JPH0269906A - 強磁性膜 - Google Patents
強磁性膜Info
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- JPH0269906A JPH0269906A JP22126288A JP22126288A JPH0269906A JP H0269906 A JPH0269906 A JP H0269906A JP 22126288 A JP22126288 A JP 22126288A JP 22126288 A JP22126288 A JP 22126288A JP H0269906 A JPH0269906 A JP H0269906A
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- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 13
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 48
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 48
- 229910003321 CoFe Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 abstract description 36
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 10
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 78
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は磁気ヘッド用の強磁性膜に関する。
（従来の技術）
ところで、Ｆｅ系合金以外にも、ＣｏＦｅ合金は約１０
％以上Ｆｅを含む広い組成範囲で１９ｋＧ以上の高い飽
和磁束密度を有することが知られている。ＣＯを多く含
むＣｏＦｅ合金はＦｅ系合金に比べ耐食性に優れる利点
を有する。メツキ法により製作したｆｃｃ相から成るＣ
ｏ−１０％Ｆｅ合金膜（飽和磁束密度： １９ｋＧ）は
Ｆｅ系合金膜に匹敵する低い保磁力（〜２０ｅ）を示す
ことが報告されている（ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ、Ｍａｇ
ｎ、。
％以上Ｆｅを含む広い組成範囲で１９ｋＧ以上の高い飽
和磁束密度を有することが知られている。ＣＯを多く含
むＣｏＦｅ合金はＦｅ系合金に比べ耐食性に優れる利点
を有する。メツキ法により製作したｆｃｃ相から成るＣ
ｏ−１０％Ｆｅ合金膜（飽和磁束密度： １９ｋＧ）は
Ｆｅ系合金膜に匹敵する低い保磁力（〜２０ｅ）を示す
ことが報告されている（ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ、Ｍａｇ
ｎ、。
ＶＯＬ ＭＡＣｒ２３（１９８７）２９８１）。 ここ
で、磁気ヘッドの各種薄膜パターンの製造プロセスにお
いては、半導体の分野同様、湿式プロセスであるメツキ
法に代わり、将来はスパッタや蒸着法等のドライプロセ
スが望ましいと考えられる。しかし、スパッタ法により
作製したＣｏを多く含むＣｏＦｅ合金膜では、Ｃｏ−約
１５％Ｆｅ、 Ｃｏ−約３０％Ｆｅ、 Ｃｏ−約４０％
Ｆａの３種類のＣｏＦｅ合金膜が１００ｅ以上の比較的
大きな保磁力を示す結果から推定して、Ｆｅ系合金膜に
匹敵する低保磁力膜は製作困難とされている（Ｊ、 Ａ
ｐｐｌ。
で、磁気ヘッドの各種薄膜パターンの製造プロセスにお
いては、半導体の分野同様、湿式プロセスであるメツキ
法に代わり、将来はスパッタや蒸着法等のドライプロセ
スが望ましいと考えられる。しかし、スパッタ法により
