズル部及び前記補助孔部にノズル板の厚さ程度だけ、絶
縁性感光樹脂をフォトリソグラフィー技術を用いて形成
する工程と、この状態で再び二、ケル鍍金を前記ノズル
板の厚さ程度だけ行う工程と、最後に前記金属膜、及び
前記絶縁性感光樹脂を溶剤を用いて溶解し、更に前記金
属膜を選択工、チングする工程に依って構成される。
での濡れ状態によるメニスカ表形状の差及びインク滴噴
射状態の差を示している@ll1g9図(a)はノズル
孔近傍が軸対称に均一に濡れている状態を示している・
この状態をいつも保てれば、同図+alの右側の図に示
すようにインク滴は常に安定な飛翔特性を示す・しかし
ながら第9図(b)、及び第9図(C)に示すように、
ノズル孔近傍が必要以上に濡れたり、また非軸対称に捕
れたりした場合、同図(b) 、 tc)の右側の図に
示すように、インクt4運度、インク滴体積及びインク
滴飛翔方向の不安定性を引き起こす@本発明の目的は、
上記の問題点を解決し、常に安定な飛翔特性が得られる
高記録密度の平面走査型インクジェットヘッド及びメブ
型スリットノズル板の製法を提供することにある0 〔課題を解決するための手段〕 本発明のインクジェットへ、ドは、記録インクを急激に
加熱して噴射エネルギーを与える発熱体アレイ、発熱体
アレイ上に形成された保護層、保護層上の発熱体間に発
熱体アレイと同ピツチで形成された壁アレイとから成る
基板と、 基板と対向配置されるスリ、トノズル板であって、前記
記録インクを前記基板との間で保持すると共に、前記記
録インクを一定方向にかつ安定に噴射するためのメチ状
でかつスリット状のノズル孔が前記発熱体アレイ上に平
行に対向させて配置さね、かつ該スリ、トノズル孔近傍
に形成されたインクリザーバ及び補助メニスカスアレイ
を備えたスリ、トノズル板と、 前記記録インクが満たされ、前記基板の裏面に形成され
たインクタンクよ#)構成されたことを特徴とし、 父上記のインクジェットヘッドに用いるスリットノズル
板の製法は、絶縁性の樹脂基板上に吹骨導′鑞性感光樹
脂を用いてインクリザーバ部、スリットノズル部、補助
孔部を形成する工程と、該導電感光樹脂を電極として、
鍍金を行う工程と、前記スリットノズル部及び前記補助
孔部に、絶縁性感光樹脂を前記ノズル板の厚さ程度フォ
トリングラフイー技術を用いて形成する工程と、前記イ
ンクリザーバ部に導電感光樹脂を数百〜数千オングスト
ローム形成する工程と、この状態で再び鍍金を前記ノズ
ル板の卑さ程度だけ行う工程と、最後に前記導電感光樹
脂、及び前記絶縁性感光樹脂を溶剤を用いて溶解する工
程とに依って構成されておシ、 更に、もう1つのスリ、トノズル板の製法は、絶縁性の
樹脂基板を用意し、金属IIを用いて前記インクリザー
バ部、前記スリ、トノズル部、前記補助孔部などを蒸着
法、スパッタ法などで形成する工程と、前記金属膜を電
極として、金鍍金を数千オングストローム厚行う工程と
、前記インクインクリザーバ部に導電感光樹脂を数百〜
数千オングストローム形成する工程と、前記スリ、トノ
ズル部及び前記補助孔部にノズル板の厚さ程度だけ、絶
縁性感光樹脂をフォトリソグラフィー技術を用いて形成
する工程と、この状態で再び二、ケル鍍金を前記ノズル
板の厚さ程度だけ行う工程と、最後に前記金属膜、及び
前記絶縁性感光樹脂を溶剤を用いて溶解し、更に前記金
属膜を選択工、チングする工程に依って構成される。
本発明では、インク調を噴射するために従来から用いら
れている円形ノズル孔にかえて前記円形ノズル孔数lθ
〜数100個分の長さを持つスリ、ト状のノズル孔(ス
リ、トノスル孔)をノズル板に設けると共に、その断面
形状をインク噴射方向に凸ないわゆるメサ形状のノズル
としている。
れている円形ノズル孔にかえて前記円形ノズル孔数lθ
〜数100個分の長さを持つスリ、ト状のノズル孔(ス
リ、トノスル孔)をノズル板に設けると共に、その断面
形状をインク噴射方向に凸ないわゆるメサ形状のノズル
としている。
更に発熱体アレイアレイを備える基板には、凸形状の壁
をこの発熱体アレイ間にこれと同ピツチで交互に形成し
く壁プレイと呼ぶ)、前記発熱体アレイの配列方向に平
行に対向させている・この状態で記録インクを注入しス
リットノズル孔内にインクメニスカスを形成した場合、
メチ型ノズル孔の肉厚を数ミクロン程度に薄くできるた
め、ノズル孔表面でのインクの濡れ状態の影響を少なく
できる。つまシ作製条件、使用環境の差によるノズル孔
の表面状態のばらつきの影響を従来からの平面的なノズ
ル孔形状に比べて小さく抑えることができる。
