JPS63460A - インゴツトの蒸発方法 - Google Patents
インゴツトの蒸発方法Info
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- JPS63460A JPS63460A JP14288986A JP14288986A JPS63460A JP S63460 A JPS63460 A JP S63460A JP 14288986 A JP14288986 A JP 14288986A JP 14288986 A JP14288986 A JP 14288986A JP S63460 A JPS63460 A JP S63460A
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- vapor deposition
- deposition material
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Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 2
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、インゴットの蒸発方法に関するものである。
第３図は従来の蒸発・蒸着方法の一例を示す模式図であ
る。図において、るっぽ６に向って蒸着材供給装置４か
ら蒸着材２が供給され、更に同じくるつぼ６に向って電
子銃５より電子ビームＥＢが発射され、るっぽ６内に溶
融金属をつくり更に加熱して蒸発金属としている。るっ
ぽ６の上辺には被蒸着基板１が送りローラ３によって走
行するようになっており、基板１の下面には蒸着材２の
均一蒸着を計るためンヤッター７が設けられている。
る。図において、るっぽ６に向って蒸着材供給装置４か
ら蒸着材２が供給され、更に同じくるつぼ６に向って電
子銃５より電子ビームＥＢが発射され、るっぽ６内に溶
融金属をつくり更に加熱して蒸発金属としている。るっ
ぽ６の上辺には被蒸着基板１が送りローラ３によって走
行するようになっており、基板１の下面には蒸着材２の
均一蒸着を計るためンヤッター７が設けられている。
次にこの作用を説明する。
電子銃５からの電子ビームＥＢを受けてるつぼ６内の溶
融蒸着材２が蒸発して上昇し基板１に触れ蒸着して、薄
膜を形成する。基板１は送りローラ３によって一定速度
で移動するもので、ジャック−７によって蒸着材２に触
れる時間が鍔面されて基板ｌの上に均一な薄膜を形成す
るるようになっている。尚、これらの作業は真空の蒸着
室内にて行われている。
融蒸着材２が蒸発して上昇し基板１に触れ蒸着して、薄
膜を形成する。基板１は送りローラ３によって一定速度
で移動するもので、ジャック−７によって蒸着材２に触
れる時間が鍔面されて基板ｌの上に均一な薄膜を形成す
るるようになっている。尚、これらの作業は真空の蒸着
室内にて行われている。
従来の方法では、るっぽ６内の蒸着材２を蒸発させるた
めに、るうぼ６内が非常な高温（２０００℃〜４０００
℃）となる。このためるっぽ６は耐熱性、耐久性におい
て、すぐれたものを要求されるが、十分なものが得られ
ないという問題がある。
めに、るうぼ６内が非常な高温（２０００℃〜４０００
℃）となる。このためるっぽ６は耐熱性、耐久性におい
て、すぐれたものを要求されるが、十分なものが得られ
ないという問題がある。
本発明はこのよう、な問題を解決するためになされたも
ので外周に嵌合する冷却リングを通り抜けてインゴット
を押し上げ回転しながらその上端面を高密度エネルギー
ビームで加熱して上端面に溶融池をつくり、この溶融
池から蒸発させて、蒸着−するようにしたインゴットの
蒸発方法を提供する。
ので外周に嵌合する冷却リングを通り抜けてインゴット
を押し上げ回転しながらその上端面を高密度エネルギー
ビームで加熱して上端面に溶融池をつくり、この溶融
池から蒸発させて、蒸着−するようにしたインゴットの
蒸発方法を提供する。
インゴットの上端面に高ミツドエネルギーを制御しなが
ら照射すると、上端面の外周部は冷却リングによって冷
却させるため、溶融が遅れてインゴット上端面は中央部
の溶融が早くなり、溶融池をつくって凹状となる。イン
ゴットが徐々に押し上げられて上端面が冷却リングから
遠ざかるにつれてインゴット外周部も加熱されて溶融し
、溶融池内に流入する、このようにして連続的に溶融池
を形成し、金属蒸発を行うことにより蒸着をすることが
出来る。
ら照射すると、上端面の外周部は冷却リングによって冷
却させるため、溶融が遅れてインゴット上端面は中央部
の溶融が早くなり、溶融池をつくって凹状となる。イン
ゴットが徐々に押し上げられて上端面が冷却リングから
遠ざかるにつれてインゴット外周部も加熱されて溶融し
、溶融池内に流入する、このようにして連続的に溶融池
を形成し、金属蒸発を行うことにより蒸着をすることが
出来る。
〔実施例〕
第１図（よ本発明の一実施例の模式図である。図におい
て、１は基板、２は棒状のインボッＩ・から成ろ蒸着材
である。蒸着材２は、その外周面をこれに、嵌合する冷
却リシグ８に摺動させながら、徐々に上昇回転するよう
になっている。次に５は電子銃で、冷却リング８を通り
抜けた蒸着材２の上端面に対して電子ビームＥＢを照射
するようになっている。８ａ、８ｂは冷却リング内を通
り抜ける冷却液を循環させるパイプである。その他の符
号は第３図と同じものを示す。
て、１は基板、２は棒状のインボッＩ・から成ろ蒸着材
である。蒸着材２は、その外周面をこれに、嵌合する冷
却リシグ８に摺動させながら、徐々に上昇回転するよう
になっている。次に５は電子銃で、冷却リング８を通り
抜けた蒸着材２の上端面に対して電子ビームＥＢを照射
するようになっている。８ａ、８ｂは冷却リング内を通
り抜ける冷却液を循環させるパイプである。その他の符
号は第３図と同じものを示す。
次にこの作用を説明する。
蒸着材２が冷却リング８を通り抜けて徐々に上昇・回転
