JPH02671A - 反射防止膜の表面処理剤及び表面処理法 - Google Patents
反射防止膜の表面処理剤及び表面処理法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「技術分野」
本発明は、耐水性、耐汚染性、耐擦傷性、耐加工性等に
おいて優れた反射防止膜を有する光学部品に係り、眼鏡
レンズ、カメラレンズ等の光学用レンズ及びカメラフィ
ルター、ＣＲＴ用フィルター等に適用される反射防止膜
の表面処理剤及び表面処理法に関する。
おいて優れた反射防止膜を有する光学部品に係り、眼鏡
レンズ、カメラレンズ等の光学用レンズ及びカメラフィ
ルター、ＣＲＴ用フィルター等に適用される反射防止膜
の表面処理剤及び表面処理法に関する。
「従来技術及びその問題点」
ガラスレンズ、プラスチックレンズ等の光学用基板を直
接利用する場合、表面の反射、ギラツキ等により光学的
に有害な場合が多い。そこで、静的には、ガラスレンズ
、プラスチックレンズ等の光学用基板に表面処理を施し
て反射率を低下させ、透過率を向上させる方法が採られ
ている。反射防止法の具体的手段としては、真空蒸着法
により無機酸化物又はハロゲン化物をコートする方法が
一般に利用されている。
接利用する場合、表面の反射、ギラツキ等により光学的
に有害な場合が多い。そこで、静的には、ガラスレンズ
、プラスチックレンズ等の光学用基板に表面処理を施し
て反射率を低下させ、透過率を向上させる方法が採られ
ている。反射防止法の具体的手段としては、真空蒸着法
により無機酸化物又はハロゲン化物をコートする方法が
一般に利用されている。
しかし、この反射防止膜は、汗、手垢、指紋、ヘアリキ
ッド、油等による汚れが目立ち易く、除去しにくい。ま
た、水に対する濡れ性が大きいため、水滴や雨滴が付着
すると、水滴、雨滴が大きくなり、屈折率が変化する。
ッド、油等による汚れが目立ち易く、除去しにくい。ま
た、水に対する濡れ性が大きいため、水滴や雨滴が付着
すると、水滴、雨滴が大きくなり、屈折率が変化する。
更に、塗膜上の水分の一部が膜に浸み込み、その水に溶
けている元素やイオンが塗膜に化学変化を起こさせ、屈
折率を変動させる。
けている元素やイオンが塗膜に化学変化を起こさせ、屈
折率を変動させる。
一般に、反射防止膜の空気に曝される面（最外周の被覆
層）には、ＳｉＯ□系、ＭｇＦ２系の被膜が使用されて
いる。ＳｉＯ□系の被膜の場合、Ｓｉｎ、が水と反応し
、シラノール基が生成し、屈折率が変化し、水ヤケ現象
が発生する。また、ＭｇＦ２系の被膜の場合、ＭｇＦ２
は水と反応し、Ｍｇ （ＯＨ） ｚが析出し、同様に水
ヤケ現象が発生ずる。
層）には、ＳｉＯ□系、ＭｇＦ２系の被膜が使用されて
いる。ＳｉＯ□系の被膜の場合、Ｓｉｎ、が水と反応し
、シラノール基が生成し、屈折率が変化し、水ヤケ現象
が発生する。また、ＭｇＦ２系の被膜の場合、ＭｇＦ２
は水と反応し、Ｍｇ （ＯＨ） ｚが析出し、同様に水
ヤケ現象が発生ずる。
更に、真空蒸着後の被膜面は、表面の滑りが悪いため、
摩耗により傷が付き易い等の問題点があった。
摩耗により傷が付き易い等の問題点があった。
「発明の目的」
本発明は、前記のような従来技術の問題点を解消し、耐
水性、耐汚染性、耐擦傷性、耐加工性等において優れた
反射防止膜を提供することを目的とする。
水性、耐汚染性、耐擦傷性、耐加工性等において優れた
反射防止膜を提供することを目的とする。
詳述すれば、本発明は、反射防止膜を耐水性、耐汚染性
、耐擦傷性、耐加工性等において改良しうる表面処理剤
及び表面処理法を提供することを目的とする。
、耐擦傷性、耐加工性等において改良しうる表面処理剤
及び表面処理法を提供することを目的とする。
「発明の構成」
本発明による反射防止膜の表面処理剤は、アミノ基を有
する反応性有機ポリシロキサン化合物及び／又はエポキ
シ基を有する反応性有機ポリシロキサン化合物を含むこ
とを特徴とする。
する反応性有機ポリシロキサン化合物及び／又はエポキ
シ基を有する反応性有機ポリシロキサン化合物を含むこ