をこの発熱体アレイ間にこれと同ピツチで交互に形成し
く壁プレイと呼ぶ)、前記発熱体アレイの配列方向に平
行に対向させている・この状態で記録インクを注入しス
リットノズル孔内にインクメニスカスを形成した場合、
メチ型ノズル孔の肉厚を数ミクロン程度に薄くできるた
め、ノズル孔表面でのインクの濡れ状態の影響を少なく
できる。つまシ作製条件、使用環境の差によるノズル孔
の表面状態のばらつきの影響を従来からの平面的なノズ
ル孔形状に比べて小さく抑えることができる。
また同様に、インク作製時のインク物性値のばらつき、
及びインク使用時の経時変化によるインク物性値の変化
によるメニスカスの変動を小さくできる。
及びインク使用時の経時変化によるインク物性値の変化
によるメニスカスの変動を小さくできる。
更に、各ノズル孔近傍での濡れ面積を一定にできるため
、色々な画像記録周波数に従ってノズル孔からインク滴
を噴射した場合でも、各メニスカスの復帰時間、及び復
帰位置のばらつきを小さく抑えられる。このため、各ノ
ズル位置から噴射するインク滴体積、噴射速度のばらつ
きを抑えた安定なインク噴射を実現できる。
、色々な画像記録周波数に従ってノズル孔からインク滴
を噴射した場合でも、各メニスカスの復帰時間、及び復
帰位置のばらつきを小さく抑えられる。このため、各ノ
ズル位置から噴射するインク滴体積、噴射速度のばらつ
きを抑えた安定なインク噴射を実現できる。
第1LNは本発明に於けるスリットノズルインクジェッ
トへ、ドの構成を示す斜視断面図である。
トへ、ドの構成を示す斜視断面図である。
本インクジェットへ、ドは、スリットノズル板103、
スペーt100、基板107及びインクタンク111な
どから構成されている・基板107上には前述したよう
に発熱体アレイ108、壁アレイ105.インク供給孔
アレイ109などが形成されている。
スペーt100、基板107及びインクタンク111な
どから構成されている・基板107上には前述したよう
に発熱体アレイ108、壁アレイ105.インク供給孔
アレイ109などが形成されている。
第2図は本発明に於けるインクジェットへ、ドのノズル
近傍を説明したX−2平面での斜視断面図である@ ノズル板上にはインクリザーバ20、スリット状のノズ
ル孔(スリットノズル孔)202、補助孔203などが
配置されている・材料としては後述するようにN i
* A u eステンレス等を用いている。
近傍を説明したX−2平面での斜視断面図である@ ノズル板上にはインクリザーバ20、スリット状のノズ
ル孔(スリットノズル孔)202、補助孔203などが
配置されている・材料としては後述するようにN i
* A u eステンレス等を用いている。
インクリザーバ201はインクがインク供給口204か
らノズル孔202までメニスカスの力で供給される際の
流体抵抗を小さくシ、供給スピードを速めるためのもの
でアシ、スリットノズル孔から1!藝離れて平行に、幅
1!、基板からの高さはh3で形成されている。
らノズル孔202までメニスカスの力で供給される際の
流体抵抗を小さくシ、供給スピードを速めるためのもの
でアシ、スリットノズル孔から1!藝離れて平行に、幅
1!、基板からの高さはh3で形成されている。
凸型のスリットノズル孔202Fi、前述したように、
発熱体アレイ205上方に間隔り、を隔て平行に位置し
てφる・凸部の高さはh4s先端部の肉厚はl1mスリ
、トノスル孔の幅は13であるO 補助孔203は、スリットノズル孔202のメニスカス
復帰を速くシ、且つ該メニスカス表面の不必要な振動を
早期に減衰させる役目をするものであシ、直径14s高
さ13の円形凸形状のものがスリットノズル孔202か
ら1ieMれて平行に、配列ピッチ11mで形成されて
いる。
発熱体アレイ205上方に間隔り、を隔て平行に位置し
てφる・凸部の高さはh4s先端部の肉厚はl1mスリ
、トノスル孔の幅は13であるO 補助孔203は、スリットノズル孔202のメニスカス
復帰を速くシ、且つ該メニスカス表面の不必要な振動を
早期に減衰させる役目をするものであシ、直径14s高
さ13の円形凸形状のものがスリットノズル孔202か
ら1ieMれて平行に、配列ピッチ11mで形成されて
いる。
スベー?207を介してノズル板と対向して配置された
基板上には前述したように発熱体アレイ205(淳さ1
1o、大きさ11!X1ts)、壁アレイ206(高さ
hl、長さlle幅111)などがフォトリングラフィ
技術を用いて形成されている。
