JPH027396B2 - - Google Patents
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- JPH027396B2 JPH027396B2 JP18363182A JP18363182A JPH027396B2 JP H027396 B2 JPH027396 B2 JP H027396B2 JP 18363182 A JP18363182 A JP 18363182A JP 18363182 A JP18363182 A JP 18363182A JP H027396 B2 JPH027396 B2 JP H027396B2
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- evaporation
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 31
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 31
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 20
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
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- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、鋼帯の連続真空蒸着装置に関し、特
に蒸発金属の無効蒸気量の低減を図つた上記装置
に関するものである。
に蒸発金属の無効蒸気量の低減を図つた上記装置
に関するものである。
鋼帯の連続真空蒸着装置において、蒸発金属の
うち鋼帯以外に飛散するいわゆる無効蒸気は、蒸
着材料の歩留りを低下させるだけでなく、真空容
器壁に付着堆積し、厚くなると鋼帯等に落下した
り、あるいは真空装置内のロール駆動部等へ付着
して駆動障害を生じる等のトラブルの原因となる
ため、定期的にラインを停止して付着金属を除去
しなければならず、稼動率低下の原因ともなるも
のである。従つて無効蒸気はできるだけ少なくす
る必要がある。
うち鋼帯以外に飛散するいわゆる無効蒸気は、蒸
着材料の歩留りを低下させるだけでなく、真空容
器壁に付着堆積し、厚くなると鋼帯等に落下した
り、あるいは真空装置内のロール駆動部等へ付着
して駆動障害を生じる等のトラブルの原因となる
ため、定期的にラインを停止して付着金属を除去
しなければならず、稼動率低下の原因ともなるも
のである。従つて無効蒸気はできるだけ少なくす
る必要がある。
この無効蒸気の減少手段のひとつとして、特開
昭53−85739号で蒸発容器自体を回転させる技術
を提案している。すなわち、長方形又は長楕円形
の蒸発容器を鋼帯幅の変化に対応させて常に蒸発
幅を鋼帯幅とほぼ同一になるように回転させ、蒸
発金属のほぼ全量を鋼板に捕促することにより、
無効蒸気量の低減を計るものである。
昭53−85739号で蒸発容器自体を回転させる技術
を提案している。すなわち、長方形又は長楕円形
の蒸発容器を鋼帯幅の変化に対応させて常に蒸発
幅を鋼帯幅とほぼ同一になるように回転させ、蒸
発金属のほぼ全量を鋼板に捕促することにより、
無効蒸気量の低減を計るものである。
しかしながら、この技術においては、蒸発容器
を回転させるため、次のような問題点があつた。
を回転させるため、次のような問題点があつた。
すなわち、蒸発容器は、通常、蒸発用金属、こ
れを入れるルツボ、およびこれらを加熱する加熱
源から構成されており、非常に大きくて重たいも
のであり、これを動かすためには、かなり大きな
エネルギーを必要とする。また、連続真空蒸着で
は蒸発金属を連続的に蒸発容器に供給する必要が
あるが、蒸発容器を回転させる場合には、この供
給は非常に困難なものとなる。さらに、蒸発容器
を回転させると、容器内の蒸発用溶融金属も動く
ため、溶融金属が液滴となつて飛散し、鋼帯に付
着するいわゆるスプラツシユの原因となる可能性
もある。
れを入れるルツボ、およびこれらを加熱する加熱
源から構成されており、非常に大きくて重たいも
のであり、これを動かすためには、かなり大きな
エネルギーを必要とする。また、連続真空蒸着で
は蒸発金属を連続的に蒸発容器に供給する必要が
あるが、蒸発容器を回転させる場合には、この供