とを特徴とする。
本発明の表面処理剤に使用するアミノ基を有する反応性
有機ポリシロキサン化合物の具体例としては、ジ（アミ
ノメチル）ジメチルポリシロキサン、ジ（アミノエチル
）ジメチルポリシロキサン、ジ（アミノプロピル）ジメ
チルポリシロキサン、ジ（アミノブチル）ジメチルポリ
シロキサン等が挙げられる。
有機ポリシロキサン化合物の具体例としては、ジ（アミ
ノメチル）ジメチルポリシロキサン、ジ（アミノエチル
）ジメチルポリシロキサン、ジ（アミノプロピル）ジメ
チルポリシロキサン、ジ（アミノブチル）ジメチルポリ
シロキサン等が挙げられる。
本発明の表面処理剤に使用するエポキシ基を有する反応
性有機ポリシロキサンの具体例としては、ジ（グリシド
キシメチル）ジメチルポリシロキサン、ジ（グリシドキ
シエチル）ジメチルポリシロキサン、ジ（グリシドキシ
プロビル）ジメチルポリシロキサン、ジ（グリシドキシ
ブチル）ジメチルポリシロキサン等が挙げられる。
性有機ポリシロキサンの具体例としては、ジ（グリシド
キシメチル）ジメチルポリシロキサン、ジ（グリシドキ
シエチル）ジメチルポリシロキサン、ジ（グリシドキシ
プロビル）ジメチルポリシロキサン、ジ（グリシドキシ
ブチル）ジメチルポリシロキサン等が挙げられる。
本発明による反射防止膜の表面処理法は、アミノ基を有
する反応性有機ポリシロキサン化合物及び／又はエポキ
シ基を有する反応性有機ポリシロキサン化合物を含む表
面処理剤で反射防止膜を処理することを特徴とする。
する反応性有機ポリシロキサン化合物及び／又はエポキ
シ基を有する反応性有機ポリシロキサン化合物を含む表
面処理剤で反射防止膜を処理することを特徴とする。
本発明方法を実施する場合、前記の表面処理剤を均一に
塗布するために、アミノ基を有する反応性有機ポリシロ
キサン化合物及び／又はエポキシ基を有する反応性有機
ポリシロキサン化合物を不活性溶剤中に溶解して成る表
面処理剤を用いるのが好ましい。溶剤としては、パラフ
ィン系、シクロパラフィン系、芳香族系の炭化水素、ハ
ロゲン化炭化水素及びケトンを用いることができる。そ
の具体例としては、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン、シクロペンタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン、トリクロ
ルトリフルオロエタン、テトラクロルジフルオロエタン
、アセトン、メチルエチルケトンが挙げられる。また、
必要に応じてこれらの溶媒のうち２種以上の混合溶媒を
用いることもできる。
塗布するために、アミノ基を有する反応性有機ポリシロ
キサン化合物及び／又はエポキシ基を有する反応性有機
ポリシロキサン化合物を不活性溶剤中に溶解して成る表
面処理剤を用いるのが好ましい。溶剤としては、パラフ
ィン系、シクロパラフィン系、芳香族系の炭化水素、ハ
ロゲン化炭化水素及びケトンを用いることができる。そ
の具体例としては、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン、シクロペンタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン、トリクロ
ルトリフルオロエタン、テトラクロルジフルオロエタン
、アセトン、メチルエチルケトンが挙げられる。また、
必要に応じてこれらの溶媒のうち２種以上の混合溶媒を
用いることもできる。
本発明の表面処理剤は、反射防止膜に撥水性及び水ヤケ
防止性を付与し、均一に塗布しうるちのでなければなら
ないが、反応性有機ポリシロキサン化合物及び／又はエ
ポキシ基を有する反応性有機ポリシロキサン化合物の濃
度が０． ＯＯ１重量％未満であると、撥水性及び水ヤ
ケ防止性が不足し、１０重量％を超えると、均一に塗布
することが困難となり、また、干渉色に変化が起きてし
まう等の悪影響が起こるので、濃度は０．００１〜１０
．０重量％であるのが好ましい。
防止性を付与し、均一に塗布しうるちのでなければなら
ないが、反応性有機ポリシロキサン化合物及び／又はエ