基板上には前述したように発熱体アレイ205(淳さ1
1o、大きさ11!X1ts)、壁アレイ206(高さ
hl、長さlle幅111)などがフォトリングラフィ
技術を用いて形成されている。
発熱体プレイ材料としては、’ri、Mo、w、v#N
b、Zr、’lX、Hf、Bなどの珪化物、炭化物、電
化物、#1う化物または、ニクロム等を用いている。発
熱体アレイ205の上には、電極208、保護層209
が各々is e lyの厚みで形成されている0核保絃
層材料としては、無機系では例えば、シリコンの炭化物
、窒化物、酸化物、また有機系としてはポリイミド、ポ
リベンズイミダゾールおよびそのプレポリマー、ポリ中
すリン、ポリパラフェニレン、ポリフェニレンプルファ
イドなどを用いている。また発熱体アレイ205の下に
は熱絶縁層(断熱層)210が厚さ1審で形成されて−
る・材料としては、無機系では例えは、シリコンの炭化
物、窒化物、酸化物、また有機系としてはポリイミド、
ポリベンズイミダゾールおよびそのプレポリマー、ポリ
キテリン、ポリパラフェニレン、ポリフェニレンプルフ
ァイドなど’に用いている◎ ここで前述した各寸法(11〜Xta及びh1〜ha)
の具体例を示す。
b、Zr、’lX、Hf、Bなどの珪化物、炭化物、電
化物、#1う化物または、ニクロム等を用いている。発
熱体アレイ205の上には、電極208、保護層209
が各々is e lyの厚みで形成されている0核保絃
層材料としては、無機系では例えば、シリコンの炭化物
、窒化物、酸化物、また有機系としてはポリイミド、ポ
リベンズイミダゾールおよびそのプレポリマー、ポリ中
すリン、ポリパラフェニレン、ポリフェニレンプルファ
イドなどを用いている。また発熱体アレイ205の下に
は熱絶縁層(断熱層)210が厚さ1審で形成されて−
る・材料としては、無機系では例えは、シリコンの炭化
物、窒化物、酸化物、また有機系としてはポリイミド、
ポリベンズイミダゾールおよびそのプレポリマー、ポリ
キテリン、ポリパラフェニレン、ポリフェニレンプルフ
ァイドなど’に用いている◎ ここで前述した各寸法(11〜Xta及びh1〜ha)
の具体例を示す。
is = loOJm〜1000/Jm1g = 10
0om〜1mm l5 wx 10jjrn−100μm14 == s
oam〜sooμm 1B−1μm〜20 μm 1s =s+ 5Jlfn〜604m 17 W 10 nm〜l Oμm 1m ” 10om−=5μm l―=1μm〜loOμm 11(1= l Ofl mm5 μm111; 30
Am〜100#m 1ts:: 30 μm 〜400 μmI
I$ −100fi mml mm114− 300μ
m〜5mm 11g=300μm〜5mm 1ie−30μm〜150μm 1it =10 μm〜100Arnh、” 10
4m”’=200μm t1m−10Am〜250 μm ha g 10 Am〜80 am第3図は、スリ
、トノズル孔近傍でのY−Z平面に於ける斜視断面図で
ある0壁アレイ206は発熱体アレイ205と同ビ、チ
で形成されている。
0om〜1mm l5 wx 10jjrn−100μm14 == s
oam〜sooμm 1B−1μm〜20 μm 1s =s+ 5Jlfn〜604m 17 W 10 nm〜l Oμm 1m ” 10om−=5μm l―=1μm〜loOμm 11(1= l Ofl mm5 μm111; 30
Am〜100#m 1ts:: 30 μm 〜400 μmI
I$ −100fi mml mm114− 300μ
m〜5mm 11g=300μm〜5mm 1ie−30μm〜150μm 1it =10 μm〜100Arnh、” 10
4m”’=200μm t1m−10Am〜250 μm ha g 10 Am〜80 am第3図は、スリ
、トノズル孔近傍でのY−Z平面に於ける斜視断面図で
ある0壁アレイ206は発熱体アレイ205と同ビ、チ
で形成されている。
第4図は本発明によるインクジェットヘッドのインク滴
飛翔速度特性を説明した図である。横軸はインク滴吐出
周期、縦軸はインク滴飛翔速度を示している@実線が本
発明のスリットノズル型インクジェットヘッドの特性で
あり、破線が従来からのドロップオンデイマント型イン
クジェットへ、ドのものである。従来例に示されている
インク滴飛翔速度の周波数分散が本実施例では解決され
ていることが解る。
飛翔速度特性を説明した図である。横軸はインク滴吐出
周期、縦軸はインク滴飛翔速度を示している@実線が本
発明のスリットノズル型インクジェットヘッドの特性で