給は非常に困難なものとなる。さらに、蒸発容器
を回転させると、容器内の蒸発用溶融金属も動く
ため、溶融金属が液滴となつて飛散し、鋼帯に付
着するいわゆるスプラツシユの原因となる可能性
もある。
本発明は、以上のような問題点を解消するため
になされたものであり、鋼帯の連続真空蒸着装置
において、蒸発容器の上方に蒸発面積より小さい
蒸気出口を設け、該蒸気出口をスリツト状に形成
し、かつ該蒸気出口部が前記蒸発容器の垂直軸ま
わりに回転できるように構成したことを特徴とす
る真空蒸着装置に関するものである。
になされたものであり、鋼帯の連続真空蒸着装置
において、蒸発容器の上方に蒸発面積より小さい
蒸気出口を設け、該蒸気出口をスリツト状に形成
し、かつ該蒸気出口部が前記蒸発容器の垂直軸ま
わりに回転できるように構成したことを特徴とす
る真空蒸着装置に関するものである。
以下、添付図面により、本発明装置を詳細に説
明する。
明する。
第１図および第２図は、本発明装置の一実施態
様例を示すものであり、第１図は断面図を、第２
図は上方より見た図である。
様例を示すものであり、第１図は断面図を、第２
図は上方より見た図である。
第１，２図において、蒸発用溶融金属供給管６
を持つ蒸発ルツボ１の上方に上蓋２を有し、この
上蓋２上に、駆動装置４によつて回転可能な蒸気
出口３が設置されている。その出口３形状は図示
するようにスリツト状である。５は鋼帯であり、
７は蒸発ルツボ加熱用ヒータである。
を持つ蒸発ルツボ１の上方に上蓋２を有し、この
上蓋２上に、駆動装置４によつて回転可能な蒸気
出口３が設置されている。その出口３形状は図示
するようにスリツト状である。５は鋼帯であり、
７は蒸発ルツボ加熱用ヒータである。
第３図は、本発明装置の操作方法を説明するた
めの図である。すなわち、第３図Ａは本発明装置
で処理可能な最大幅の鋼帯を処理する時の蒸気出
口３の設定位置を示しており、鋼帯幅が狭くなる
につれて、スリツト状の蒸気出口３を駆動装置４
によつて第３図Ｂに示すように回転させると、蒸
発の幅が鋼帯の幅とほぼ同等になり、無効蒸気を
ほとんど無くすことができる。
めの図である。すなわち、第３図Ａは本発明装置
で処理可能な最大幅の鋼帯を処理する時の蒸気出
口３の設定位置を示しており、鋼帯幅が狭くなる
につれて、スリツト状の蒸気出口３を駆動装置４
によつて第３図Ｂに示すように回転させると、蒸
発の幅が鋼帯の幅とほぼ同等になり、無効蒸気を
ほとんど無くすことができる。
本発明装置では、ルツボ１、溶融金属供給管
６、ヒータ７および上蓋２は固定されており、可
動部分は蒸気出口３のみであるため、駆動エネル
ギーも小さく、蒸発材料の連続供給も可能であ
り、さらにスプラツシユも生じにくい。
６、ヒータ７および上蓋２は固定されており、可
動部分は蒸気出口３のみであるため、駆動エネル
ギーも小さく、蒸発材料の連続供給も可能であ
り、さらにスプラツシユも生じにくい。
上蓋２と蒸気出口３との接触部は、蒸気のもれ
を防ぐため面接触にして、蒸気の通過経路を長く
する方が好ましい。また、上蓋２と蒸気出口３は
蒸気が付着しないように蒸発ルツボ１と同等の温
度にしておくことが好ましく、蒸発ルツボ１から
の熱伝導および蒸発面の放射で加熱されやすい材
料を選定するのが好ましいが、必要とあれば上蓋
２上にヒータを設置しても良い。以上の意味か
ら、上蓋２と蒸気出口３の材料はMo、Ｗ等の高
融点金属又は炭素系材料が好ましい。
を防ぐため面接触にして、蒸気の通過経路を長く
する方が好ましい。また、上蓋２と蒸気出口３は
蒸気が付着しないように蒸発ルツボ１と同等の温
度にしておくことが好ましく、蒸発ルツボ１から
の熱伝導および蒸発面の放射で加熱されやすい材
料を選定するのが好ましいが、必要とあれば上蓋
２上にヒータを設置しても良い。以上の意味か
ら、上蓋２と蒸気出口３の材料はMo、Ｗ等の高
融点金属又は炭素系材料が好ましい。
蒸気出口３の面積を蒸発面積よりも小さく絞る
のは、鋼帯幅に対する蒸着膜厚分布を均一にする
ためである（逆に蒸気出口３を拡げた場合には、
鋼帯の端部の膜厚が薄くなる）。従つて、蒸発ル
ツボ１の形は特に限定されるものではなく、断面
が円形でも矩形でも良い。また、蒸気出口３の蒸
気出口のスリツト形状も特に限定されるものでは
なく、鋼帯幅方向の膜厚分布を考慮した任意の形
状にすることができ、例えば第４図のようなスリ
ツトの両端を拡大した形状にしても良い。
のは、鋼帯幅に対する蒸着膜厚分布を均一にする