ポキシ基を有する反応性有機ポリシロキサン化合物の濃
度が０． ＯＯ１重量％未満であると、撥水性及び水ヤ
ケ防止性が不足し、１０重量％を超えると、均一に塗布
することが困難となり、また、干渉色に変化が起きてし
まう等の悪影響が起こるので、濃度は０．００１〜１０
．０重量％であるのが好ましい。
本発明の表面処理剤には、アミノ基を有する反応性有機
ポリシロキサン化合物及び／又はエポキシ基を有する反
応性有機ポリシロキサン化合物の架橋及びその促進を行
うために硬化剤として、アミン、有機酸又はその無水物
を添加することができる。硬化剤としてのアミンの具体
例としては、エチレンジアミン、エチレントリアミン、
ジエチルアミノプロピルアミン、トリエチルアミン、ベ
ンジルジメチルアミン、ジメチルアミノフェノール、ト
リジメチルアミノメチルフェノールが挙げられる。また
、有機酸及びその無水物としては、クエン酸、無水フタ
ル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸が挙
げられる。必要に応じて、前記のものの２種以上の混合
物を使用することもできる。硬化剤は、表面処理剤中に
０．０００１〜０．５％の濃度で添加する。
ポリシロキサン化合物及び／又はエポキシ基を有する反
応性有機ポリシロキサン化合物の架橋及びその促進を行
うために硬化剤として、アミン、有機酸又はその無水物
を添加することができる。硬化剤としてのアミンの具体
例としては、エチレンジアミン、エチレントリアミン、
ジエチルアミノプロピルアミン、トリエチルアミン、ベ
ンジルジメチルアミン、ジメチルアミノフェノール、ト
リジメチルアミノメチルフェノールが挙げられる。また
、有機酸及びその無水物としては、クエン酸、無水フタ
ル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸が挙
げられる。必要に応じて、前記のものの２種以上の混合
物を使用することもできる。硬化剤は、表面処理剤中に
０．０００１〜０．５％の濃度で添加する。
本発明の表面処理法を実施する場合には、本発明の表面
処理剤を、通常、５部ｍ〜３．０μｍ程度の厚さ（乾燥
厚）で反射防止膜上に塗布する。塗布は、浸漬、スプレ
ー、スピナー等、公知方法で行うことができる。
処理剤を、通常、５部ｍ〜３．０μｍ程度の厚さ（乾燥
厚）で反射防止膜上に塗布する。塗布は、浸漬、スプレ
ー、スピナー等、公知方法で行うことができる。
表面処理剤を塗布した後、塗膜を高温（２００〜２５０
”Ｃ）で加熱処理しても良い性能が得られるが、比較的
低温（１０〜４０°Ｃ）でも反応性を有するため、良好
な性能が得られる。従って、塗膜を室温で乾燥すること
ができ、処理が簡単であり、また、熱の影響を受けやす
いプラスチック等を処理する場合に、極めて有利である
。
”Ｃ）で加熱処理しても良い性能が得られるが、比較的
低温（１０〜４０°Ｃ）でも反応性を有するため、良好
な性能が得られる。従って、塗膜を室温で乾燥すること
ができ、処理が簡単であり、また、熱の影響を受けやす
いプラスチック等を処理する場合に、極めて有利である
。
「実施例Ｊ
次に、実施例に基づいて本発明を詳述するが、本発明は
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
実施例１
（１）表面処理のためのレンズの作成
ジエチレングリコールビスアリルカーボヱート樹脂から
成る合成樹脂レンズを水で洗浄した後、水をイソプロピ
ルアルコールで置換し、フロン乾燥を行った。その後、
真空蒸着法により反射防止膜を作成した。反射防止膜の
構成は、素地側からＹ２Ｏ３、λ／４（λ＝ ５１０
ｎｍ） 、ＴａｚＯｓ 、λ／４及びＳｉＯ□、λ／４
とした。
成る合成樹脂レンズを水で洗浄した後、水をイソプロピ
ルアルコールで置換し、フロン乾燥を行った。その後、
真空蒸着法により反射防止膜を作成した。反射防止膜の
構成は、素地側からＹ２Ｏ３、λ／４（λ＝ ５１０
ｎｍ） 、ＴａｚＯｓ 、λ／４及びＳｉＯ□、λ／４
