JPH0264028A - 耐紫外線用合成石英ガラスおよびその製造方法 - Google Patents
耐紫外線用合成石英ガラスおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0264028A JPH0264028A JP21548488A JP21548488A JPH0264028A JP H0264028 A JPH0264028 A JP H0264028A JP 21548488 A JP21548488 A JP 21548488A JP 21548488 A JP21548488 A JP 21548488A JP H0264028 A JPH0264028 A JP H0264028A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica glass
- quartz glass
- synthetic quartz
- solarization
- group content
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 15
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 10
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 238000007872 degassing Methods 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 5
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 by flame hydrolysis Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000233 ultraviolet lithography Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1453—Thermal after-treatment of the shaped article, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0071—Compositions for glass with special properties for laserable glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0085—Compositions for glass with special properties for UV-transmitting glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/21—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with molecular hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/23—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with hydroxyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/20—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide
- C03C2201/21—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide containing molecular hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/20—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide
- C03C2201/23—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide containing hydroxyl groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は耐紫外線用合成石英ガラス、特にはエキシマレ
ーザ−のような高エネルギー照射時にもソーラリゼイシ
ョンを起さないので、紫外線リソグラフィー用レンズ、
エキシマレーザ−用窓材、ミラーの材料として有用とさ
れる耐紫外線用合成石英ガラスおよびその製造方法に関
するものである。
ーザ−のような高エネルギー照射時にもソーラリゼイシ
ョンを起さないので、紫外線リソグラフィー用レンズ、
エキシマレーザ−用窓材、ミラーの材料として有用とさ
れる耐紫外線用合成石英ガラスおよびその製造方法に関
するものである。
［従来の技術と解決されるべき課題］
合成石英ガラスが四塩化けい素などのけい素化合物を酸
水素火焔中での加水分解、熱分解によってシリカ粉末と
したのち、これを溶融ガラス化するという方法で作られ
るにとはすでによく知られているところであり、このよ
うな方法で得られた合成石英ガラスは紫外線透過性が良
好であることから紫外領域でのレンズ、セル材料、フォ
トマスクなどに使用されている。
水素火焔中での加水分解、熱分解によってシリカ粉末と
