JPH0272145A - ヘキサヒドロフタル酸アニリド誘導体、その製造法及びそれを有効成分として含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は新規なヘキサヒドロフタル酸アニリド誘導体
、その製造方法及びそれを有効成分として含有する除草
剤に関する。

［従来の技術］ 従来より、ヘキサヒドロフタル酸アニリド誘導体の除草
活性はよく知られており、例えば特開昭６１−］：１１
１５４号に開示されているＮ−（４−クロロ−２−フル
オロ−５−インプロポキシフェニール）２−エトキシカ
ルボニルシクロへキシルカルボン酸エチルエステルが知
られている。

［従来の技術の欠点］ しかしながら、従来のヘキサヒドロフタル酸アニリド誘
導体は除草活性か必ずしも十分ではないか又は作物・雑
草間の選択性か十分でなく、従って１作物に対する安全
性に問題がある。

［発明か解決しようとする問題点］ 従って、この発明の目的は、除草剤として用いた場合に
除草活性が高くかつ作物に対する安全性の高い新規化合
物、その製造方法及びそれを有効成分とする新規な除草
剤を提供することである。

［問題を解決するための手段］ 本発明者らは、鋭意研究の結果、エステル部位とアリー
ル部位の５位に特定の置換基を有する新規なヘキサヒド
ロフタル酸アニリド誘導体が極めて優れた除草活性と選
択性を有することを見出しこの発明を完成した。

すなわち、この発明は、 一般式［ＩＩ （たたし、式中、ＲＩは置換されてもよいフェニール基
、Ｒ２は水素原子又は低級アルキル基、Ｒ３は低級アル
キル基又は低級アルケニル基を表わす） て示されるヘキサヒドロフタル酸アニリド誘導体を提供
する。

また、この発明は、 一般式［ＩＩ　］ （たたし、式中、Ｒ１は置換されてもよいフェニール基
、Ｒ２は水素原子又は低級アルキル基な表わす） で示されるアニリン誘導体と 一般式［ｍ］ （ただし１式中　Ｉｆｆは低級アルキル基又は低級アル
ケニル基、Ｘはハロゲン原子を表わす）で示される酸ハ
ロゲン化物とを塩基存在下で反応させることからなる上
記一般式［ＩＩで示されるこの発明の化合物の製造方法
を提供する。

さらにまた、この発明は上記一般式［１］で示されるこ
の発明の化合物を有効成分として含有する除草剤を提供
する。

［発明の効果］ この発明により、除草剤として優れた除草活性及び安全
性を有する新規化合物及びその製造方法が提供された。

また、この発明の化合物を有効成分として含有するこの
発明の除草剤は、後述する実施例で明らかになるように
、種々の雑草を的確に駆除することかできる除草活性の
高いものであり、それていて種々の作物、特にイネや畑
作物であるコムギ、トウモロコシ等には、極めて安全に
使用できる安全性の高いものである。

［発明の詳細な説明］ 上述したように、この発明のヘキサヒドロフタル酸アニ
リド誘導体は、上記一般式［ＩＩで示される。一般式［
１］中、Ｒ１は置換されてもよいフェニール基を示し、
Ｒ２は水素原子又は低級アルキル基を示し、ＲＩ３は低
級アルキル基又は低級アルケニル基を示す、ＲＩの好ま
しい例としては、トルイル基、キシリル基、エチルフェ
ニール基、プロピルフェニール基、ブチルフェニール基
、フェニール基等を挙げることかてき、中でも特にフェ
ニール基が好ましい、また、Ｒ２の好ましい例としては
、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基等の直鎖
又は分岐した炭素数１〜５のアルキル基を挙げることが
でき、中でも特に水素原子又はメチル基が好ましい、さ
らに、Ｒ１の好ましい例としては、メチル基、エチル基
、プロピル基等の直鎖又は分岐したｉ＆素ａ　１〜５の
アルキル基、アリル基、ブテニル基等の炭素数３又は４
のアルケニル基を挙げることかできる、中でも特にエチ
ル基、アリル基か好ましい。

