JPH0266926A - 電解コンデンサ用電極箔のエッチング方法 - Google Patents
電解コンデンサ用電極箔のエッチング方法Info
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- JPH0266926A JPH0266926A JP21906188A JP21906188A JPH0266926A JP H0266926 A JPH0266926 A JP H0266926A JP 21906188 A JP21906188 A JP 21906188A JP 21906188 A JP21906188 A JP 21906188A JP H0266926 A JPH0266926 A JP H0266926A
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- 239000011888 foil Substances 0.000 title claims abstract description 24
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、電解コンデンサ用電極箔を量産する場合のエ
ツチング方法に関するものである。
ツチング方法に関するものである。
従来の技術
従来の電解コンデンサ用アルミニウム箔を量産する場合
のエツチング方法は、第２図に示すように、エツチング
槽２．入口及び出口側給電ローラ６．６．熱交換器７．
エツチング液循環タンク８を用いたものであった。アル
ミニウム箔１は５人口及び出口側給電ローラ６．６によ
って給電され、高温のエツチング領域３でエツチングさ
れた後、それと同温の浸漬領域４を通過するものである
。
のエツチング方法は、第２図に示すように、エツチング
槽２．入口及び出口側給電ローラ６．６．熱交換器７．
エツチング液循環タンク８を用いたものであった。アル
ミニウム箔１は５人口及び出口側給電ローラ６．６によ
って給電され、高温のエツチング領域３でエツチングさ
れた後、それと同温の浸漬領域４を通過するものである
。
発明が解決しようとする課題
ところが、このような電解コンデンサ用アルミニウム箔
の生産工程においては、アルミニウム箔１がエツチング
領域３と同温の浸漬領域４を通過する際に、アルミニウ
ム箔表面上に水和皮膜が生成する。
の生産工程においては、アルミニウム箔１がエツチング
領域３と同温の浸漬領域４を通過する際に、アルミニウ
ム箔表面上に水和皮膜が生成する。
このため、エツチング槽出口側給電ローラと箔との間で
スパークが生じ、箔が切れてしまうという問題があった
。
スパークが生じ、箔が切れてしまうという問題があった
。
本発明は、このような従来の問題点を解消するものであ
り、エツチング領域のみ高温に保持し、浸漬領域では液
温を下げ、低温に保持することによって、箔表面の水利
皮膜の生成を抑制せんとするものである。
り、エツチング領域のみ高温に保持し、浸漬領域では液
温を下げ、低温に保持することによって、箔表面の水利
皮膜の生成を抑制せんとするものである。
課題を解決するだめの手段
このような従来の問題点を解決するために本発明は、エ
ツチング領域において途中に熱交換器を設けた第１の循
環系路と、浸漬領域中のエツチング液を循環させると共
に途中に熱交換器を設けかつ第１の循環系路に一部つな
がる第２の循環系路とを設け、エツチング槽中のエツチ
ング液を循環させるものである。
ツチング領域において途中に熱交換器を設けた第１の循
環系路と、浸漬領域中のエツチング液を循環させると共
に途中に熱交換器を設けかつ第１の循環系路に一部つな
がる第２の循環系路とを設け、エツチング槽中のエツチ
ング液を循環させるものである。
作用
このような本発明のエツチング方法によれば、第１の循
環系路において、エツチング液を加熱することによって
、エツチング領域の液温を高温に保持し、同時に、第２
の循環系路においては、エツチング液を冷却することに
よって、浸漬領域を低温に保持するものである。エツチ
ング槽の出入口に設けた給電ローラから給電された電極
用箔は、エツチング領域でエツチングされた後、低温の
浸漬領域に入る。この浸漬領域は、低温のエツチング液
であるため、箔表面の水利皮膜生成は抑制される。した
がって、エツチング槽出口側に設けた給電ローラと電極
用箔との間でスパークが発生しないため、長時間連続運
転が可能である。
環系路において、エツチング液を加熱することによって
、エツチング領域の液温を高温に保持し、同時に、第２
の循環系路においては、エツチング液を冷却することに
よって、浸漬領域を低温に保持するものである。エツチ
ング槽の出入口に設けた給電ローラから給電された電極
用箔は、エツチング領域でエツチングされた後、低温の
浸漬領域に入る。この浸漬領域は、低温のエツチング液
であるため、箔表面の水利皮膜生成は抑制される。した
がって、エツチング槽出口側に設けた給電ローラと電極
用箔との間でスパークが発生しないため、長時間連続運
転が可能である。
実施例
以下、本発明の一実施例によるエツチング方法を図面を
用いて説明する。
用いて説明する。
第１図に示すように、エツチング領域１３とこれに連続
して設けた浸漬領域１４をもつエツチング槽１２、エツ
チング槽１２の出入口に設けた給電ローラ１５．１６、
及びエツチング領域用循環系路の途中に設けた熱交換器
１７．循環タンク１９と、浸漬領域用循環系路の途中に
設けた熱交換器１８、循環タンク２０からなる。また、
循環タンク１９ 、２０は、配管２１で結合されている
。１１はアルミニウム箔である。
して設けた浸漬領域１４をもつエツチング槽１２、エツ
チング槽１２の出入口に設けた給電ローラ１５．１６、
及びエツチング領域用循環系路の途中に設けた熱交換器
１７．循環タンク１９と、浸漬領域用循環系路の途中に
設けた熱交換器１８、循環タンク２０からなる。また、
循環タンク１９ 、２０は、配管２１で結合されている
。１１はアルミニウム箔である。
エツチング領域１３における循環は、循環タンク１９．
熱交換器１了を用いて行なわれる。すなわち、エツチン
グ領域のエツチング液は、熱交換器１Ｔで高温に保持さ
れる。
熱交換器１了を用いて行なわれる。すなわち、エツチン
グ領域のエツチング液は、熱交換器１Ｔで高温に保持さ
れる。
一方、浸漬領域１４における循環は、循環タンク２０５
熱交換器１８及び循環タンク２０内のエツチング液の一
部が循環タンク１９に流入する形で行なわれる。すなわ