とした。
（２）コーテイング液の調製
ジ（グリシドキシプロピル）ジメチルポリシロキサン０
．２部をトルエン１００部中に溶解させ、二濾過精製を
行い、コーテイング液とした。
．２部をトルエン１００部中に溶解させ、二濾過精製を
行い、コーテイング液とした。
（３）塗布及び乾燥
前記の（１）で作成したレンズに（２）で作成したコー
テイング液に引き上げ速度１５０ｍｍ／分で浸漬塗布し
た後、室温で乾燥した。
テイング液に引き上げ速度１５０ｍｍ／分で浸漬塗布し
た後、室温で乾燥した。
実施例２
（１）表面処理のためのレンズの作成
りラウンガラスから成るレンズを水で洗浄した後、水を
イソプロピルアルコールで置換し、フロン乾燥を行った
。その後、真空蒸着法によりガラス表面にＭｇＦｚ、λ
／４（λ−５１０ｎｍ）膜から成る反射防止膜を作成し
た。
イソプロピルアルコールで置換し、フロン乾燥を行った
。その後、真空蒸着法によりガラス表面にＭｇＦｚ、λ
／４（λ−５１０ｎｍ）膜から成る反射防止膜を作成し
た。
（２）コーチインゲン夜の調製
ジ（グリシドキシプロピル）ジメチルポリシロキサン０
．２部及びトリエチルアミン０．００２部をトルエン１
００部中に溶解させ、：濾過精製を行い、コーテイング
液とした。
．２部及びトリエチルアミン０．００２部をトルエン１
００部中に溶解させ、：濾過精製を行い、コーテイング
液とした。
（３）塗布及び乾燥
前記の（１）で作成したレンズに（２）で作成したコー
テイング液を引き上げ速度１５０ｍ＋ｎ／分で浸漬塗布
した後、室温で乾燥した。
テイング液を引き上げ速度１５０ｍ＋ｎ／分で浸漬塗布
した後、室温で乾燥した。
実施例３
（１）表面処理のためのレンズ
実施例２（１）で製造したレンズ。
（２）コーテイング液の調製
ジ（グリシドキシプロピル）ジメチルポリシロキサン０
．２部及びクエン酸０．０１部をメチルエチルケトン１
００部中に均一に溶解させ、］濾過精製してコーテイン
グ液とした。
．２部及びクエン酸０．０１部をメチルエチルケトン１
００部中に均一に溶解させ、］濾過精製してコーテイン
グ液とした。
（３）塗布及び乾燥
前記のレンズに（２）で作成したコーテイング液を引き
上げ速度１５０ｎ＋＋ｎ／分で浸漬塗布した後、室温で
乾燥した。
上げ速度１５０ｎ＋＋ｎ／分で浸漬塗布した後、室温で
乾燥した。
実施例４
（１）表面処理のためのレンズ
実施例１ （１）で製造したレンズ。
（２）コーテイング液の調製
；（アミノプロピル）ジメチルポリシロキサン０．２部
をｎ−ヘキサン１００部中に均一に溶解させ、ｊ濾過精
製してコーテイング液とした。
をｎ−ヘキサン１００部中に均一に溶解させ、ｊ濾過精
製してコーテイング液とした。
（３）塗布及び乾燥
前記のレンズに（２）で作成したコーテイング液を引き
上げ速度１５０胴／分で浸漬塗布した後、室温で乾燥し
た。
上げ速度１５０胴／分で浸漬塗布した後、室温で乾燥し
た。
実施例５
（１）表面処理のためのレンズ
実施例１ （１）で製造したレンズ。
（２）コーテイング液の３周製
ジ（アミノプロピル）ジメチルポリシロキサン０、６部
をトリクロルトリフルオロエタン１００部中に均一に溶
解させ、（Ｊ”過積製してコーテイング液とした。
をトリクロルトリフルオロエタン１００部中に均一に溶
解させ、（Ｊ”過積製してコーテイング液とした。
（３）塗布及び乾燥
ｉコ記のレンズに（２）で作成したコーテイング液を引
き上げ速度Ｌ５０＋ｎｍ／分で浸漬塗布した後、８０°
Ｃで１時間乾燥した。
き上げ速度Ｌ５０＋ｎｍ／分で浸漬塗布した後、８０°
Ｃで１時間乾燥した。
実施例６
ジ（アミノプロピル）ジメチルポリシロキサン０．１部
及びジ（グリシドキシプロピル）ジメチルポリシロキサ
ン０．１部をｎ−ヘキサン１００部中に均一に溶解させ
、］濾濾過型して得たコーテイング液を使用した以外は
、実施例１と同様に操作した。
及びジ（グリシドキシプロピル）ジメチルポリシロキサ
ン０．１部をｎ−ヘキサン１００部中に均一に溶解させ
、］濾濾過型して得たコーテイング液を使用した以外は
、実施例１と同様に操作した。