あり、破線が従来からのドロップオンデイマント型イン
クジェットへ、ドのものである。従来例に示されている
インク滴飛翔速度の周波数分散が本実施例では解決され
ていることが解る。
第5図は、本発明によるインクジェットヘッドのインク
滴体積特性を説明した図である。横軸はインク滴吐出周
期、縦軸はインク滴体積を示している。実線が本発明の
スリ、トノズル型インクジェットヘッドの特性でアシ、
破線が従来からのドロップオンデイマント型インクジェ
ットヘッドのものである・従来例に示されているインク
滴飛翔速体積の周波数分散が本実施例では解決されてい
ることが解る。
滴体積特性を説明した図である。横軸はインク滴吐出周
期、縦軸はインク滴体積を示している。実線が本発明の
スリ、トノズル型インクジェットヘッドの特性でアシ、
破線が従来からのドロップオンデイマント型インクジェ
ットヘッドのものである・従来例に示されているインク
滴飛翔速体積の周波数分散が本実施例では解決されてい
ることが解る。
第4図及び第5図より明らかなように本発明によるスリ
ットノズル型インクジェットヘッドは安定なインク吐出
特性を実現できる。
ットノズル型インクジェットヘッドは安定なインク吐出
特性を実現できる。
第6図+8)〜げ)は本発明のインクジェットへ、ドに
用いるメを型ノズル板の製造方法についての実施例であ
る。
用いるメを型ノズル板の製造方法についての実施例であ
る。
まず絶縁性の樹脂基板601を用意する(s6図fat
)、本実施例では、メタクリル樹脂、プラスチック、
ビニル、アクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
、テトラフルオロエチレンなどを用いている・次に導電
性感光樹脂605(厚さh′4)を用いてインクリザー
バ部602(長さ1′り、スリットノズル部603(長
さ1’@ ) s補助孔部604(長さ1′4)などを
形成する(46図(bl)。
)、本実施例では、メタクリル樹脂、プラスチック、
ビニル、アクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
、テトラフルオロエチレンなどを用いている・次に導電
性感光樹脂605(厚さh′4)を用いてインクリザー
バ部602(長さ1′り、スリットノズル部603(長
さ1’@ ) s補助孔部604(長さ1′4)などを
形成する(46図(bl)。
1’ss l’3e 1’4は各々
1/、 = 12− II
′1′sIg118−1@
1’4 am 14−11
h ’4−h 4− I B
を満たす。次に前記導電感光樹脂605を・電極として
、麓金を行う(第6図(C) ) 、 #金淳は、であ
る。次にスリットノズル部603及び補助孔部604に
谷々幅13及び14、高さ、+h’番だけ、絶縁性感光
樹脂606をフォトリングラフイー技術を用いて形成す
る。同時にインクリザーバ部602に導′4感光樹脂6
07t−数百〜数千オンゲス)o−ム形成する(第6図
(d) ) にの状態で再び鍍金を厚さl’、(+al
s−1s)だけ行うCl46図(e))・最後に前記導
電感光樹脂605、及び前記絶縁性感光樹脂606を溶
剤を用いて溶解することに依って所望の形状のメサ型ノ
ズル板を作ることができる(第6図(f))。ここで、
ノズル板の厚さ16と独立に非常に肉厚の薄く且つそそ
シ立ったスリ、トノスル孔608が得られることを強調
しておく。なお本実施例では、導電感光樹脂605.6
07としてポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリ
パラフェニド、ポリピロール。
、麓金を行う(第6図(C) ) 、 #金淳は、であ
る。次にスリットノズル部603及び補助孔部604に
谷々幅13及び14、高さ、+h’番だけ、絶縁性感光
樹脂606をフォトリングラフイー技術を用いて形成す
る。同時にインクリザーバ部602に導′4感光樹脂6
07t−数百〜数千オンゲス)o−ム形成する(第6図
(d) ) にの状態で再び鍍金を厚さl’、(+al
s−1s)だけ行うCl46図(e))・最後に前記導
電感光樹脂605、及び前記絶縁性感光樹脂606を溶
剤を用いて溶解することに依って所望の形状のメサ型ノ
ズル板を作ることができる(第6図(f))。ここで、
ノズル板の厚さ16と独立に非常に肉厚の薄く且つそそ
シ立ったスリ、トノスル孔608が得られることを強調
しておく。なお本実施例では、導電感光樹脂605.6
07としてポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリ
パラフェニド、ポリピロール。
ポリチェニレンなどを用いている0また絶縁性感光樹脂
606としてポリビニールアルコール、ポリイミド、ボ
リアきド、ポリビニレンナメートなどを用いている。
606としてポリビニールアルコール、ポリイミド、ボ
リアきド、ポリビニレンナメートなどを用いている。
第7図(a)〜(f)はインクジェットヘッドのメサ型
ノズル板の製造方法についてのもう1つの実施例である
。
ノズル板の製造方法についてのもう1つの実施例である
。
まず絶縁性の樹脂基板701を用意する・本実施例では
、メタクリル樹脂、プラスチ、り、ビニル、アクリル樹
脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、テトラフルオロエ
チレンなどを用いている0次に金属[705(厚すh’
a ) tM層着法スバ。
、メタクリル樹脂、プラスチ、り、ビニル、アクリル樹
脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、テトラフルオロエ
チレンなどを用いている0次に金属[705(厚すh’
a ) tM層着法スバ。
り法を用−て形成し、インクリザーバ部702(長さ1
’、)%スリ、トノズル部703(長さI’s)、補助
孔W1704(長さ1′4)などを形成する(第7図(
a)) o 1’1 * I’s * 1’4は各々、
I’s =1m −11 1’@ xls−1゜ 1/、 =14−1゜ h’4寓h4 1゜ を満たす。次に前記金属膜705を″電極として、金鍍
金を行う(第7図(b))・鍍金厚は、である。
’、)%スリ、トノズル部703(長さI’s)、補助
孔W1704(長さ1′4)などを形成する(第7図(
a)) o 1’1 * I’s * 1’4は各々、
I’s =1m −11 1’@ xls−1゜ 1/、 =14−1゜ h’4寓h4 1゜ を満たす。次に前記金属膜705を″電極として、金鍍
金を行う(第7図(b))・鍍金厚は、である。
次に、インクインクリザーバ部702に導電性感光樹脂
707を数百〜数千オングストローム形成する(第7図
(C))・次にスリ、トノズル部703及び補助孔部7
04に各々幅13及び14e高さl・+h′4だけ、絶
縁性感光樹15w706をフォトリソグラフィー技術を
用−て形成する(第7図(d))・この状態で再びニッ
ケル鍍金を厚さ1′・(=16−1纒)だけ行う(第7
図(e))。最後に金属111705゜及び前記絶縁性
感光樹脂706を溶剤を用−て溶解することに依って所
望の形状のメtmノズル板を作ることができる(第7図
げ))oことで、ノズル板の厚さ16と独立に非常に肉
厚の薄く且つそそり立ったスリットノズル孔が獲られる
ことを強調しておく@なお本実施例では一4′&E感光
樹脂707としてポリアセチレン、ポリパラフェニレン
、ポリパラフェード。ポリピロール、ポリチエニレyな
どを用いているもまた絶縁性感光樹脂706としてポリ
ビニールアルコール、ポリイミド、ポリアミド、ポリビ
ニレンナメートなどを用いている・更に、金属膜705
としては、ニッケを鍍金層との選択エッチ特性を考慮し
て、例えばCuなどを用−ている・ 〔効果〕 以上説明したよりに、本発明によるインクジェットイン
クジェットへ、ドによれば、メブ型のスリットノズル孔
をノズル板に形成するため、従来のマルチノズル型ライ
ンインクジェットへ、ドに比べて、発熱体アレイ毎の目
合わせが不用とな坑容易に高密度化を達成で龜、更に大
きなライン型インクジェットヘッドが実現可能となる・
更にノズル孔をメサ型立体構造とすることによって、イ
ンク物性値、インクジェットヘッド使用環境及び作製条
件等に起因する各ノズル孔でのインクメニスカスのばら
つきを小さく抑えることができ、各ノズル位置から噴射
するインク滴体積。
707を数百〜数千オングストローム形成する(第7図
(C))・次にスリ、トノズル部703及び補助孔部7
04に各々幅13及び14e高さl・+h′4だけ、絶
縁性感光樹15w706をフォトリソグラフィー技術を
用−て形成する(第7図(d))・この状態で再びニッ
ケル鍍金を厚さ1′・(=16−1纒)だけ行う(第7
図(e))。最後に金属111705゜及び前記絶縁性
感光樹脂706を溶剤を用−て溶解することに依って所
望の形状のメtmノズル板を作ることができる(第7図
げ))oことで、ノズル板の厚さ16と独立に非常に肉
