JPH0273730U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第２図は請求項(7)に記載した炉芯
管構造を用いた熱処理装置を示し、第１図は炉芯
管構造を示す分解図、第２図は該炉芯管を用いた
装置概略図、第３図は請求項(6)に記載した炉芯
管構造を用いた熱処理装置を示す要部構成図であ
る。第４図及び第５図は本第２考案の実施例に係
る炉芯管構造を用いた熱処理装置を示し、第４図
は炉芯管構造を示す装置要部概略図、第５図は該
炉芯管に組込まれた制御体を示す一部切欠斜視図
である。 １：炉芯管、１５１：炉芯管の外周壁、１１―
１２：炉芯管本体、１３：尾管周囲部、１４：燃
焼部、１４２：パイル管、１６：制御体、２１〜
２８：連結部、２：発熱体、３：ウエーハ、Ａ：
熱処理区域。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 半導体ウエーハを収納した熱処理区域内に
   処理ガスを流しながら、前記ウエーハの熱処理を
   行う炉芯管構造において、炉芯管内の雰囲気を制
   御するバツフア板や保温筒として機能する雰囲気
   制御体を、一又は複数の通孔を有する円筒体で形
   成するとともに、該制御体の外周壁が、前記炉芯
   管外周壁の一部をなすように構成した事を特徴と
   する炉芯管構造。 (2) 前記制御体が炉芯管に対して分割可能に嵌
   合されている請求項(1)記載の炉芯管構造。 (3) 請求項(1)記載の炉芯管をウエツト酸化装置
   に適用した場合において、前記制御体をパイル管
   が取付けられている燃焼部と前記熱処理区域との
   間に介在させた事を特徴とする請求項(1)記載の
   炉芯管構造。 (4) 請求項(1)記載の炉芯管をＣＶＤ装置に適用
   した場合において、前記制御体を熱処理区域から
   外れた区域に位置する尾管周囲部と熱処理区域と
   の間に介在させた事を特徴とする請求項(1)記載
   の炉芯管構造。 (5) 前記制御体を断熱構造体で形成した請求項(
   1)記載の炉芯管構造。 (6) ウエツト酸化装置に適用される炉芯管構造
   において、少なくともパイル管が取付けられてい
   る燃焼部が、炉芯管本体側に対し分割可能に構成
   した事を特徴とする炉芯管構造。 (7) ＣＶＤ装置に適用される炉芯管構造におい
   て、少なくとも半導体ウエーハを収納した熱処理
   区域から外れた区域に位置する尾管周囲部が、炉
   芯管本体側に対し分割可能に構成した事を特徴と
   する炉芯管構造。