作製したＣｏを多く含むＣｏＦｅ合金膜では、Ｃｏ−約
１５％Ｆｅ、 Ｃｏ−約３０％Ｆｅ、 Ｃｏ−約４０％
Ｆａの３種類のＣｏＦｅ合金膜が１００ｅ以上の比較的
大きな保磁力を示す結果から推定して、Ｆｅ系合金膜に
匹敵する低保磁力膜は製作困難とされている（Ｊ、 Ａ
ｐｐｌ。
Ｐｈｙｓ、 、４３（１９７２）３５４２）。また、最
近Ｆｅ−（０−５２）％Ｃｏ合金膜をイオンビームスパ
ッタ法により作成したところ、やはり低保磁力の膜が作
製できないことが報告されている（日本応用磁気学会誌
、１０（１９８６）３１５）。
近Ｆｅ−（０−５２）％Ｃｏ合金膜をイオンビームスパ
ッタ法により作成したところ、やはり低保磁力の膜が作
製できないことが報告されている（日本応用磁気学会誌
、１０（１９８６）３１５）。
（発明が解決しようとする課題）
上記の説明から、ＣｏＦｅ合金膜は約２０ｋＧの高い飽
和磁束密度を有するものの、スパッタ法や蒸着法ではＦ
ｅ系の膜に匹敵する良好な軟磁性が得られていない現状
である。本発明は、良好な軟磁気特性を有する強磁性膜
を提供するものである。
和磁束密度を有するものの、スパッタ法や蒸着法ではＦ
ｅ系の膜に匹敵する良好な軟磁性が得られていない現状
である。本発明は、良好な軟磁気特性を有する強磁性膜
を提供するものである。
（課題を解決するための手段）
本発明は、ＣｏＦｅ合金からなる強磁性膜において、膜
面垂直方向に（１１０）面が優先成長したｂｃｃ相が他
の相に比べて最も多く、ｆｃｃ相が含まれていることを
特徴とする強磁性膜である。
面垂直方向に（１１０）面が優先成長したｂｃｃ相が他
の相に比べて最も多く、ｆｃｃ相が含まれていることを
特徴とする強磁性膜である。
すなわち、ＣｏＦｅの組成によらず、どの組成について
もｂｃｃ相（１，１０）回折ピークを主とし僅かにｆｃ
ｃ相の回折ピーク（例えば（１，１，１）回折ピーク）
を含む結晶構造、すなわちｂｃｃ相（１１０）面が膜面
垂直方向に配向したＩ）ＣＣ相を主とし僅かにｆｃｃ相
を含む結晶構造を有するＣｏＦｅ合金膜で低保磁力膜が
作製できる。
もｂｃｃ相（１，１０）回折ピークを主とし僅かにｆｃ
ｃ相の回折ピーク（例えば（１，１，１）回折ピーク）
を含む結晶構造、すなわちｂｃｃ相（１１０）面が膜面
垂直方向に配向したＩ）ＣＣ相を主とし僅かにｆｃｃ相
を含む結晶構造を有するＣｏＦｅ合金膜で低保磁力膜が
作製できる。
（作用）
本発明による強磁性膜は、Ｆｅ系合金膜やメツキＣｏＦ
ｅ合金膜に匹敵する約２０ｅの低保磁力を示す。
ｅ合金膜に匹敵する約２０ｅの低保磁力を示す。
さらに、ｆｃｃ相から成る低保磁カメツキＣｏＦｅ合金
膜に比べて（飽和磁束密度： １９ｋＧ） 、Ｆｅを多
く含み主にｂｃｃ相から成るために２０ｔＧのさらに高
い飽和磁束密度を有する。また、Ｆｅ系合金膜に比べて
、Ｆｅ濃度が少なくＣｏを多く含むため耐食性が良好で
ある。その結果、本発明によるＣｏＦｅ合金膜を磁気ヘ
ッド用磁性膜として使用すれば、高密度記録再生に極め
て有利な磁気ヘッドが期待される。
膜に比べて（飽和磁束密度： １９ｋＧ） 、Ｆｅを多
く含み主にｂｃｃ相から成るために２０ｔＧのさらに高
い飽和磁束密度を有する。また、Ｆｅ系合金膜に比べて
、Ｆｅ濃度が少なくＣｏを多く含むため耐食性が良好で
ある。その結果、本発明によるＣｏＦｅ合金膜を磁気ヘ
ッド用磁性膜として使用すれば、高密度記録再生に極め
て有利な磁気ヘッドが期待される。
（実施例）
以下に本発明の幾つかの実施例を挙げ、図面や表を参照
しながらさらに其体的に説明する。
しながらさらに其体的に説明する。
−刈施布」−
ＣｏＦｅ合金膜は、２極高周波スパッタによりガラス基
板（コーニング社の０２１１基板）上に作製した。
板（コーニング社の０２１１基板）上に作製した。
ターゲットは００円板上に複数のＦｅｄを配置した複合
ターゲットとした。膜組成はＦｅ線の数および形状によ
