JPH027397B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH027397B2 JPH027397B2 JP22178382A JP22178382A JPH027397B2 JP H027397 B2 JPH027397 B2 JP H027397B2 JP 22178382 A JP22178382 A JP 22178382A JP 22178382 A JP22178382 A JP 22178382A JP H027397 B2 JPH027397 B2 JP H027397B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation
- molten metal
- oxide film
- receiver
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、鋼帯等の長尺材に連続的に金属被膜
を真空蒸着し、かつ蒸発用の金属を大気圧下の溶
融金属槽から真空蒸着室内の蒸発用ルツボに連通
管により供給する真空蒸着装置と、そのスタート
アツプ法に関する。
を真空蒸着し、かつ蒸発用の金属を大気圧下の溶
融金属槽から真空蒸着室内の蒸発用ルツボに連通
管により供給する真空蒸着装置と、そのスタート
アツプ法に関する。
従来のスタートアツプ法を第１図、第２図によ
り説明する。
り説明する。
第１図は鋼帯にZnを連続的に蒸着する態様を
示しており、アンコイラ２から巻戻された鋼帯１
は差圧排気室群３を経た後、真空蒸着室４に入
り、その表面にZnが蒸着され、次いで出側差圧
排気室群１２を経てコイラ１３に巻かれて製品と
なる。
示しており、アンコイラ２から巻戻された鋼帯１
は差圧排気室群３を経た後、真空蒸着室４に入
り、その表面にZnが蒸着され、次いで出側差圧
排気室群１２を経てコイラ１３に巻かれて製品と
なる。
真空蒸着室４内には蒸発用ルツボ５が設置され
ており、該ルツボ５の中に蒸発用の溶融Zn６が
保持されている。この溶融Zn６は、大気中にあ
る溶解炉（すなわち溶融金属槽）７から大気圧に
より連通管８を介して補給される。蒸発用ルツボ
５、連通管８および溶解炉７にはヒータ９，１０
が付設されており、所定の温度にZnを加熱して
いる。
ており、該ルツボ５の中に蒸発用の溶融Zn６が
保持されている。この溶融Zn６は、大気中にあ
る溶解炉（すなわち溶融金属槽）７から大気圧に
より連通管８を介して補給される。蒸発用ルツボ
５、連通管８および溶解炉７にはヒータ９，１０
が付設されており、所定の温度にZnを加熱して
いる。
なお、１１は溶解炉７を上昇又は下降させて蒸
発用ルツボ内のZnレベルを一定に保持又は変更
するためのレベル調整機、１４は差圧排気室群
３，１２に設けられたシールロール、１５は同室
群３，１２に設けられた排気口、１６は真空蒸着
室４に設けられた排気口であり、これらの排気口
１５，１６は図示省略の真空ポンプに連結されて
いる。
発用ルツボ内のZnレベルを一定に保持又は変更
するためのレベル調整機、１４は差圧排気室群
３，１２に設けられたシールロール、１５は同室
群３，１２に設けられた排気口、１６は真空蒸着
室４に設けられた排気口であり、これらの排気口
１５，１６は図示省略の真空ポンプに連結されて
いる。
このような態様においては、図示するように蒸
発用ルツボ５内の溶融Zn６の表面に酸化Zn（スカ
ム）１７が浮いており、沸騰現象の原因となつて
いる。沸騰が生じると、液滴状のZnが生成し、
鋼帯１に付着して蒸着面の状態を悪化させ、製品
価値を損うという問題がある。
発用ルツボ５内の溶融Zn６の表面に酸化Zn（スカ
ム）１７が浮いており、沸騰現象の原因となつて
いる。沸騰が生じると、液滴状のZnが生成し、
鋼帯１に付着して蒸着面の状態を悪化させ、製品
価値を損うという問題がある。
この酸化Zn（スカム）１７が生成する原因とし
ては、第２図に示すような従来のスタートアツプ
法に欠点があるためである。
ては、第２図に示すような従来のスタートアツプ