表１に、本発明の好ましい具体例を示すか、本発明の化
合物はこれらに限定されるものではない。

上記一般式で示される本発明化合物は、上記式［１’ｌ
］で示されるアニリン誘導体と上記式［ＩＩ［］で示さ
れる酸ハロゲン化物から、下記反応式に従って製造する
ことができる。但し式中Ｒ１，Ｒ１゜Ｒｆｆは前記と同
じ意味を表わし、Ｘはハロゲン原子、好ましくは塩素原
子、臭素原子又はヨウ素原子を表わす。

［ＩＩ　］　　　　　　　　　［ｍ　］［１］ この反応は反応溶媒の存在下あるいは不存在下に、塩基
存在下て０℃ないし１５０℃、好ましくは２０℃ないし
１００℃で数分から４８時間反応させることによって本
発明化合物を得る。

反応に用いられる溶媒の好ましい例として、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類；ベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素類、エチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類：クロロ
ベンゼン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン
、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；トリエチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン等の第三級アミ
ン；及びアセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、リン酸へキサメチルトリアミド等の
極性溶媒等を挙げることができる。

また、反応に用いられる好ましい塩基の例として、トリ
エチルアミン、ピリジン、ｌ、８−ジアザビシル口［５
，４，Ｏ］−７−ウンデセン、ジメチルアニリン等の第
三級アミン：水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水
酸化アルカリ；水酸化水酸化カリウム等の水酸化アルカ
リ土類：炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナト
リウム；炭酸水素等の炭酸アルカリ塩及び水素化ナトリ
ウムのような水素化金属等を挙げることかてきる。

反応に供される試剤の量は、通常、一般式［ＩＩＩ］で
示される酸ハロゲン化物１当量に対して一般式［１１］
で示されるアニリン誘導体は１当呈から５当値、塩基は
１兆量から１０当量である。

上記した本発明の化合物を有効成分として含む本発明の
除草剤は、水［口の湛水処理において問題となる種々の
雑草、例えばタイヌビエ等のイネ科雑草、アゼナ、キカ
シグサ、ミゾハコベ、コナギ等の広葉雑草、タマガヤツ
リ、マツバイ、ミズガヤツリ等のカヤツリ科雑草に対し
て除草活性を有するか、特に畑地広葉雑草に対して優れ
た除草活性を有する。そのような雑草としては、例えば
カラシナ、マメグンバイナズナ、ヤエムグラ、キヌタソ
ウ、ハコベ、アカザ、イラクサ、ノボロギク、アオビユ
、オナモミ、ノビエ、オオイヌタデ、イチビ等を挙げる
ことができる。また、本発明の除草剤はトウモロコシ、
イネ、コムギ等のイネ科作物に対してほとんど薬害を供
えることかなく、安全性の高いものである。

本発明の除草剤は、上記した本発明の化合物である有効
成分と、この分野において通常用いられている農薬補助
剤を用いて、農薬製剤上一般に行なわれている方法によ
り製剤された、例えば乳剤、水和剤、油剤１粒剤等の製
剤形態にある。これら種々の製剤は実際の使用に際して
は、そのまま使用するか、又は水で所定の濠度に希釈し
て使用することができる。

農薬補助剤の例としては、希釈剤、界面活性剤、安定剤
、固着剤、エアゾール用噴霧剤、共力剤、増量剤、固体
担体、効力延長剤、分散安定剤等を挙げることができる
。希釈剤の例としては水、炭化水素類、アルコール類、
エーテル類、アルコールエーテル類、ケトン類、エステ
ル類、アミド類、スルホキシド類を挙げることができる
。

また増量剤、固体担体としては無Ｉａ、質粉粒体１例え
ば生石灰、マグネシウム石灰１石膏、炭酸カルシウム、
畦土、パーライト、軽石、珪藻上、アルミナ、ゼオライ
ト、粘土鉱物（滑石、バーミキュライト、カオリナイト
）、植物粉粒体（例えばデン粉、穀物、ブドウ糖）、合
成樹脂粉体（例えばフェノール樹脂、炭素樹脂、塩化ビ
ニール樹脂）等を挙げることかできる。界面活性剤とし
ては。

アニオン界面活性剤（例えばアルキル硫酸エステル類、
アリールスルホン酸類、コハク酸塩類、ポリエチレング
リコールアルキルアリールエーテル硫酸塩類）、カチオ
ン界面活性剤（例えばアルキルアミン類、ポリオキシエ
チレナルキルアミン類）、非イオン界面活性剤（例えば
ポリオキシエチレングリコールエーテル類、ポリオキシ
エチレングリコールエステル類、多価アルコールエステ
ル類）、両性界面活性剤等を挙げることかできる。