り変化させ、蛍光Ｘ線分析により評価した。
ターゲットとした。膜組成はＦｅ線の数および形状によ
り変化させ、蛍光Ｘ線分析により評価した。
：３
膜作製中基板近傍に配置した永久磁石によりバイアス磁
界を付与する方法により、膜面内方向に一軸磁気異方性
を付与した。なお、スパッタリングは以下の条件で行な
った。
界を付与する方法により、膜面内方向に一軸磁気異方性
を付与した。なお、スパッタリングは以下の条件で行な
った。
高周波電力密度 ： ５Ｗ／ｄ
アルゴン圧力 ： ５ Ｘ １Ｏ−３Ｔｏｒｒ基板
温度 ：１１０°Ｃ 電極間Ｆ１１離 ： ４０ｎｍ 予備排気 ： Ｉ Ｘ １Ｏ−６Ｔｏｒｒ以下
膜厚は０ 、２５−０ 、３７１ｍ とした。保磁力は
、最大２５０（ｌｅの磁界を困難軸方向（荊記バイアス
磁界の方向と直交する膜面内方向）に加えて測定した。
温度 ：１１０°Ｃ 電極間Ｆ１１離 ： ４０ｎｍ 予備排気 ： Ｉ Ｘ １Ｏ−６Ｔｏｒｒ以下
膜厚は０ 、２５−０ 、３７１ｍ とした。保磁力は
、最大２５０（ｌｅの磁界を困難軸方向（荊記バイアス
磁界の方向と直交する膜面内方向）に加えて測定した。
結晶構造はＸ線デイフラクトメータ法（ＣｕＫｏ線を使
用）により調べた。
用）により調べた。
一］−記条件により作製したＣｏＦｅ合金膜について、
従来報告以」−に詳細に保磁力のＦｅ濃度依存性を測定
したところ第十図に示す結果を得た。
従来報告以」−に詳細に保磁力のＦｅ濃度依存性を測定
したところ第十図に示す結果を得た。
Ｆｅｆｉ度が３０原子パ一セント以上またはＩ６原子パ
ーセン１−以下のＣｏＦｅ合金膜では、保磁力は８０ｅ
以上の大きな値を示し、磁気ヘッド用磁性膜には不−４
＝ 適であった。これらの保磁力は、従来報告によるスパッ
タＣｏＦｅ合金膜におよそ一致するうしかるに、１８か
ら２６原子パーセントまでのＣｏＦｅ合金膜では、従来
報告例からの予想を覆し、保磁力は大幅に低下し約２．
５０ｅの低い値を示す。第１−表に、第２［関に示した
ＣｏＦｅ合金膜の各組成における、保磁力ｔｌｃ、飽和
磁束密度Ｂｓ、およびｂｃｃ相（１１，０）回折ピーク
強度Ｓ ｂｃｃとｆｃｃ相（ｉｌ、］−）回折ピーク強
度Ｓ ｆｃｃの比Ｓ ｂｅｅ／ Ｓ ｆｅｅを示す。ま
た、第１図に第１表に示したＣｏＦｅ膜の幾つかについ
て、Ｘ線回折曲線を示す。なお、Ｆｅ濃度が３５ｉ子パ
ーセン１−以上の膜では、この他に僅かなりＣＣ相（２
００）回折ピークが認められたが、この他の組成の膜で
は、他の回折ピークは認められなかった。第１表および
第１図から、ｂｃｃ相とｆｃｃ相の２相共存領域で、か
つ、ｂｃｃ相からの回折強度が強いＣｏＦｅ合金膜が、
第２図に示した低保磁力ＣｏＦｅ合金膜の組成に対応す
ることが判る。メツキ法によりｆｅｅＣＣ相のＣｏ−１
０％Ｆｅ合金膜でＢｓ ＝ １９ｋＧの低保磁力（〜２
０ｅ）膜が作製できることが報告されているが、本発明
による低保磁カスバッタＣｏＦｅ合金膜は前記低保磁カ
メツキＣｏＦｅ合金膜と異なる組成を示すこを特徴とす
る。さらに、本発明によるＣｏＦｅ合金膜は、ｂｃｃ相
を主とするためｆｃｃ相を主とするメツキＣｏＦｅ合金
膜の飽和磁束密度１９ｋＧに比べて飽和磁束密度（２１
ｋＧ）が高い利点を有する。なお、１８原子パーセント
から２６原子パーセントまでのＦｅ濃度を有するＣｏＦ
ｅ合膜でも基板温度などのスパッタ条件が適切でないと
前記低保磁力が得られない一例を第２表に示す。この表
は、同組成のＣｏＦｅ合金膜を異なるアルゴン圧力で作
製した場合の、保磁力ｔｌｃと前記Ｓ ｂｅｅ／ Ｓ
ｆｃｃの関係を示す。２ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒや３
Ｘ １Ｏ−３Ｔｏｒｒのアルゴン圧力で作製したＣｏＦ
ｅ合金膜は、 ５ｂｃｃ／Ｓ ｆｃｃが１−以下に低下
し、保磁力が増加したことが判る。
ーセン１−以下のＣｏＦｅ合金膜では、保磁力は８０ｅ