ち、浸漬領域１４では、エツチング領域１３内のエツチ
ング液が浸漬領域１４に流入するために、熱交換器１８
によって冷却を行なう。また、エツチング領域用循環タ
ンク１９と浸漬領域用循環タンク２ｏは、配管で結合さ
れているため、浸漬領域用循環タンク２ｏの大きさは、
エツチング領域用循環タンク１９に比べ小さくてもよい
。
熱交換器１８及び循環タンク２０内のエツチング液の一
部が循環タンク１９に流入する形で行なわれる。すなわ
ち、浸漬領域１４では、エツチング領域１３内のエツチ
ング液が浸漬領域１４に流入するために、熱交換器１８
によって冷却を行なう。また、エツチング領域用循環タ
ンク１９と浸漬領域用循環タンク２ｏは、配管で結合さ
れているため、浸漬領域用循環タンク２ｏの大きさは、
エツチング領域用循環タンク１９に比べ小さくてもよい
。
上記の循環方式によって、エツチング領域１３の液温を
高温に保持し、同時に浸漬領域の液温を低温に保持する
ことが可能となる。
高温に保持し、同時に浸漬領域の液温を低温に保持する
ことが可能となる。
発明の効果
以上のように、本発明のエツチング方法は、電極用箔を
エツチングした後の浸漬領域での水利皮膜の形成を抑制
するものであり、したがって、出口側に給電ローラを設
置した場合でもスパークを発生することなく給電が可能
となる。特に、本発明によれば、エツチング領域用循環
タンクと浸漬領域用循環タンクを配管で結合しているた
め、浸漬領域用循環タンクは小さくてもよく、また液量
の管理は、エツチング領域用循環タンクのみで済み、実
用上きわめて有利なものである。
エツチングした後の浸漬領域での水利皮膜の形成を抑制
するものであり、したがって、出口側に給電ローラを設
置した場合でもスパークを発生することなく給電が可能
となる。特に、本発明によれば、エツチング領域用循環
タンクと浸漬領域用循環タンクを配管で結合しているた
め、浸漬領域用循環タンクは小さくてもよく、また液量
の管理は、エツチング領域用循環タンクのみで済み、実
用上きわめて有利なものである。
第１図は本発明の一実施例におけるエツチング方法に用
いる装置の配管概略図、第２図は従来のエツチング方法
に用いる装置を示す配管概略図である。 １１・・・・・・アルミニウム箔、１２・・・・・・エ
ツチング槽、１３・・・・・・エツチング領域、１４・
・・・・・浸漬領域、１６・・・・・・入口側給電ロー
ラ、１６・・・・・・出口側給電ローラ、１７・・・・
・・エツチング領域用熱交換器、１８・・・・・・浸漬
領域用熱交換器、１９・・・・・・エツチング領域用循
環タンク、２ｏ・・・・・・浸漬領域用熱交換器。 代理人の氏名 弁理士 粟野 重 孝 ほか１名アルミ
ニウム箔 エツチング檀 エヅチング領域 浸；ｆ積載 入口側給電ローラ 出口倒看電ローラ １９−エツチング頒域用檜環タンク ２０−一漫漬領域用循環タンク
いる装置の配管概略図、第２図は従来のエツチング方法
に用いる装置を示す配管概略図である。 １１・・・・・・アルミニウム箔、１２・・・・・・エ
ツチング槽、１３・・・・・・エツチング領域、１４・
・・・・・浸漬領域、１６・・・・・・入口側給電ロー
ラ、１６・・・・・・出口側給電ローラ、１７・・・・
・・エツチング領域用熱交換器、１８・・・・・・浸漬
領域用熱交換器、１９・・・・・・エツチング領域用循
環タンク、２ｏ・・・・・・浸漬領域用熱交換器。 代理人の氏名 弁理士 粟野 重 孝 ほか１名アルミ
ニウム箔 エツチング檀 エヅチング領域 浸；ｆ積載 入口側給電ローラ 出口倒看電ローラ １９−エツチング頒域用檜環タンク ２０−一漫漬領域用循環タンク
Claims (1)
- アルミニウム箔をエッチングするためのエッチング領域
とエッチング領域に連続して設けた浸漬領域とを有する
エッチング槽とアルミニウム箔に給電するための給電ロ
ーラとを備え、エッチングを行なう際にエッチング領域
のエッチング液を循環させると共に途中に熱交換器を設
けた第１の循環系路と、浸漬領域中のエッチング液を循
環させると共に途中に熱交換器を設けかつ第１の循環系
路に一部がつながる第２の循環系路とを設け、エッチン
グ槽中のエッチング液を循環させる電解コンデンサ用電
極箔のエッチング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21906188A JPH0266926A (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | 電解コンデンサ用電極箔のエッチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21906188A JPH0266926A (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | 電解コンデンサ用電極箔のエッチング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0266926A true JPH0266926A (ja) | 1990-03-07 |
Family
ID=16729658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21906188A Pending JPH0266926A (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | 電解コンデンサ用電極箔のエッチング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0266926A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005223180A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法及びその製造装置 |
-
1988
- 1988-09-01 JP JP21906188A patent/JPH0266926A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005223180A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法及びその製造装置 |
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