したのち、これを溶融ガラス化するという方法で作られ
るにとはすでによく知られているところであり、このよ
うな方法で得られた合成石英ガラスは紫外線透過性が良
好であることから紫外領域でのレンズ、セル材料、フォ
トマスクなどに使用されている。
他方、この種の紫外線透過による利用については最近エ
キシマレーザ−などのような短波長の利用が行なわれ、
これによれば特にリソグラフィー用として使用した場合
に線巾をより小さくすることができるので目的とする半
導体ウェーへの集積度をさらに高めることができるもの
と期待されているが、しかし上記の方法で得られた合成
石英ガラスには構造欠陥があるためにエキシマレーザー
のような高エネルギー照射を受けるとソーラリゼーショ
ンが起るためにその紫外線透過特性が著しく劣化すると
いう問題点があり、この改良が求められている。
キシマレーザ−などのような短波長の利用が行なわれ、
これによれば特にリソグラフィー用として使用した場合
に線巾をより小さくすることができるので目的とする半
導体ウェーへの集積度をさらに高めることができるもの
と期待されているが、しかし上記の方法で得られた合成
石英ガラスには構造欠陥があるためにエキシマレーザー
のような高エネルギー照射を受けるとソーラリゼーショ
ンが起るためにその紫外線透過特性が著しく劣化すると
いう問題点があり、この改良が求められている。
［課題を解決するための手段および作用］本発明はこの
ような不利を解決することのできる耐紫外線用石英ガラ
スおよびその製造方法に関するものであり、これは火炎
加水分解法により製造された合成石英ガラスにおいて、
ＯＨ基含有量が１〜１．ＯＯＯｐｐｍの範囲であり、水
素ガス溶存量が０．１ｍβ／１００ｇ以下であることを
特徴とする耐紫外線用合成石英ガラスならびに火炎加水
分解法により製造された合成石英ガラスを、ヘリウムガ
ス９５００℃以上で加熱し、脱ガスすることを特徴とす
る耐紫外線用合成石英ガラスの製造方法を要旨とするも
のである。
ような不利を解決することのできる耐紫外線用石英ガラ
スおよびその製造方法に関するものであり、これは火炎
加水分解法により製造された合成石英ガラスにおいて、
ＯＨ基含有量が１〜１．ＯＯＯｐｐｍの範囲であり、水
素ガス溶存量が０．１ｍβ／１００ｇ以下であることを
特徴とする耐紫外線用合成石英ガラスならびに火炎加水
分解法により製造された合成石英ガラスを、ヘリウムガ
ス９５００℃以上で加熱し、脱ガスすることを特徴とす
る耐紫外線用合成石英ガラスの製造方法を要旨とするも
のである。
すなわち、本発明者らはエキシマレーザ−のような高エ
ネルギー線の照射を受けたときでもソーラリゼーション
を起さない耐紫外線用の合成石英ガラスを開発すべく種
々検討した結果、四塩化けい素などのけい素化合物を火
炎加水分解法で処理して得たシリカを焼結して作成した
合成石英ガラスはエキシマレーザ−などを照射するとソ
ーラリゼーションを起すけれども、これはこのようにし
て得た合成石英ガラスに含有されているＯＨ基含有量と
水素ガス溶存量に関係するものであることを見出し、し
たがってこのＯＨ基含有量を１〜１、ＯＯＯｐｐｍの範
囲とすると共に水素ガス溶存量を０．１ｍｕ／１００ｇ
以下とすればこのようなソーラリゼーションを防止する
ことができることを確認し、このような合成石英ガラス
の製造方法についても研究を進めて本発明を完成させた
。
ネルギー線の照射を受けたときでもソーラリゼーション
を起さない耐紫外線用の合成石英ガラスを開発すべく種
々検討した結果、四塩化けい素などのけい素化合物を火
炎加水分解法で処理して得たシリカを焼結して作成した
合成石英ガラスはエキシマレーザ−などを照射するとソ
ーラリゼーションを起すけれども、これはこのようにし
て得た合成石英ガラスに含有されているＯＨ基含有量と
水素ガス溶存量に関係するものであることを見出し、し
たがってこのＯＨ基含有量を１〜１、ＯＯＯｐｐｍの範
囲とすると共に水素ガス溶存量を０．１ｍｕ／１００ｇ
以下とすればこのようなソーラリゼーションを防止する
ことができることを確認し、このような合成石英ガラス
の製造方法についても研究を進めて本発明を完成させた
。
以下に本発明をさらに詳述する。
本発明者らにより見出されたソーラリゼーションの起ら
ない合成石英ガラスは四塩化けい素などのけい素化合物
を公知の酸水素火炎加水分解法で処理して作ったものと
すればよいが、このものはそのＯＨ基含有量が１〜１．
ＯＯＯｐｐｍであり、水素ガス溶存量が０．１ｍλ／１
００ｇ以下のものであることが必要とされる。
ない合成石英ガラスは四塩化けい素などのけい素化合物
を公知の酸水素火炎加水分解法で処理して作ったものと
すればよいが、このものはそのＯＨ基含有量が１〜１．
ＯＯＯｐｐｍであり、水素ガス溶存量が０．１ｍλ／１
００ｇ以下のものであることが必要とされる。
これはＯＨ基含有量についてはそれがｉｐｐｍ以下のと
きには２６０ｎｍの紫外線を吸収のピークが生じ、また
１、ＯＯＯｐｐｍ以上のときには１７Ｏｎｍ付近での紫
外線の吸収が増大してソーラリゼーションを起すし、ま
た水素ガス溶存量についてはそれが０．１ｍｎ／１００
ｇ以上であると１８０〜２２０ｎｍの紫外線の吸収が増
加してソーラリゼーションを起すが、このＯＨ基含有量
を１〜１．ＯＯＯｐｐｍとし、水素ガス溶存量を０．１
ｍＩＬ／１００ｇ以下とすると上記したような紫外線吸
収がなくなるのでエキシマレーザ−のような短波長で高
エネルギーの紫外線を照射してもソーラリゼーションは
