JPS63460A - インゴツトの蒸発方法 - Google Patents

インゴツトの蒸発方法

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JPS63460A
JPS63460A JP14288986A JP14288986A JPS63460A JP S63460 A JPS63460 A JP S63460A JP 14288986 A JP14288986 A JP 14288986A JP 14288986 A JP14288986 A JP 14288986A JP S63460 A JPS63460 A JP S63460A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor deposition
deposition material
bar
cooling ring
ingot
Prior art date
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Pending
Application number
JP14288986A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumitaka Kaneko
金子 文孝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
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Publication of JPS63460A publication Critical patent/JPS63460A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、インゴットの蒸発方法に関するものである。
〔従来の技術〕
第3図は従来の蒸発・蒸着方法の一例を示す模式図であ
る。図において、るっぽ6に向って蒸着材供給装置4か
ら蒸着材2が供給され、更に同じくるつぼ6に向って電
子銃5より電子ビームEBが発射され、るっぽ6内に溶
融金属をつくり更に加熱して蒸発金属としている。るっ
ぽ6の上辺には被蒸着基板1が送りローラ3によって走
行するようになっており、基板1の下面には蒸着材2の
均一蒸着を計るためンヤッター7が設けられている。
次にこの作用を説明する。
電子銃5からの電子ビームEBを受けてるつぼ6内の溶
融蒸着材2が蒸発して上昇し基板1に触れ蒸着して、薄
膜を形成する。基板1は送りローラ3によって一定速度
で移動するもので、ジャック−7によって蒸着材2に触
れる時間が鍔面されて基板lの上に均一な薄膜を形成す
るるようになっている。尚、これらの作業は真空の蒸着
室内にて行われている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の方法では、るっぽ6内の蒸着材2を蒸発させるた
めに、るうぼ6内が非常な高温(2000℃〜4000
℃)となる。このためるっぽ6は耐熱性、耐久性におい
て、すぐれたものを要求されるが、十分なものが得られ
ないという問題がある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明はこのよう、な問題を解決するためになされたも
ので外周に嵌合する冷却リングを通り抜けてインゴット
を押し上げ回転しながらその上端面を高密度エネルギー
 ビームで加熱して上端面に溶融池をつくり、この溶融
池から蒸発させて、蒸着−するようにしたインゴットの
蒸発方法を提供する。
〔作用〕
インゴットの上端面に高ミツドエネルギーを制御しなが
ら照射すると、上端面の外周部は冷却リングによって冷
却させるため、溶融が遅れてインゴット上端面は中央部
の溶融が早くなり、溶融池をつくって凹状となる。イン
ゴットが徐々に押し上げられて上端面が冷却リングから
遠ざかるにつれてインゴット外周部も加熱されて溶融し
、溶融池内に流入する、このようにして連続的に溶融池
を形成し、金属蒸発を行うことにより蒸着をすることが
出来る。
〔実施例〕 第1図(よ本発明の一実施例の模式図である。図におい
て、1は基板、2は棒状のインボッI・から成ろ蒸着材
である。蒸着材2は、その外周面をこれに、嵌合する冷
却リシグ8に摺動させながら、徐々に上昇回転するよう
になっている。次に5は電子銃で、冷却リング8を通り
抜けた蒸着材2の上端面に対して電子ビームEBを照射
するようになっている。8a、8bは冷却リング内を通
り抜ける冷却液を循環させるパイプである。その他の符
号は第3図と同じものを示す。
次にこの作用を説明する。
蒸着材2が冷却リング8を通り抜けて徐々に上昇・回転
すると同時に、その上端面に電子銃5より電子ビームE
Bを照射すると、蒸着材2が加熱溶融するが、冷却リン
グ8に触接している外側部は冷却されるため溶融が遅れ
、第2図に示すように蒸着材2の上端布の中央部から溶
融が始まり、溶融池をつくる。更に、電子ビームEBの
照射を中央部に多く向けることによって、溶融池内から
金属が蒸発し、上辺を移動する基板1に蒸着する。
蒸発分だけ蒸着材2を上昇回転させて蒸着材2の上端面
と基板間距離を一定にする。このようにして、高密度エ
ネルギーを制御しながら照射すると蒸着材2の上端面は
常に中央が凹状となって溶融池をつくりながら蒸発する
ようになる。尚、蒸着材2の上昇速度;よ、その蒸着材
2の材質による熱拡散速度に対応させるために、夫々相
違があることは言うまてもない。
〔発明の効果〕
本発明によれば、断面積の比較的大きな金属蒸着材の上
端面に、高エネルギービームによる加熱によって溶融池
をつくり、この溶融池から蒸着材を蒸発させるようにし
たので、従来のような蒸発材が外側に溶落ちろことがな
くなり、必要熱量も少なく、蒸発速度も高まる効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の模式図、第2図は溶融池を
示す詳細図、第3図は従来例の模式図である。 1:基板、2:蒸着材、3:送りローラ、5:電子銃、
7:シャック−,8:冷却リング。 第1図   第2図 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  外周に嵌合する冷却リングを通り抜けてインゴットを
    押し上げながらその上端面を高密度エネルギービームで
    加熱して上端面に溶融池をつくり、この溶融池から蒸発
    材を蒸発させて、蒸着するようにしたインゴットの蒸発
    方法。
JP14288986A 1986-06-20 1986-06-20 インゴツトの蒸発方法 Pending JPS63460A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0403987A2 (en) * 1989-06-19 1990-12-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for supplying vacuum evaporation material and apparatus therefor
JP2010053366A (ja) * 2008-08-26 2010-03-11 Panasonic Corp 成膜方法及び成膜装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0403987A2 (en) * 1989-06-19 1990-12-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for supplying vacuum evaporation material and apparatus therefor
US5098742A (en) * 1989-06-19 1992-03-24 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for supplying vacuum evaporation material
JP2010053366A (ja) * 2008-08-26 2010-03-11 Panasonic Corp 成膜方法及び成膜装置

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