すると同時に、その上端面に電子銃５より電子ビームＥ
Ｂを照射すると、蒸着材２が加熱溶融するが、冷却リン
グ８に触接している外側部は冷却されるため溶融が遅れ
、第２図に示すように蒸着材２の上端布の中央部から溶
融が始まり、溶融池をつくる。更に、電子ビームＥＢの
照射を中央部に多く向けることによって、溶融池内から
金属が蒸発し、上辺を移動する基板１に蒸着する。
すると同時に、その上端面に電子銃５より電子ビームＥ
Ｂを照射すると、蒸着材２が加熱溶融するが、冷却リン
グ８に触接している外側部は冷却されるため溶融が遅れ
、第２図に示すように蒸着材２の上端布の中央部から溶
融が始まり、溶融池をつくる。更に、電子ビームＥＢの
照射を中央部に多く向けることによって、溶融池内から
金属が蒸発し、上辺を移動する基板１に蒸着する。
蒸発分だけ蒸着材２を上昇回転させて蒸着材２の上端面
と基板間距離を一定にする。このようにして、高密度エ
ネルギーを制御しながら照射すると蒸着材２の上端面は
常に中央が凹状となって溶融池をつくりながら蒸発する
ようになる。尚、蒸着材２の上昇速度；よ、その蒸着材
２の材質による熱拡散速度に対応させるために、夫々相
違があることは言うまてもない。
と基板間距離を一定にする。このようにして、高密度エ
ネルギーを制御しながら照射すると蒸着材２の上端面は
常に中央が凹状となって溶融池をつくりながら蒸発する
ようになる。尚、蒸着材２の上昇速度；よ、その蒸着材
２の材質による熱拡散速度に対応させるために、夫々相
違があることは言うまてもない。
本発明によれば、断面積の比較的大きな金属蒸着材の上
端面に、高エネルギービームによる加熱によって溶融池
をつくり、この溶融池から蒸着材を蒸発させるようにし
たので、従来のような蒸発材が外側に溶落ちろことがな
くなり、必要熱量も少なく、蒸発速度も高まる効果があ
る。
端面に、高エネルギービームによる加熱によって溶融池
をつくり、この溶融池から蒸着材を蒸発させるようにし
たので、従来のような蒸発材が外側に溶落ちろことがな
くなり、必要熱量も少なく、蒸発速度も高まる効果があ
る。
第１図は本発明の一実施例の模式図、第２図は溶融池を
示す詳細図、第３図は従来例の模式図である。 １：基板、２：蒸着材、３：送りローラ、５：電子銃、
７：シャック−，８：冷却リング。 第１図 第２図 第３図
示す詳細図、第３図は従来例の模式図である。 １：基板、２：蒸着材、３：送りローラ、５：電子銃、
７：シャック−，８：冷却リング。 第１図 第２図 第３図
Claims (1)
- 外周に嵌合する冷却リングを通り抜けてインゴットを
押し上げながらその上端面を高密度エネルギービームで
加熱して上端面に溶融池をつくり、この溶融池から蒸発
材を蒸発させて、蒸着するようにしたインゴットの蒸発
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14288986A JPS63460A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | インゴツトの蒸発方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14288986A JPS63460A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | インゴツトの蒸発方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63460A true JPS63460A (ja) | 1988-01-05 |
Family
ID=15325948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14288986A Pending JPS63460A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | インゴツトの蒸発方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63460A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0403987A2 (en) * | 1989-06-19 | 1990-12-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for supplying vacuum evaporation material and apparatus therefor |
| JP2010053366A (ja) * | 2008-08-26 | 2010-03-11 | Panasonic Corp | 成膜方法及び成膜装置 |
-
1986
- 1986-06-20 JP JP14288986A patent/JPS63460A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0403987A2 (en) * | 1989-06-19 | 1990-12-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for supplying vacuum evaporation material and apparatus therefor |
| US5098742A (en) * | 1989-06-19 | 1992-03-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for supplying vacuum evaporation material |
| JP2010053366A (ja) * | 2008-08-26 | 2010-03-11 | Panasonic Corp | 成膜方法及び成膜装置 |
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