実施例７
ジ（アミノプロピル）ジメチルポリシロキサン０．１部
、ジ（グリシドキシプロピル）ジメチルポリシロキサン
０．１部及びクエン酸０．０１部をメチルエチルケトン
１００部中に均一に溶解させ、］濾濾過型して得たコー
テイング液を使用した以外は、実施例１と同様に操作し
た。
、ジ（グリシドキシプロピル）ジメチルポリシロキサン
０．１部及びクエン酸０．０１部をメチルエチルケトン
１００部中に均一に溶解させ、］濾濾過型して得たコー
テイング液を使用した以外は、実施例１と同様に操作し
た。
実施例８
（１）表面処理のためのレンズ
実施例１（１）で製造したレンズ。
（２）コーテイング液の調製
ジ（アミノプロピル）ジメチルポリシロキサン０、 Ｏ
Ｏ２部をトリクロルトリフルオロエタン１００部中に均
一に溶解させ、；濾過精製を行い、コーテイング液とし
た。
Ｏ２部をトリクロルトリフルオロエタン１００部中に均
一に溶解させ、；濾過精製を行い、コーテイング液とし
た。
（３）塗布及び乾燥
前記（１）で作成したレンズに（２）で作成したコーテ
イング液を１０°Ｃの液温にして引き上げ速度１５０ｍ
ｍ／分で浸漬塗布した後、室温で乾燥した。
イング液を１０°Ｃの液温にして引き上げ速度１５０ｍ
ｍ／分で浸漬塗布した後、室温で乾燥した。
実施例９
（１）表面処理のためのレンズ
実施例１ （１）で製造したレンズ。
（２）コーテイング液の調製
ジ（グリシドキシプロピル）ジメチルポリシロキサン０
．０１部をトリクロルトリフルオロエタン９９部及びテ
トラクロルエチレン１部中に溶解させ、二濾過精製を行
い、コーテイング液とした。
．０１部をトリクロルトリフルオロエタン９９部及びテ
トラクロルエチレン１部中に溶解させ、二濾過精製を行
い、コーテイング液とした。
（３）塗布及び乾燥
実施例８と同様に行った。
実施例１０
（１）表面処理のためのレンズの作成
りラウンガラスから成るレンズを水で洗浄した後、水を
イソプロピルアルコールで置換し、フロン乾燥を行った
。その後、真空蒸着法によりガラス表面にＭｇＦ２、λ
／４（λ−５１０ｎｍ）膜から成る反射防止膜を作成し
た。
イソプロピルアルコールで置換し、フロン乾燥を行った
。その後、真空蒸着法によりガラス表面にＭｇＦ２、λ
／４（λ−５１０ｎｍ）膜から成る反射防止膜を作成し
た。
（２）コーテイング液の調製
ジ（アミノプロピル）ジメチルポリシロキサン０、 Ｏ
Ｏ ０ ０ １部とトルエン１００部を混合し、均一
な溶液とした後、］濾濾過型を行い、コーテイング液と
した。
Ｏ ０ ０ １部とトルエン１００部を混合し、均一
な溶液とした後、］濾濾過型を行い、コーテイング液と
した。
（３）塗布及び乾燥
前記の（１）で作成したレンズに（２）で作成したコー
テイング液を引き上げ速度４５０ｍｍ／分で浸漬塗布し
た後、室温で乾燥した。
テイング液を引き上げ速度４５０ｍｍ／分で浸漬塗布し
た後、室温で乾燥した。
比較例１
実施例１において（１）によりレンズに反射防止膜を作
成したが、（２）以降の工程を行わなかった。
成したが、（２）以降の工程を行わなかった。
比較例２
実施例２において（１）によりレンズに反射防止ＩＩＩ
を作成したが、（２）以降の工程を行わなかった。
を作成したが、（２）以降の工程を行わなかった。
前記の実施例１〜１０及び比較例１〜２で得られたレン
ズの性能を、下記の方法で評価し、結果を第１表に示す
。
ズの性能を、下記の方法で評価し、結果を第１表に示す
。
■ヤケ性
水道水２燻をレンズ表面に滴下し、室温で７２時間放置
乾燥した後、レンズペーパーで乾燥面を拭った時の水ヤ
ケ残存物の有無の程度の状態を観察した。
乾燥した後、レンズペーパーで乾燥面を拭った時の水ヤ
ケ残存物の有無の程度の状態を観察した。
水ヤケ残存物がないレンズを「良好」とし、あるものを
「不良」と評価した。
「不良」と評価した。
■表面平滑性
レンズ表面を１ ｋｇの荷重をかけた布で５ ｒｐｍ
で５分間擦った。その結果の表面状態で評価した。
で５分間擦った。その結果の表面状態で評価した。
評価基準は、下記のとおりである。