以下に具体的な製剤の例を示す。

製剤例　１（乳剤） 有効成分２０重量部、キシレン６０重量部及びツルポー
ル２８０５Ｂ　（商品名・東邦化学工業製界面活性剤）
２０重量部を均一・に攪拌混合して乳剤とする。

製剤例　２（水和剤） 有効成分１０ｊｉ量部、ジ−クライト８７重量部、ネオ
プレックスパウダー（商品名：化工（株）社製）及びツ
ルポール８００Ａ　（商品名：東邦化学工業製界面活性
剤）１．５重量部を混合粉砕して水和剤とする。

本発明の除草剤は１通常の除草剤と同様にして使用する
ことができ、例えば畑地雑草の発芽前または発芽初期の
土壌処理に使用することかできる。また、水田雑草に対
しては１例えば水稲の移植活着後に雑草の発生前または
発生直後に本発明の除草剤を用いて土壌処理を行なうこ
とができる。

本発明の除草剤の施用量は、施用する方法、目的、時期
、雑草の発生状況により適宜選択することができるが、
通常、１ヘクタール当たり有効成分量て０．０１ｋｇか
ら１０ｋｇ、好ましくは０．０５ｋｇから５ｋｇである
。

以下、本発明を実施例をあげて具体的に説明するが、本
発明はこれらの例のみに限定されるものではない。

［実施例］ 実施例Ｉ Ｎ−（５−ベンジルオキシ−４−クロロ−２−フルオロ
フェニール）−２−エトキシカルボニルシクロへキシル
カルボン酸アミド（化合物番号ｌ（表１参照））の製造 １．２，３，４，５．６−ヘキサヒドロフタル酸モノエ
ステル４００■ｇを塩化メチレン２０ｓ　Ｉに溶解し、
ピリジン０．１６ｍ１、塩化チオニル０．１６ｍ１を加
え、室温下で攪拌した。１時間後に５−ベンジルオキシ
−４−クロロ−２−フルオロアニリン０．４５ｇ、トリ
エチルアミン１０１を加え室温で２．５時間攪拌した０
反応終了後、反応液に１０％塩酸水溶液を加え酸性とし
、塩化メチレンで２回抽出を行なった。抽出液は飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で洗い、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を減圧留去し残渣をカラムクロマトグラ
フィー（担体：シリカゲル、展開溶媒：ヘキサン／酢酸
エチル＝３７１（Ｖ／Ｖ））で精製し１個体物質０．３
５ｇを得た。

融点＝７８〜８０℃ 元素分析値 融点、１０８〜１１０℃ 元素分析値 ＩＲ（にＢｒ、ｃｍ−’）　　　：１３２０，１７２５
．１６９０Ｐ閘Ｒ（ＣＤ（：ｌ：ｌ　δｐｐＬ１）１．
１０−２．４０（ｍ、ＩＩＩＩ）、　　２．５５−１２
０（麿、２Ｈ）４．１０（ｑｊ＝７１１ｚ、２Ｈ）、５
．１０（ｓ、２ｔｌ）。

７．０６（ｄ、Ｊ＝１０１１ｚ、ｌ１ｌ）、７．１５−
７．５５（１５ｆｌ）７．７０（ｂｒｇ、ＩＩＩ）、８
．１６（ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、１Ｂ）実施例２ アニリン誘導体として５−（１−フェニルエチルオキシ
）−４−クロロ−２−フルオロアニリンを用いることを
除き、実施例１と同様な操作を行ない、化合物番号２（
表１参照）の化合物を得た。

ｒ　　Ｒ（ＫＢｒ、　　ａｍ−’）　　　３３２０．　
１７２５．　１６９０Ｐ鼠Ｒ（ＣＤＣ１１δ　ｐｐｍ） ０．９０−２．ｆ１５（鳳、１４Ｈ）、　　２．５０−
コ、１０（ｍ、２Ｈ）４．０９（ｑ、Ｊ＝Ｈ１ｚ、２１
１）、　　５．：１９（ｑ、Ｊ−６Ｈｚ、１）１）７．
００（ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ、ＩＨ）、　　７．１０−７．
５０（ｍ、５Ｈ）７．６８（ｂｒｓ、［１）、８．０３
（ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、ＩＨ）実施例３ ヘキサハイドロフタル酸モノアルキルエステルとして、
１，２，３，４．Ｓ、６−ヘキサヒドロフタル酸モノア
リルエステルを用いたことを除き、実施例２と同様の操
作を行ない、化合物番号３の化合物を得た。