法に欠点があるためである。
すなわち第２図において、蒸着作業を一時停止
するような場合、溶解炉７のレベルを下げて蒸発
用ルツボ５内より溶融Zn６を排出する必要があ
る。この際に溶融Znの一部が蒸発用ルツボ５お
よび連通管８の内壁に付着残留する。この付着残
留したZn２０が大気又は不活性ガス雰囲気中の
酸化性ガスにより酸化され、付着Zn２０の表面
に酸化Znの被膜２１を生成する。
するような場合、溶解炉７のレベルを下げて蒸発
用ルツボ５内より溶融Zn６を排出する必要があ
る。この際に溶融Znの一部が蒸発用ルツボ５お
よび連通管８の内壁に付着残留する。この付着残
留したZn２０が大気又は不活性ガス雰囲気中の
酸化性ガスにより酸化され、付着Zn２０の表面
に酸化Znの被膜２１を生成する。
この状態で次にスタートアツプすると、溶解炉
７から連通管８を介して蒸発用ルツボ５内に溶融
Znを供給しなければならないので、この通過溶
融Znにより、連通管８や蒸発用ルツボ５に付着
していた酸化Zn被膜２１が剥離し、蒸発ルツボ
５内の溶融Zn６の表面にスカムとして浮遊して
しまうのである。
７から連通管８を介して蒸発用ルツボ５内に溶融
Znを供給しなければならないので、この通過溶
融Znにより、連通管８や蒸発用ルツボ５に付着
していた酸化Zn被膜２１が剥離し、蒸発ルツボ
５内の溶融Zn６の表面にスカムとして浮遊して
しまうのである。
本発明は、以上の欠点を解決するためになされ
たもので、 (1) 鋼帯等の長尺材に連続的に金属被膜を真空蒸
着し、かつ蒸発用金属を大気圧下の溶融金属槽
から真空蒸着室内の蒸発ルツボに連通管により
供給する連続真空蒸着装置において、蒸発ルツ
ボ内に、蒸発用溶融金属表面上の酸化被膜を掻
取るための掻取手段および該掻取手段によつて
掻取られた酸化被膜を受けるための受けを蒸着
時の溶融金属レベルよりも上方に設け、かつ該
受けを加熱する機構を有すると共に、該受けの
構成材料を炭素質材料とすることを特徴とする
連続真空蒸着装置。
たもので、 (1) 鋼帯等の長尺材に連続的に金属被膜を真空蒸
着し、かつ蒸発用金属を大気圧下の溶融金属槽
から真空蒸着室内の蒸発ルツボに連通管により
供給する連続真空蒸着装置において、蒸発ルツ
ボ内に、蒸発用溶融金属表面上の酸化被膜を掻
取るための掻取手段および該掻取手段によつて
掻取られた酸化被膜を受けるための受けを蒸着
時の溶融金属レベルよりも上方に設け、かつ該
受けを加熱する機構を有すると共に、該受けの
構成材料を炭素質材料とすることを特徴とする
連続真空蒸着装置。
(2) 上記(1)に記載の装置の始動時に真空蒸着室内
を排気することにより溶融金属を一旦蒸発ルツ
ボ内の酸化被膜の受けより上方のレベルまで供
給した後、掻取手段にて溶融金属上の酸化被膜
を掻取り、その後、溶融金属を蒸着時のレベル
まで下げて蒸着を開始することを特徴とする真
空蒸着装置のスタートアツプ法、 に関するものである。
を排気することにより溶融金属を一旦蒸発ルツ
ボ内の酸化被膜の受けより上方のレベルまで供
給した後、掻取手段にて溶融金属上の酸化被膜
を掻取り、その後、溶融金属を蒸着時のレベル
まで下げて蒸着を開始することを特徴とする真
空蒸着装置のスタートアツプ法、 に関するものである。
以下、添付図面を参照して本発明の装置および
方法を詳細に説明する。
方法を詳細に説明する。
第３図は本発明の装置および方法の一実施態様
例を示す図で、該図中第１，２図と同一符号は第
１，２図と同一のものを示す。
例を示す図で、該図中第１，２図と同一符号は第
１，２図と同一のものを示す。
第３図において、溶解炉７を予め加熱して炉内
の蒸発用のZnを溶融させた状態にしておく。一
方、蒸発用ルツボ５内には溶融金属上の酸化被膜
を掻取るための掻取棒２２、掻取つた酸化被膜の
受け２３、および受け２３を加熱するためのヒー
タ２４が設置されており、蒸発ルツボ５、掻取棒
２２、受け２３および連通管８をZnの融点以上
の温度に加熱しておく。また、この時、掻取棒２
２は受け２３′の位置に保持（図中、２２′で表