○・・・全く傷がない
△・・・細かい傷が１〜１０本ある
×・・・細かい傷が１０本を超えである■耐溶剤性
アセトンを含ませたレンズペーパーでレンズ表面を５０
回拭いた後に■のヤケ性を評価した。
回拭いた後に■のヤケ性を評価した。
評価基準は、下記のとおりである。
○・・・ヤケ性が表面処理レンズと同等△・・・ヤケ性
が表面処理レンズより僅かに低下した ×・・・ヤケ性が表面処理前の状態に低下した■外観 肉眼でレンズ面を観察した。被覆干渉色及び表面処理む
らに異常のないものを「良好」とし、異常のあるものを
「不良」と評価した。
が表面処理レンズより僅かに低下した ×・・・ヤケ性が表面処理前の状態に低下した■外観 肉眼でレンズ面を観察した。被覆干渉色及び表面処理む
らに異常のないものを「良好」とし、異常のあるものを
「不良」と評価した。
■耐温水性
６０ ’Ｃの温水中にレンズを１０時間浸漬した後に、
■のヤケ性の評価を行った。
■のヤケ性の評価を行った。
○・・・ヤケ性が表面処理レンズと同等△・・・ヤケ性
が表面処理レンズより僅かに低下した ×・・・ヤケ性が表面処理前の状態に低下した（以下余
白） 第１表 が付きにくく、４）外観も良く、５）温水に浸漬されて
も、ヤケを生しない等の効果が達成される。
が表面処理レンズより僅かに低下した ×・・・ヤケ性が表面処理前の状態に低下した（以下余
白） 第１表 が付きにくく、４）外観も良く、５）温水に浸漬されて
も、ヤケを生しない等の効果が達成される。
更に、本発明の表面処理剤は、比較的低温（１０〜４０
°Ｃ）でも反応性を有するので、塗膜を室ｌ晶で乾燥す
ることができ、処理が簡単であり、熱の影響を受けやす
いプラス千ツク等を処理する場合に、極めて有利である
。
°Ｃ）でも反応性を有するので、塗膜を室ｌ晶で乾燥す
ることができ、処理が簡単であり、熱の影響を受けやす
いプラス千ツク等を処理する場合に、極めて有利である
。
特許出願人 旭光学工業株式会社
Claims (5)
- （１）アミノ基を有する反応性有機ポリシロキサン化合
物及び／又はエポキシ基を有する反応性有機ポリシロキ
サン化合物を含むことを特徴とする反射防止膜の表面処
理剤。 - （２）アミノ基を有する反応性有機ポリシロキサン化合
物及び／又はエポキシ基を有する反応性有機ポリシロキ
サン化合物を不活性有機溶剤中に溶解して成る特許請求
の範囲第１項に記載の表面処理剤。 - （３）更に硬化剤としてアミン、有機酸又は有機酸無水
物を含む特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の表面
処理剤。 - （４）有機ポリシロキサン化合物を０．００１〜１０．
０重量％の濃度で含む特許請求の範囲第１項〜第３項の
いずれか１項に記載の表面処理剤。 - （５）アミノ基を有する反応性有機ポリシロキサン化合
物及び／又はエポキシ基を有する反応性有機ポリシロキ
サン化合物を含む表面処理剤で反射防止膜を処理するこ
とを特徴とする反射防止膜の表面処理法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22156688A JPH02671A (ja) | 1987-10-20 | 1988-09-05 | 反射防止膜の表面処理剤及び表面処理法 |
| US07/602,899 US5144485A (en) | 1987-10-20 | 1990-10-23 | Lens having a surface treating composition for reflection preventing film |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-264987 | 1987-10-20 | ||
| JP26498787 | 1987-10-20 | ||
