JPH0265152U - - Google Patents
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- JPH0265152U JPH0265152U JP14579888U JP14579888U JPH0265152U JP H0265152 U JPH0265152 U JP H0265152U JP 14579888 U JP14579888 U JP 14579888U JP 14579888 U JP14579888 U JP 14579888U JP H0265152 U JPH0265152 U JP H0265152U
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- JP
- Japan
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- substrate
- microinfrared
- reflects
- sequentially
- sample
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- Pending
Links
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002454 poly(glycidyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
第1図は基板上に形成される有機化合物パター
ンの作成方法を説明するための図、第2図はフオ
トマスクを使用した有機化合物パターンの作成方
法を説明するための図、第3図は基板上に作成さ
れた有機化合物パターンの例を示す図、第4図は
実施例1の描画パターンを示す図、第5図はポリ
グリシジルメタクリレートを用いたパターンにお
けるエポキシ基の吸収特性を示す図である。 1…基板、2…クロム、3…レジスト、4…紫
外光、5…露光部、6…現像後のパターン。
ンの作成方法を説明するための図、第2図はフオ
トマスクを使用した有機化合物パターンの作成方
法を説明するための図、第3図は基板上に作成さ
れた有機化合物パターンの例を示す図、第4図は
実施例1の描画パターンを示す図、第5図はポリ
グリシジルメタクリレートを用いたパターンにお
けるエポキシ基の吸収特性を示す図である。 1…基板、2…クロム、3…レジスト、4…紫
外光、5…露光部、6…現像後のパターン。
Claims (1)
- 赤外光を反射あるいは透過する基板上に、順次
数ミクロンから数ミリメートルの大きさの異なる
丸形あるいは多角形の有機化合物からなるパター
ンを形成したことを特徴とする顕微赤外分光光度
計用標準試料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14579888U JPH0265152U (ja) | 1988-11-07 | 1988-11-07 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14579888U JPH0265152U (ja) | 1988-11-07 | 1988-11-07 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0265152U true JPH0265152U (ja) | 1990-05-16 |
Family
ID=31414703
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14579888U Pending JPH0265152U (ja) | 1988-11-07 | 1988-11-07 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0265152U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018230318A1 (ja) * | 2017-06-15 | 2018-12-20 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | スケール、撮像装置、撮像システム、キット、および撮像装置の調整方法 |
-
1988
- 1988-11-07 JP JP14579888U patent/JPH0265152U/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018230318A1 (ja) * | 2017-06-15 | 2018-12-20 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | スケール、撮像装置、撮像システム、キット、および撮像装置の調整方法 |
JPWO2018230318A1 (ja) * | 2017-06-15 | 2020-05-21 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | スケール、撮像装置、撮像システム、キット、および撮像装置の調整方法 |