起らず、したがって紫外線透過率が低下することもない
という本発明者らの実験結果にもとづくものである。
きには２６０ｎｍの紫外線を吸収のピークが生じ、また
１、ＯＯＯｐｐｍ以上のときには１７Ｏｎｍ付近での紫
外線の吸収が増大してソーラリゼーションを起すし、ま
た水素ガス溶存量についてはそれが０．１ｍｎ／１００
ｇ以上であると１８０〜２２０ｎｍの紫外線の吸収が増
加してソーラリゼーションを起すが、このＯＨ基含有量
を１〜１．ＯＯＯｐｐｍとし、水素ガス溶存量を０．１
ｍＩＬ／１００ｇ以下とすると上記したような紫外線吸
収がなくなるのでエキシマレーザ−のような短波長で高
エネルギーの紫外線を照射してもソーラリゼーションは
起らず、したがって紫外線透過率が低下することもない
という本発明者らの実験結果にもとづくものである。
また、このような合成石英ガラスは四塩化けい素などの
けい素化合物を酸水素火炎中で反応させ、その加水分解
によってシリカ微粉末とし、これを石英棒、炭化けい素
棒などのような耐火性担体上に堆積させたのち焼結し、
ついで溶融ガラス化することによって得ることができる
が、このような方法で作られる合成石英ガラスは通常Ｏ
Ｈ基含有量が・１〜１，０００ｐｐｍの範囲のものとさ
れるので、ＯＨ基含有量に関するかぎりはそのままでよ
い。なお、この製造条件によってはＯＨ基含有量が１．
０００ｐｐｍを超過する場合となるので、このときには
担体上に堆積されたシリカ微粉末をその焼結前に焼結温
度以下の温度で塩素ガスまたはＳ ＯＣｊ２２ガスの存
在下で処理してＯＨ基含有量が１〜１，０００ｐｐｍの
ものとすることがよい。
けい素化合物を酸水素火炎中で反応させ、その加水分解
によってシリカ微粉末とし、これを石英棒、炭化けい素
棒などのような耐火性担体上に堆積させたのち焼結し、
ついで溶融ガラス化することによって得ることができる
が、このような方法で作られる合成石英ガラスは通常Ｏ
Ｈ基含有量が・１〜１，０００ｐｐｍの範囲のものとさ
れるので、ＯＨ基含有量に関するかぎりはそのままでよ
い。なお、この製造条件によってはＯＨ基含有量が１．
０００ｐｐｍを超過する場合となるので、このときには
担体上に堆積されたシリカ微粉末をその焼結前に焼結温
度以下の温度で塩素ガスまたはＳ ＯＣｊ２２ガスの存
在下で処理してＯＨ基含有量が１〜１，０００ｐｐｍの
ものとすることがよい。
しかし、この公知の酸水素火炎加水分解法で作られた合
成石英ガラスはけい素化合物を酸水素火炎中で加水分解
させるものであるために通常は水素ガス溶存量が１〜２
０ ｍ Ｉｔ ／ １００ ｇとされているので、これ
はこれを０．１ｍＩＬ７１００ｇ以下のものとすること
が必要とされるのであるが、本発明にしたがってこの方
法で得られた合成石英ガラスをヘリウムガス中において
５００℃以上の温度で、例えば１０時間以上加熱すると
、この水素ガスが脱気されて容易にこの水素ガス溶存量
を０．１ｍｕ／１００ｇ以下とすることができることが
確認され、したがってこれによればエキシマレーザ−な
どを照射してもソーラリゼーションの起ぎない合成石英
ガラスを容易に得ることができるという有利性が与えら
れる。
成石英ガラスはけい素化合物を酸水素火炎中で加水分解
させるものであるために通常は水素ガス溶存量が１〜２
０ ｍ Ｉｔ ／ １００ ｇとされているので、これ
はこれを０．１ｍＩＬ７１００ｇ以下のものとすること
が必要とされるのであるが、本発明にしたがってこの方
法で得られた合成石英ガラスをヘリウムガス中において
５００℃以上の温度で、例えば１０時間以上加熱すると
、この水素ガスが脱気されて容易にこの水素ガス溶存量
を０．１ｍｕ／１００ｇ以下とすることができることが
確認され、したがってこれによればエキシマレーザ−な
どを照射してもソーラリゼーションの起ぎない合成石英
ガラスを容易に得ることができるという有利性が与えら
れる。
［実施例］
つぎに本発明の実施例をあげる。
実施例
三重管構造のバーナーの最外側に水素ガス、その内側に
酸素ガスをそれぞれ４ｊ２／分、２１／分で供給し、点
火して酸水素火炎を形成させ、その中央部から四塩化け
い素をガス状で５００ ｍｌｌｌ分で供給し、その火炎
加水分解で微粉末シリカを生成させ、このシリカを石英
ガラス製の出発材に軸方向に堆積して捕集した。
酸素ガスをそれぞれ４ｊ２／分、２１／分で供給し、点
火して酸水素火炎を形成させ、その中央部から四塩化け
い素をガス状で５００ ｍｌｌｌ分で供給し、その火炎
加水分解で微粉末シリカを生成させ、このシリカを石英
ガラス製の出発材に軸方向に堆積して捕集した。
ついでこの多孔質シリカ体をヘリウムガス罪囲気中にお
いて１，４００℃で１時間焼成して透明ガラス化して石
英ガラスとしたのち、さらに、へリウムガス中において
８００℃で２４時間加熱処理し、このもののＯＨ基含有
量とガス溶存量をしらべたところ、ＯＨ基含有量は２０
０ｐｐｍ、水素ガス溶存量は０．０８ｍｕ／１００ｇで
あった。
いて１，４００℃で１時間焼成して透明ガラス化して石
英ガラスとしたのち、さらに、へリウムガス中において
８００℃で２４時間加熱処理し、このもののＯＨ基含有
量とガス溶存量をしらべたところ、ＯＨ基含有量は２０
０ｐｐｍ、水素ガス溶存量は０．０８ｍｕ／１００ｇで
あった。
つぎにこの石英ガラスにアルゴンガス下でレーザーを照
射し、その２６０ｎｍにおける吸収係数の増加を測定し
たところ、これは従来法で作られた石英ガラスの１／１
０にすぎず、またこれをエキシマレーザ−のりソグラフ