厚の薄く且つそそり立ったスリットノズル孔が獲られる
ことを強調しておく@なお本実施例では一4′&E感光
樹脂707としてポリアセチレン、ポリパラフェニレン
、ポリパラフェード。ポリピロール、ポリチエニレyな
どを用いているもまた絶縁性感光樹脂706としてポリ
ビニールアルコール、ポリイミド、ポリアミド、ポリビ
ニレンナメートなどを用いている・更に、金属膜705
としては、ニッケを鍍金層との選択エッチ特性を考慮し
て、例えばCuなどを用−ている・ 〔効果〕 以上説明したよりに、本発明によるインクジェットイン
クジェットへ、ドによれば、メブ型のスリットノズル孔
をノズル板に形成するため、従来のマルチノズル型ライ
ンインクジェットへ、ドに比べて、発熱体アレイ毎の目
合わせが不用とな坑容易に高密度化を達成で龜、更に大
きなライン型インクジェットヘッドが実現可能となる・
更にノズル孔をメサ型立体構造とすることによって、イ
ンク物性値、インクジェットヘッド使用環境及び作製条
件等に起因する各ノズル孔でのインクメニスカスのばら
つきを小さく抑えることができ、各ノズル位置から噴射
するインク滴体積。
噴射速度のばらつきを抑えた安定なインク噴射を実現で
なる。
なる。
また、本発明の凸型ノズル板の製法によれば、従来に比
べより肉厚の薄く且つそそシ立ったメサ型立体構造のノ
ズル孔が容易に実現できる04、図の簡単な説明 第1図は本発明に於けるスリットノズルインクジェット
へ、ドの構成を示す斜視断面図でおるや第2図は本発明
に於けるインクジェットへ、ドのノズル近傍を説明した
X−Z平面での斜視断面図である◎ 第3図は、スリ、トノズル孔近傍でのY−Z平面に於け
る斜視断面図である@ 第4図は本発明によるインクジェットヘッドのインク滴
飛翔速度特性を説明した図である。
べより肉厚の薄く且つそそシ立ったメサ型立体構造のノ
ズル孔が容易に実現できる04、図の簡単な説明 第1図は本発明に於けるスリットノズルインクジェット
へ、ドの構成を示す斜視断面図でおるや第2図は本発明
に於けるインクジェットへ、ドのノズル近傍を説明した
X−Z平面での斜視断面図である◎ 第3図は、スリ、トノズル孔近傍でのY−Z平面に於け
る斜視断面図である@ 第4図は本発明によるインクジェットヘッドのインク滴
飛翔速度特性を説明した図である。
第5図は、本発明によるインクジェットヘッドのインク
滴体積特性を説明したーである。
滴体積特性を説明したーである。
第6図及び第7図は本発明のインクジェットヘッドのノ
ズル板の製造方法についての実施例を示す図である。
ズル板の製造方法についての実施例を示す図である。
第8図は、従来のインクジェットヘッドのインク宣近傍
の構造について説明を行うための断面図である・ 第9図は、従来のインクジェットヘッドに於て平面ノズ
ルを用−た場合のインクメニスカスの状態に依存したイ
ンク滴飛翔状態について説明を行うための断面図である
。
の構造について説明を行うための断面図である・ 第9図は、従来のインクジェットヘッドに於て平面ノズ
ルを用−た場合のインクメニスカスの状態に依存したイ
ンク滴飛翔状態について説明を行うための断面図である
。
Claims (3)
- (1)記録インクを急激に加熱して噴射エネルギーを与
える発熱体アレイ、発熱体アレイ上に形成された保護層
、保護層上の発熱体間に発熱体アレイと同ピッチで形成
された壁アレイとから成る基板と、 記録インクを一定方向にかつ安定に噴射するためのメサ
状でかつスリット状のノズル孔とスリット状のノズル孔
近傍に形成されたインクリザーバ及び補助孔とを備えて
、前記ノズル孔が前記発熱体アレイ上に平行に対向配置
するように前記基板に対向配置されたスリットノズル板
と、 記録インクが満たされ、前記基板の裏面に形成されたイ
ンクタンクと より構成されたスリットノズルインクジェットヘッド。 - (2)導電性感光樹脂を用いて絶縁性の樹脂基板上にイ
ンクリザーバ部、スリットノズル部、補助孔部を形成す
る工程と、該導電感光樹脂を電極として、鍍金を行う工
程と、フォトリソグラフィー技術を用いて前記スリット
ノズル部及び前記補助孔部に、絶縁性感光樹脂を前記ノ
ズル板の厚さ程度形成する工程と、前記インクリザーバ
部に導電感光樹脂を数百〜数千オングストローム形成す
る工程と、この状態で再び鍍金を前記ノズル板の厚さ程
度だけ行う工程と、前記導電感光樹脂、及び前記絶縁性
感光樹脂を溶剤を用いて溶解する工程とを有することを
特徴とするスリットノズル板の製造方法。 - (3)絶縁性の樹脂基板を用意し、金属膜を前記樹脂基