| JP22156688A JPH02671A (ja) | 1987-10-20 | 1988-09-05 | 反射防止膜の表面処理剤及び表面処理法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02671A true JPH02671A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=26524386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22156688A Pending JPH02671A (ja) | 1987-10-20 | 1988-09-05 | 反射防止膜の表面処理剤及び表面処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02671A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5622784A (en) * | 1986-01-21 | 1997-04-22 | Seiko Epson Corporation | Synthetic resin ophthalmic lens having an inorganic coating |
| US5759643A (en) * | 1987-01-16 | 1998-06-02 | Seiko Epson Corporation | Polarizing plate and method of production |
| US5783299A (en) * | 1986-01-21 | 1998-07-21 | Seiko Epson Corporation | Polarizer plate with anti-stain layer |
| JP2003512482A (ja) * | 1999-10-19 | 2003-04-02 | インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク | 有機的に修飾された無機縮合物に基づく、コーティング組成物 |
| US6942924B2 (en) | 2001-10-31 | 2005-09-13 | Chemat Technology, Inc. | Radiation-curable anti-reflective coating system |
-
1988
- 1988-09-05 JP JP22156688A patent/JPH02671A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5622784A (en) * | 1986-01-21 | 1997-04-22 | Seiko Epson Corporation | Synthetic resin ophthalmic lens having an inorganic coating |
| US5783299A (en) * | 1986-01-21 | 1998-07-21 | Seiko Epson Corporation | Polarizer plate with anti-stain layer |
| US5759643A (en) * | 1987-01-16 | 1998-06-02 | Seiko Epson Corporation | Polarizing plate and method of production |
| JP2003512482A (ja) * | 1999-10-19 | 2003-04-02 | インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク | 有機的に修飾された無機縮合物に基づく、コーティング組成物 |
| US6942924B2 (en) | 2001-10-31 | 2005-09-13 | Chemat Technology, Inc. | Radiation-curable anti-reflective coating system |
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