示）しておく。
の蒸発用のZnを溶融させた状態にしておく。一
方、蒸発用ルツボ５内には溶融金属上の酸化被膜
を掻取るための掻取棒２２、掻取つた酸化被膜の
受け２３、および受け２３を加熱するためのヒー
タ２４が設置されており、蒸発ルツボ５、掻取棒
２２、受け２３および連通管８をZnの融点以上
の温度に加熱しておく。また、この時、掻取棒２
２は受け２３′の位置に保持（図中、２２′で表
示）しておく。
この状態で蒸着室４内を排気し、溶解炉７内の
溶融Znを連通管８を通して上昇させ、溶融Znの
浴面が蒸発用ルツボ５のレベルＡまで上昇した
後、受け２３′に保持していた掻取棒２２′を受け
２３の位置まで移動させ、溶融Zn上の酸化被膜
を掻取る。
溶融Znを連通管８を通して上昇させ、溶融Znの
浴面が蒸発用ルツボ５のレベルＡまで上昇した
後、受け２３′に保持していた掻取棒２２′を受け
２３の位置まで移動させ、溶融Zn上の酸化被膜
を掻取る。
次に、レベル調整機１１により溶融Znのレベ
ルを蒸着時のレベルＢまで下げて蒸着を開始す
る。
ルを蒸着時のレベルＢまで下げて蒸着を開始す
る。
この操作によつて、溶融Zn上の酸化被膜は掻
取られて受け２３に集められているため、蒸発面
には酸化被膜はなく、異常沸騰を生じることはな
い。
取られて受け２３に集められているため、蒸発面
には酸化被膜はなく、異常沸騰を生じることはな
い。
また受け２３は炭素質材料で構成されているた
め、該受け２３に集められた酸化被膜２１は、ヒ
ータ２４によつて加熱された受け２３の炭素質材
料の作用により、 ZnO＋Ｃ→Zn↑＋CO↑…(1) の反応によつて還元されて消失するため、酸化被
膜が蓄積されることはない。
め、該受け２３に集められた酸化被膜２１は、ヒ
ータ２４によつて加熱された受け２３の炭素質材
料の作用により、 ZnO＋Ｃ→Zn↑＋CO↑…(1) の反応によつて還元されて消失するため、酸化被
膜が蓄積されることはない。
掻取棒２２は、上記の棒状のものに限らず、板
状でも良く、材質は溶融Znと反応せず、かつ耐
熱性のあるものが好ましく、Ｗ、Mo等の高融点
金属、Al2O3、ZrO2等の酸化物、炭素質材料等が
使用されるが、上記受け２３による酸化被膜の還
元除去を助長する意味からは炭素質材料が最適で
ある。また受け２３は、酸化被膜の還元除去のた
めに炭素質材料を構成材料とする必要があり、蒸
発ルツボ５と一体として炭素質材料で製作しても
良いし、還元反応は表面反応であるため炭素質材
料で受け２３をライニングしても良い。さらにヒ
ータ２４は、真空中で使用されるためＷ、Mo、
黒鉛等が適している。
状でも良く、材質は溶融Znと反応せず、かつ耐
熱性のあるものが好ましく、Ｗ、Mo等の高融点
金属、Al2O3、ZrO2等の酸化物、炭素質材料等が
使用されるが、上記受け２３による酸化被膜の還
元除去を助長する意味からは炭素質材料が最適で
ある。また受け２３は、酸化被膜の還元除去のた
めに炭素質材料を構成材料とする必要があり、蒸
発ルツボ５と一体として炭素質材料で製作しても
良いし、還元反応は表面反応であるため炭素質材
料で受け２３をライニングしても良い。さらにヒ
ータ２４は、真空中で使用されるためＷ、Mo、
黒鉛等が適している。
以上詳述したように、本発明装置および方法に
よれば、蒸着操業時に、蒸発用ルツボ５内の溶融
金属上（すなわち蒸発面上）に酸化物被膜がない
ため、異常沸騰が生ぜず鋼帯１へ正常な蒸着を行
うことができる。
よれば、蒸着操業時に、蒸発用ルツボ５内の溶融
金属上（すなわち蒸発面上）に酸化物被膜がない
ため、異常沸騰が生ぜず鋼帯１へ正常な蒸着を行
うことができる。
第１図および第２図は従来の連続真空蒸着装置
およびそのスタートアツプ法を説明するための
図、第３図は本発明の装置および方法の一実施態
様を説明するための図である。
およびそのスタートアツプ法を説明するための
図、第３図は本発明の装置および方法の一実施態
様を説明するための図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 鋼帯等の長尺材に連続的に金属被膜を真空蒸