イ用マスク基板として使用したところ、このものにはソ
ーラリゼーションは全く起らなかった。
射し、その２６０ｎｍにおける吸収係数の増加を測定し
たところ、これは従来法で作られた石英ガラスの１／１
０にすぎず、またこれをエキシマレーザ−のりソグラフ
イ用マスク基板として使用したところ、このものにはソ
ーラリゼーションは全く起らなかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、火炎加水分解法により製造された合成石英ガラスに
おいて、ＯＨ基含有量が１〜１，０００ｐｐｍの範囲で
あり、水素ガス溶存量が０．１ｍｌ／１００ｇ以下であ
ることを特徴とする耐紫外線用合成石英ガラス。 ２、火炎加水分解法により製造された合成石英ガラスを
、ヘリウムガス中５００℃以上で加熱し、脱ガスするこ
とを特徴とする請求項１に記載の耐紫外線用合成石英ガ
ラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63215484A JPH0733259B2 (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | 耐紫外線用合成石英ガラスおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63215484A JPH0733259B2 (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | 耐紫外線用合成石英ガラスおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0264028A true JPH0264028A (ja) | 1990-03-05 |
| JPH0733259B2 JPH0733259B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=16673149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63215484A Expired - Lifetime JPH0733259B2 (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | 耐紫外線用合成石英ガラスおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0733259B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0388742A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-04-15 | Shinetsu Sekiei Kk | 合成シリカガラス光学体及びその製造方法 |
| JPH06227827A (ja) * | 1992-02-07 | 1994-08-16 | Asahi Glass Co Ltd | 透明石英ガラスとその製造方法 |
| EP0747327A1 (en) * | 1995-06-07 | 1996-12-11 | Corning Incorporated | Method of thermally treating and consolidating silica preforms for reducing laser-induced optical damage in silica |
| JP2007144993A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-06-14 | Miyakoshi Printing Machinery Co Ltd | 角底袋製袋機における紙筒形成装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6241183A (ja) * | 1985-08-15 | 1987-02-23 | 三菱電機株式会社 | エスカレ−タの運転装置 |
| JPS6283325A (ja) * | 1985-10-08 | 1987-04-16 | Asahi Glass Co Ltd | 高純度石英ガラスの製造方法 |
| JPH01212247A (ja) * | 1988-02-19 | 1989-08-25 | Shinetsu Sekiei Kk | レーザ光学系母材の製造方法 |
-
1988
- 1988-08-30 JP JP63215484A patent/JPH0733259B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6241183A (ja) * | 1985-08-15 | 1987-02-23 | 三菱電機株式会社 | エスカレ−タの運転装置 |
| JPS6283325A (ja) * | 1985-10-08 | 1987-04-16 | Asahi Glass Co Ltd | 高純度石英ガラスの製造方法 |
| JPH01212247A (ja) * | 1988-02-19 | 1989-08-25 | Shinetsu Sekiei Kk | レーザ光学系母材の製造方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0388742A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-04-15 | Shinetsu Sekiei Kk | 合成シリカガラス光学体及びその製造方法 |