ためである（逆に蒸気出口３を拡げた場合には、
鋼帯の端部の膜厚が薄くなる）。従つて、蒸発ル
ツボ１の形は特に限定されるものではなく、断面
が円形でも矩形でも良い。また、蒸気出口３の蒸
気出口のスリツト形状も特に限定されるものでは
なく、鋼帯幅方向の膜厚分布を考慮した任意の形
状にすることができ、例えば第４図のようなスリ
ツトの両端を拡大した形状にしても良い。
以上詳述したように、本発明装置によれば、ス
リツト状蒸気出口を鋼帯の幅変化に対応して回転
させることで蒸発の幅を鋼帯の幅とほぼ同等にす
ることができ、無効蒸気をほとんど無くすことが
できるので、蒸着材料の歩留り向上、装置の稼動
率向上に大きく寄与することができる。
リツト状蒸気出口を鋼帯の幅変化に対応して回転
させることで蒸発の幅を鋼帯の幅とほぼ同等にす
ることができ、無効蒸気をほとんど無くすことが
できるので、蒸着材料の歩留り向上、装置の稼動
率向上に大きく寄与することができる。
第１図および第２図は本発明装置の一実施態様
例を示す図であり、第１図は蒸発部の断面を、第
２図は蒸発部を上方より見た図である。第３図は
本発明装置による操作方法を説明するための図で
あり、第４図は本発明装置の他の実施態様例を説
明するための図である。
例を示す図であり、第１図は蒸発部の断面を、第
２図は蒸発部を上方より見た図である。第３図は
本発明装置による操作方法を説明するための図で
あり、第４図は本発明装置の他の実施態様例を説
明するための図である。
Claims (1)
- １ 鋼帯の連続真空蒸着装置において、蒸発容器
の上方に蒸発面積より小さい蒸気出口を設け、該
蒸気出口をスリツト状に形成し、かつ該蒸気出口
部が前記蒸発容器の垂直軸まわりに回転できるよ
うに構成したことを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18363182A JPS5974277A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18363182A JPS5974277A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5974277A JPS5974277A (ja) | 1984-04-26 |
| JPH027396B2 true JPH027396B2 (ja) | 1990-02-16 |
Family
ID=16139146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18363182A Granted JPS5974277A (ja) | 1982-10-21 | 1982-10-21 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5974277A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996035822A1 (fr) * | 1995-05-10 | 1996-11-14 | Centre De Recherches Metallurgiques - Centrum Voor Research In De Metallurgie | Dispositif et installation pour revetir une bande d'acier |
| BE1010797A3 (fr) * | 1996-12-10 | 1999-02-02 | Cockerill Rech & Dev | Procede et dispositif pour la formation d'un revetement sur un substrat, par pulverisation cathodique. |
| CN1184347C (zh) * | 1997-03-19 | 2005-01-12 | 松下电器产业株式会社 | 薄膜的制造方法及制造装置 |
-
1982
- 1982-10-21 JP JP18363182A patent/JPS5974277A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5974277A (ja) | 1984-04-26 |
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