着し、かつ蒸発用金属を大気圧下の溶融金属槽か
ら真空蒸着室内の蒸発ルツボに連通管により供給
する連続真空蒸着装置において、蒸発ルツボ内に
蒸発用溶融金属表面上の酸化被膜を掻取るための
掻取手段および該掻取手段によつて掻取られた酸
化被膜を受けるための受けを蒸着時の溶融金属レ
ベルよりも上方に設け、かつ該受けを加熱する機
構を有すると共に、該受けの構成材料を炭素質材
料とすることを特徴とする連続真空蒸着装置。 ２ 鋼帯等の長尺材に連続的に金属被膜を真空蒸
着し、かつ蒸発用金属を大気圧下の溶融金属槽か
ら真空蒸着室内の蒸発ルツボに連通管により供給
する連続真空蒸着装置であつて、蒸発ルツボ内
に、蒸発用溶融金属表面上の酸化被膜を掻取るた
めの掻取手段および該掻取手段によつて掻取られ
た酸化被膜を受けるための受けを蒸着時の溶融金
属レベルよりも上方に設け、かつ該受けを加熱す
る機構を有すると共に、該受けの構成材料を炭素
質材料とする真空蒸着装置の始動時に、真空蒸着
室内を排気することにより溶融金属を一旦蒸発ル
ツボ内の酸化被膜の受けより上方のレベルまで供
給した後、掻取手段にて溶融金属上の酸化被膜を
掻取り、その後、溶融金属を蒸着時のレベルまで
下げて蒸着を開始することを特徴とする真空蒸着
装置のスタートアツプ法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22178382A JPS59113179A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | 真空蒸着装置およびそのスタ−トアツプ法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22178382A JPS59113179A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | 真空蒸着装置およびそのスタ−トアツプ法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59113179A JPS59113179A (ja) | 1984-06-29 |
| JPH027397B2 true JPH027397B2 (ja) | 1990-02-16 |
Family
ID=16772128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22178382A Granted JPS59113179A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | 真空蒸着装置およびそのスタ−トアツプ法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59113179A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1967604A1 (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-10 | Applied Materials, Inc. | Evaporation crucible and evaporation apparatus with directional evaporation |
| WO2012081738A1 (en) * | 2010-12-13 | 2012-06-21 | Posco | Continuous coating apparatus |
-
1982
- 1982-12-20 JP JP22178382A patent/JPS59113179A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59113179A (ja) | 1984-06-29 |
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