板に被着してインクリザーバ部、スリットノズル部、補
助孔部形成する工程と、前記金属膜を電極として、金鍍
金を数千オングストローム厚行う工程と、前記インクリ
ザーバ部に導電感光樹脂を数百〜数千オングストローム
形成する工程と、前記スリットノズル部及び前記補助孔
部に前記ノズル板の厚さ程度だけ、絶縁性感光樹脂を形
成する工程と、この状態で再びニッケル鍍金を前記ノズ
ル板の厚さ程度だけ行う工程と、最後に前記金属膜、及
び前記絶縁性感光樹脂を溶剤を用いて溶解し、更に前記
金属膜を選択エッチングする工程とを有することを特徴
とするスリットノズル板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23032788A JPH0276744A (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | スリットノズルインクジェットヘッド及びスリットノズル板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23032788A JPH0276744A (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | スリットノズルインクジェットヘッド及びスリットノズル板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0276744A true JPH0276744A (ja) | 1990-03-16 |
Family
ID=16906096
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23032788A Pending JPH0276744A (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | スリットノズルインクジェットヘッド及びスリットノズル板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0276744A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1153749A1 (en) * | 2000-05-10 | 2001-11-14 | Hewlett-Packard Company | A system and method for locally controlling the thickness of a flexible nozzle member |
JP2008542014A (ja) * | 2005-05-28 | 2008-11-27 | ザール テクノロジー リミテッド | 液滴付与装置 |
JP2011143716A (ja) * | 2009-12-15 | 2011-07-28 | Canon Inc | 吐出口部材の製造方法および液体吐出ヘッドの製造方法 |
-
1988
- 1988-09-13 JP JP23032788A patent/JPH0276744A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1153749A1 (en) * | 2000-05-10 | 2001-11-14 | Hewlett-Packard Company | A system and method for locally controlling the thickness of a flexible nozzle member |
US6467878B1 (en) | 2000-05-10 | 2002-10-22 | Hewlett-Packard Company | System and method for locally controlling the thickness of a flexible nozzle member |
JP2008542014A (ja) * | 2005-05-28 | 2008-11-27 | ザール テクノロジー リミテッド | 液滴付与装置 |
JP2011143716A (ja) * | 2009-12-15 | 2011-07-28 | Canon Inc | 吐出口部材の製造方法および液体吐出ヘッドの製造方法 |
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