以上の大きな値を示し、磁気ヘッド用磁性膜には不−４
＝ 適であった。これらの保磁力は、従来報告によるスパッ
タＣｏＦｅ合金膜におよそ一致するうしかるに、１８か
ら２６原子パーセントまでのＣｏＦｅ合金膜では、従来
報告例からの予想を覆し、保磁力は大幅に低下し約２．
５０ｅの低い値を示す。第１−表に、第２［関に示した
ＣｏＦｅ合金膜の各組成における、保磁力ｔｌｃ、飽和
磁束密度Ｂｓ、およびｂｃｃ相（１１，０）回折ピーク
強度Ｓ ｂｃｃとｆｃｃ相（ｉｌ、］−）回折ピーク強
度Ｓ ｆｃｃの比Ｓ ｂｅｅ／ Ｓ ｆｅｅを示す。ま
た、第１図に第１表に示したＣｏＦｅ膜の幾つかについ
て、Ｘ線回折曲線を示す。なお、Ｆｅ濃度が３５ｉ子パ
ーセン１−以上の膜では、この他に僅かなりＣＣ相（２
００）回折ピークが認められたが、この他の組成の膜で
は、他の回折ピークは認められなかった。第１表および
第１図から、ｂｃｃ相とｆｃｃ相の２相共存領域で、か
つ、ｂｃｃ相からの回折強度が強いＣｏＦｅ合金膜が、
第２図に示した低保磁力ＣｏＦｅ合金膜の組成に対応す
ることが判る。メツキ法によりｆｅｅＣＣ相のＣｏ−１
０％Ｆｅ合金膜でＢｓ ＝ １９ｋＧの低保磁力（〜２
０ｅ）膜が作製できることが報告されているが、本発明
による低保磁カスバッタＣｏＦｅ合金膜は前記低保磁カ
メツキＣｏＦｅ合金膜と異なる組成を示すこを特徴とす
る。さらに、本発明によるＣｏＦｅ合金膜は、ｂｃｃ相
を主とするためｆｃｃ相を主とするメツキＣｏＦｅ合金
膜の飽和磁束密度１９ｋＧに比べて飽和磁束密度（２１
ｋＧ）が高い利点を有する。なお、１８原子パーセント
から２６原子パーセントまでのＦｅ濃度を有するＣｏＦ
ｅ合膜でも基板温度などのスパッタ条件が適切でないと
前記低保磁力が得られない一例を第２表に示す。この表
は、同組成のＣｏＦｅ合金膜を異なるアルゴン圧力で作
製した場合の、保磁力ｔｌｃと前記Ｓ ｂｅｅ／ Ｓ
ｆｃｃの関係を示す。２ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒや３
Ｘ １Ｏ−３Ｔｏｒｒのアルゴン圧力で作製したＣｏＦ
ｅ合金膜は、 ５ｂｃｃ／Ｓ ｆｃｃが１−以下に低下
し、保磁力が増加したことが判る。
（以下余白）
第 １ 表
第 ２ 表
第 ３ 表
実施例２
アルゴン圧力を２ Ｘ １Ｏ−２Ｔｏｒｒに変えて、他
の実施例１と同条件にて作製したスパッタＣｏＦｅ合金
膜について、詳細に保磁力のＦｅ１度依存性を測定した
ところ第３図に示す結果を得た。Ｆｅ濃度が３２原子パ
一セント以上または１１原子パーセント以下のＣｏＦｅ
合金膜では、保磁力は８０ｅ以上の大きな値を示し、磁
気ヘッド用磁性膜には不適であった。しかるに１３から
３５原子パーセントまでのＣｏＦｅ合金膜では、従来報
告例からの予想を覆し、保磁力は大幅に低下し実施例１
の場合と同様約２．５０ｅの低保磁力を示した。実施例
１に比べてアルゴン圧力を高めるとより低いＦｅ濃度で
も低保磁力が得られることが判る。第３表に、第３図に
示したＣｏＦｅ合金膜の各組成における、保磁力Ｈｃ、
飽和磁束密度Ｂｓ、およびｂｃｃ相（１１０）回折ピー
ク強度Ｓ ｂｃｃとｆｃｃ相（１１１）回折ピーク強度
Ｓ ｆｃｃの比Ｓ ｂｅｅ／ Ｓ ｆｅｅを示す。この
表から、実施例１に比べてより低いＦｅ５度でもＳ ｂ
ｅｅ／ Ｓ ｆｅｅ） １、すなわちｂｃｃ相（１，１
０）回折ピークが主の膜が作製可能であり、実施例１の
場合と同様、低保磁力の得られるＣｏＦｅ合金膜の組成
はｂｃｃ相（１１０）回折ピークが主でありｆｃｃ相（
１１−１）回折ピークは僅かである結晶構造を有する組
成に対応することが判る。以上の結果から、スパッタ作
製条件を変えると低保磁力を得る組成範囲が変動した原
因は、低保磁力を得る結晶構造を示す組成範囲が変動す
るためである。
の実施例１と同条件にて作製したスパッタＣｏＦｅ合金
