JP2006063371A - 真空成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空成膜チャンバ内に配置したリング状のハース3に収容した薄膜原材料4にエネルギービームを照射し、薄膜原材料4を加熱蒸発させることで基板上に薄膜を成膜する真空成膜装置において、前記ハース3における薄膜原材料4の形状として、エネルギービームが照射される箇所8を通り前記ハース3と同心の円上において薄膜原材料4の量が最大となる形状としたことを特徴とするものである。
【選択図】図4
Description
(株)電子ジャーナル編 電子ジャーナル別冊「2001 FPDテクノロジー大全」、(株)電子ジャーナル出版、2001年10月25日、p634−p648
2 電子ビームガン
3 リングハース(リング状のハース)
4 薄膜原材料
5 電子ビーム(エネルギービーム)
6 シューター
7 駆動機構
8 電子ビーム照射ポイント
11 基板搬入チャンバ
12 基板加熱チャンバ
13 成膜チャンバ
14 冷却チャンバ
15 基板搬出チャンバ
Claims (7)
- 真空成膜チャンバ内に配置したリング状のハースに収容した薄膜原材料にエネルギービームを照射し、薄膜原材料を加熱蒸発させ、基板上に膜を形成する真空成膜装置において、前記ハースにおける薄膜原材料の形状として、エネルギービームが照射される箇所を通り前記ハースと同心の円上において薄膜原材料の量が最大となる形状としたことを特徴とする真空成膜装置。
- 前記ハースへの薄膜原材料の供給を、エネルギービームが照射される箇所を通り前記ハースと同心の円上に行うことで、前記ハースにおける薄膜原材料の形状として、エネルギービームが照射される箇所を通り前記ハースと同心の円上において薄膜原材料の量が最大となる形状としたことを特徴とする請求項1に記載の真空成膜装置。
- 前記ハースに収納した薄膜原材料を、エネルギービームが照射される箇所を通り前記ハースと同心の円上に寄せ集めることで、前記ハースにおける薄膜原材料の形状として、エネルギービームが照射される箇所を通り前記ハースと同心の円上において薄膜原材料の量が最大となる形状としたことを特徴とする請求項1に記載の真空成膜装置。
- 前記ハースに収納した薄膜原材料に対して型を押し当てることで、前記ハースにおける薄膜原材料の形状として、エネルギービームが照射される箇所を通り前記ハースと同心の円上において薄膜原材料の量が最大となる形状としたことを特徴とする請求項1に記載の真空成膜装置。
- 前記エネルギービームは、電子ビームであることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の真空成膜装置。
- 前記エネルギービームは、プラズマビームであることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の真空成膜装置。
- 前記薄膜原材料は、酸化マグネシウム(MgO)を主成分とすることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の真空成膜装置。
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JP5078903B2 (ja) * | 2006-10-27 | 2012-11-21 | 株式会社アルバック | プラズマディスプレイパネルの製造方法及び製造装置 |
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