| JPH06227827A (ja) * | 1992-02-07 | 1994-08-16 | Asahi Glass Co Ltd | 透明石英ガラスとその製造方法 |
| EP0747327A1 (en) * | 1995-06-07 | 1996-12-11 | Corning Incorporated | Method of thermally treating and consolidating silica preforms for reducing laser-induced optical damage in silica |
| US5735921A (en) * | 1995-06-07 | 1998-04-07 | Corning Incorporated | Method of reducing laser-induced optical damage in silica |
| JP2007144993A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-06-14 | Miyakoshi Printing Machinery Co Ltd | 角底袋製袋機における紙筒形成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0733259B2 (ja) | 1995-04-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3206916B2 (ja) | 欠陥濃度低減方法、紫外線透過用光学ガラスの製造方法及び紫外線透過用光学ガラス | |
| US7635658B2 (en) | Deuteroxyl-doped silica glass, optical member and lithographic system comprising same and method of making same | |
| EP1125897B1 (en) | Synthetic quartz glass and method for preparing the same | |
| JPH0791084B2 (ja) | 耐紫外線用合成石英ガラスおよびその製造方法 | |
| US20030039865A1 (en) | Isotopically engineered optical materials | |
| US20070105703A1 (en) | Deuteroxyle-doped silica glass, optical member and lithographic system comprising same and method of making same | |
| JP2003081654A (ja) | 合成石英ガラスおよびその製造方法 | |
| JPH0532432A (ja) | 高出力レーザ用光学部材 | |
| JPH0264028A (ja) | 耐紫外線用合成石英ガラスおよびその製造方法 | |
| JPH0891867A (ja) | 紫外光透過用合成石英ガラスおよびその製造方法 | |
| JP4323319B2 (ja) | アルミニウムを含有する溶融シリカ | |
| JPH06166528A (ja) | 耐紫外線レーザー用光学部材の製造方法 | |
| JP3531870B2 (ja) | 合成石英ガラス | |
| EP1130000B1 (en) | Synthesized silica glass optical member and method for manufacturing the same | |
| JP3336761B2 (ja) | 光透過用合成石英ガラスの製造方法 | |
| US6630418B2 (en) | Fused silica containing aluminum | |
| JPH06199539A (ja) | エキシマレーザー用光学石英ガラス部材及びその製造方法 | |
| JPH08133753A (ja) | 光学用合成石英ガラス及びその製造方法並びにその用途 | |
| JP3368932B2 (ja) | 透明石英ガラスとその製造方法 | |
| JP2955463B2 (ja) | 紫外線吸収性が良く、かつ可視光透過性の高いシリカガラスおよびその製造方法 | |
| JP4228493B2 (ja) | 合成石英ガラス | |
| JP2566151B2 (ja) | レーザー光学系母材の製造方法 | |
| JP2002316831A (ja) | フッ素添加石英ガラス | |
| JP3919831B2 (ja) | 光学用合成石英ガラス | |
| KR940007219B1 (ko) | 자외선투과용 광학유리 및 그 성형물품 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080412 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090412 Year of fee payment: 14 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090412 Year of fee payment: 14 |