膜について、詳細に保磁力のＦｅ１度依存性を測定した
ところ第３図に示す結果を得た。Ｆｅ濃度が３２原子パ
一セント以上または１１原子パーセント以下のＣｏＦｅ
合金膜では、保磁力は８０ｅ以上の大きな値を示し、磁
気ヘッド用磁性膜には不適であった。しかるに１３から
３５原子パーセントまでのＣｏＦｅ合金膜では、従来報
告例からの予想を覆し、保磁力は大幅に低下し実施例１
の場合と同様約２．５０ｅの低保磁力を示した。実施例
１に比べてアルゴン圧力を高めるとより低いＦｅ濃度で
も低保磁力が得られることが判る。第３表に、第３図に
示したＣｏＦｅ合金膜の各組成における、保磁力Ｈｃ、
飽和磁束密度Ｂｓ、およびｂｃｃ相（１１０）回折ピー
ク強度Ｓ ｂｃｃとｆｃｃ相（１１１）回折ピーク強度
Ｓ ｆｃｃの比Ｓ ｂｅｅ／ Ｓ ｆｅｅを示す。この
表から、実施例１に比べてより低いＦｅ５度でもＳ ｂ
ｅｅ／ Ｓ ｆｅｅ） １、すなわちｂｃｃ相（１，１
０）回折ピークが主の膜が作製可能であり、実施例１の
場合と同様、低保磁力の得られるＣｏＦｅ合金膜の組成
はｂｃｃ相（１１０）回折ピークが主でありｆｃｃ相（
１１−１）回折ピークは僅かである結晶構造を有する組
成に対応することが判る。以上の結果から、スパッタ作
製条件を変えると低保磁力を得る組成範囲が変動した原
因は、低保磁力を得る結晶構造を示す組成範囲が変動す
るためである。
実施例３
基板温度を８０℃に設定、Ｆｅ濃度やアルゴン圧力をパ
ラメータとして、他は実施例１や２と同条件のスパッタ
法によりＣｏＦｅ合金膜を作製した結果の一例を第４表
に示す。この表は、各Ｆｅ濃度アルゴン圧力における保
磁力Ｈｃとｂｃｃ相（１１，０）回折ピーク強度Ｓ１．
１． ｆｌとｂｃｃ相（２００）回折ピーク強度の比５
ｔ１ｏ／５２ｎｎを示したものである。実施例１や２で
示した基板温度が１１０℃で作製した低保磁力ＣｏＦｅ
合金膜では、ｂｃｃ相（２００）回折ピーク強度は測定
されなかったが、基板温度を８０℃に下げると、ｂｃｃ
相（２００）回折ピーク強度が出現する傾向にあった。
ラメータとして、他は実施例１や２と同条件のスパッタ
法によりＣｏＦｅ合金膜を作製した結果の一例を第４表
に示す。この表は、各Ｆｅ濃度アルゴン圧力における保
磁力Ｈｃとｂｃｃ相（１１，０）回折ピーク強度Ｓ１．
１． ｆｌとｂｃｃ相（２００）回折ピーク強度の比５
ｔ１ｏ／５２ｎｎを示したものである。実施例１や２で
示した基板温度が１１０℃で作製した低保磁力ＣｏＦｅ
合金膜では、ｂｃｃ相（２００）回折ピーク強度は測定
されなかったが、基板温度を８０℃に下げると、ｂｃｃ
相（２００）回折ピーク強度が出現する傾向にあった。
さらに、Ｓ１１゜／５ｚｏｏは組成やアルゴン圧力に応
じて変化するものの、Ｓ］、＋［＋／３２０［＋≧１０
の場合低保磁力ＣｏＦｅ合金膜が実現でき、逆に、Ｓ□
□。／Ｓ、ｏ、（１，０の場合低保磁力の比較的大きな
ＣｏＦｅ合金膜しか実現できなかった。スパッタ前の到
達真空度が悪い場合にもＳ、、ｏ／Ｓ、。。＜１０の結
晶構造を示す膜が得られる場合があり、この膜もやはり
保磁力は］、００ｅ以上の値を示し、磁気ヘッド磁性膜
への応用は不適であった。以」―の結果から、ｂｃｃ相
（１］−０）配向度の良好なＣｏＦｅ合金膜で低保磁力
すなわち磁気ヘッド磁性膜に適する特性が実現できるこ
とが判る。
じて変化するものの、Ｓ］、＋［＋／３２０［＋≧１０
の場合低保磁力ＣｏＦｅ合金膜が実現でき、逆に、Ｓ□
□。／Ｓ、ｏ、（１，０の場合低保磁力の比較的大きな
ＣｏＦｅ合金膜しか実現できなかった。スパッタ前の到
達真空度が悪い場合にもＳ、、ｏ／Ｓ、。。＜１０の結
晶構造を示す膜が得られる場合があり、この膜もやはり
保磁力は］、００ｅ以上の値を示し、磁気ヘッド磁性膜
への応用は不適であった。以」―の結果から、ｂｃｃ相
（１］−０）配向度の良好なＣｏＦｅ合金膜で低保磁力