融点：５４〜５６℃ 元素分析値 Ｉ　　Ｒ（ＫＢｒ、ｃｍ−’）　　　：ｌ３２０．　１
７２５．　１６９０ＰＭＲ（ＣＤＣ１，δｐｐｍ） １．００−２．５０（ｍ、１１１１）、２．５Ｏ−１１
５（園、２１１）４．５２（ｄ、Ｊ＝５１１ｚ、２１１
）、４．９０−６．２２（＋＊、４Ｈ）７．００（ｄ、
Ｊ”１ＯＨｚ、ＩＨ）、７．０５−７．５３（ｍ、５Ｈ
）７．５８（ｂｒｓ、１１）、８．０１（ｄ、Ｊ−７１
１ｚ、１）Ｉ）実施例４　土壌処理試験 ６０ｃ■２のプラスチックポットに水田土壌を詰め１代
掻き後、下記表２に示す雑草の種子をまき更に２葉期の
水種（品種：ヤマホウシ）１本を移植し、約３ｃ園の湛
水状態で管理した。ノビエ及び広ｒＪ雑草の発生初期に
、上記製剤例２に従って製剤した本発明の除草剤を所定
量の水で希釈し、表２に示す陸を水面に均一に施した。

また比較剤として、特開昭６１−：ｌ：１１５４号等に
開示されているＮ−（４−クロロ−２−フルオロ−５−
インプロポキシフェニール）−２−エトキシカルボニル
シクロへキシルカルボン酸エチルエステルを用いた。

薬剤処理後、２０日目に雑草及び作物の生育状慝を観察
し、表２の結果を得た。なお１除草効力の評価は下記に
示すように０〜５の数字で表わした。また、作物に対す
る薬害も除草効力と同し基準て示した。

０・・・抑草率　　　０〜９％ ｌ・・・抑草率　　１０〜２９％ ２・・・抑草率　　３０〜４９％ ３・・・抑草率　　５０〜６９％ ４・　・抑草率　　７０〜８９％ ５・・　抑草率　　９０〜１００％ 実施例５　　茎葉処理試験 ’２２ｃｓＸ　１５ｃｍのプラスチックハツトに畑土壌
を詰め、コムギ、トウモロコシ、ダイズの種子を一定量
播種し、その上にノビエ、イチビ、アオビユオナモミ等
の雑草種子を含む土壌を約１ｃｓの厚さに覆土した。ノ
ビエが２〜２．５葉期になった時に、上記の化合物（化
合物番号３）を下記表３に示す置数！１した。散布後１
４日目に雑草及び作物の生育状態を観察し、表３に示す
結果を得た。

なお、比較剤は実施例４と同一のものを使用し、除草効
果及び薬害の評価は実施例４と同様に行なった。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）　一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、式中、Ｒ＾１は置換されてもよいフェニール
   基、Ｒ＾２は水素原子又は低級アルキル基、Ｒ＾３は低
   級アルキル基又は低級アルケニル基を表わす） で示されるヘキサヒドロフタル酸アニリド誘導体。
2. （２）Ｒ＾１がフェニール基である請求項１記載のヘキ
   サヒドロフタル酸アニリド誘導体。
3. （３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、式中、Ｒ＾１は置換されてもよいフェニール
   基、Ｒ＾２は水素原子又は低級アルキル基を表わす） で示されるアニリン誘導体と、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、式中、Ｒ＾３は低級アルキル基又は低級アル
   ケニル基、Ｘはハロゲン原子を表わす）で示される酸ハ
   ロゲン化物とを塩基存在下で反応させることを特徴とす
   る請求項１記載のヘキサヒドロフタル酸アニリド誘導体
   の製造方法。
4. （４）請求項１記載のヘキサヒドロフタル酸アニリド誘
   導体を有効成分として含有する除草剤。