すなわち磁気ヘッド磁性膜に適する特性が実現できるこ
とが判る。
ところで、第４表におけるＦｅ濃度が１８原子パーセン
ト、アルゴン圧力が５ Ｘ １．０−３Ｔｏｒｒの条件
で作製したＣｏＦｅ合金膜では、Ｆｅ濃度が２２．５原
子バーセント、アルゴン圧力が５ Ｘ １Ｏ−３Ｔｏｒ
ｒの条件で作製第４表 した膜と比べて、ｂｃｃ相（１１，０）配向度が良好で
ないにも拘らず低保磁力を示した。この場合、（１１０
）回折曲線の半値幅から推定した平均の結晶粒径は、後
者の膜（約４８０人）に比べて前者の膜（約２８０人）
で微細であった。Ｆｅ系合金膜では平均の結晶粒径を微
細化すると保磁力が低下することが知られているが、本
発明におけるＣｏＦｅ合金膜でも同様に平均の結晶粒径
を微細化することで保磁力が低下することが判る。従っ
て、Ｆｅ系合金膜と同様、第４図（ａ）に示したように
、結晶粒径の成長を抑制する他の中間層３］（例えば、
ＮｊＦｅ合金膜やＣＯ系非晶質等の磁性膜、またはＺｎ
Ｏ＋ ５ｉｏ２１ ＡＱ２０３等の非磁性膜）と本発明
におけるＣｏＦｅ合金膜３２とを交互に積層した多層構
造の磁性膜により、さらに平均の結晶粒径が微細化され
保磁力が低減できると予想される。なお第４図（ｂ）に
は、第３図（ａ）の３１と３２から構成される前記多層
膜と基板との中間に、ＣｏＦｅ合金膜のｂｃｃ相（１４
０）配向度を向上させる結果を有する下地層３３（例え
ばＺｎＯ等）を設け、さらに保磁力を低減する多層構造
の磁性膜の実施例を示す。この下地層３３は中間層３１
と同材料である場合、異なる材料から成る場合が考えら
れる。
ト、アルゴン圧力が５ Ｘ １．０−３Ｔｏｒｒの条件
で作製したＣｏＦｅ合金膜では、Ｆｅ濃度が２２．５原
子バーセント、アルゴン圧力が５ Ｘ １Ｏ−３Ｔｏｒ
ｒの条件で作製第４表 した膜と比べて、ｂｃｃ相（１１，０）配向度が良好で
ないにも拘らず低保磁力を示した。この場合、（１１０
）回折曲線の半値幅から推定した平均の結晶粒径は、後
者の膜（約４８０人）に比べて前者の膜（約２８０人）
で微細であった。Ｆｅ系合金膜では平均の結晶粒径を微
細化すると保磁力が低下することが知られているが、本
発明におけるＣｏＦｅ合金膜でも同様に平均の結晶粒径
を微細化することで保磁力が低下することが判る。従っ
て、Ｆｅ系合金膜と同様、第４図（ａ）に示したように
、結晶粒径の成長を抑制する他の中間層３］（例えば、
ＮｊＦｅ合金膜やＣＯ系非晶質等の磁性膜、またはＺｎ
Ｏ＋ ５ｉｏ２１ ＡＱ２０３等の非磁性膜）と本発明
におけるＣｏＦｅ合金膜３２とを交互に積層した多層構
造の磁性膜により、さらに平均の結晶粒径が微細化され
保磁力が低減できると予想される。なお第４図（ｂ）に
は、第３図（ａ）の３１と３２から構成される前記多層
膜と基板との中間に、ＣｏＦｅ合金膜のｂｃｃ相（１４
０）配向度を向上させる結果を有する下地層３３（例え
ばＺｎＯ等）を設け、さらに保磁力を低減する多層構造
の磁性膜の実施例を示す。この下地層３３は中間層３１
と同材料である場合、異なる材料から成る場合が考えら
れる。
以−ヒ詳細に説明したごとく、本発明の強磁性薄膜は高
い飽和磁束密度を有し、且つ、低保磁力を有する。
い飽和磁束密度を有し、且つ、低保磁力を有する。
の実施例２におけるＣｏＦｅ合金膜の保磁力と組成の代
理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 松山光之 Ｆｅり阪バｊ（Ｊ平、３ペーセント） 第 図 第 図
理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 松山光之 Ｆｅり阪バｊ（Ｊ平、３ペーセント） 第 図 第 図
Claims (3)
- （１）ＣｏＦｅ合金からなる強磁性膜において、（１１
０）面が膜面垂直方向に優先成長したｂｃｃ相が他の相
に比べて最も多く、ｆｃｃ相が含まれていることを特徴
とする強磁性膜。 - （２）前記ＣｏＦｅ合金のＦｅ濃度が１３から２６原子
パーセントであることを特徴とする請求項１記載の強磁
性膜。 - （３）スパッタ法により作製されることを特徴とする請
求項１記載の強磁性膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22126288A JPH0269906A (ja) | 1988-09-06 | 1988-09-06 | 強磁性膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22126288A JPH0269906A (ja) | 1988-09-06 | 1988-09-06 | 強磁性膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0269906A true JPH0269906A (ja) | 1990-03-08 |
Family
ID=16764015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22126288A Pending JPH0269906A (ja) | 1988-09-06 | 1988-09-06 | 強磁性膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0269906A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6451000B1 (en) | 1993-04-05 | 2002-09-17 | Kao Corporation | Disposable diaper |
| US6794063B2 (en) | 2001-05-24 | 2004-09-21 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head and method of fabricating the head |
| US7397632B2 (en) * | 2005-03-23 | 2008-07-08 | Fujitsu Limited | Soft magnetic thin film and magnetic recording head |
| US9101513B2 (en) | 2010-07-05 | 2015-08-11 | Livedo Corporation | Disposable diaper |
-
1988
- 1988-09-06 JP JP22126288A patent/JPH0269906A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6451000B1 (en) | 1993-04-05 | 2002-09-17 | Kao Corporation | Disposable diaper |
| US6794063B2 (en) | 2001-05-24 | 2004-09-21 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head and method of fabricating the head |
| US7397632B2 (en) * | 2005-03-23 | 2008-07-08 | Fujitsu Limited | Soft magnetic thin film and magnetic recording head |
| US9101513B2 (en) | 2010-07-05 | 2015-08-11 | Livedo Corporation | Disposable diaper |
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