JPH0262056A - 半導体チップの実装方法 - Google Patents

半導体チップの実装方法

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Publication number
JPH0262056A
JPH0262056A JP21307688A JP21307688A JPH0262056A JP H0262056 A JPH0262056 A JP H0262056A JP 21307688 A JP21307688 A JP 21307688A JP 21307688 A JP21307688 A JP 21307688A JP H0262056 A JPH0262056 A JP H0262056A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor chip
solder
electrodes
protrusion
metal
Prior art date
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Pending
Application number
JP21307688A
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English (en)
Inventor
Osamu Sugiyama
修 杉山
Hikari Fujita
光 藤田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、配線パターンを有する基板上に半導体チップ
をフリップチップ方式でフェースダウンボンディングす
る実装方法に関する。
従来の技術 配線パターンを有する基板上に半導体チップを実装する
COB (チップ・オン・ボード)実装方法にはワイヤ
ボンド方式、フリップチップ方式があるが、特にフリッ
プチップ方式は実装面積をチップサイズで行なうことが
でき、更に電極をチップ内面にも取ることができるので
高密度実装に有利である。
従来のフリップチップ方式では、第4図に示すように、
半田バンプ3を介して基板1の配線パターン2と半導体
チップ4を接続したり、第5図のように半導体チップ4
の電極上にAu等の金属突起5を設は配線パターン2と
接続後、絶縁性UV硬化樹脂6を硬化させて半導体チッ
プ4を基板1に接着する方法や、又金属突起と配線パタ
ーンの間に導電性ゴムや導電性接着樹脂や異方性導電シ
ートを介存させるなどの方法で行なっている。
発明が解決しようとする課題 しかし、前述の従来技術では絶縁性UV硬化樹脂を用い
る方法(第5図)以外は、半導体チップの電極ピッチを
100μm以下の高密度にすることができないという問
題がある。又この絶縁性UV硬化樹脂による方法は、半
田バンプによる方法(第4図)に比べ機械的強度が小さ
いという問題がある。
課題を解決するための手段 本発明は、半導体チップの全て或いは一部の電極上に金
属突起を設けると共に、金属突起を形成しない残りの電
極上又は電極以外でかつパターンの無い部分に半田突起
を設け、この半田突起を加熱溶解して前記金属突起を基
板上の配線パターンと接続し、半田又はこれに加えて接
着樹脂により接続保持をするものである。
作用 本発明によれば、半導体チップの高密度な電極に設ける
接続用バンプは金属突起とすることによって小さくする
ことができ、隣接する電極間ピッチを小さくすることが
できる。従って、半導体チップ上に多くの電極を設けて
基板上の配線パターンと接続することができる。
更に接続後の保持が半田又はこれに加えて接着樹脂によ
り行なわれるので機械的強度が大きい半導体チップの実
装を実現することができる。
実施例 以下、本発明の実施例を第1図〜第3図を用いて説明す
る。第1図は半導体チップ4の全て或いは一部の電極上
にAu等の金属突起5を蒸着とメツキにより設け、金属
突起を形成しない残りの電極上か又は電極以外の部分で
かうパターンの無い部分に蒸着やメツキ等により半田突
起8を設けたものである。このようにした半導体チップ
4を、第2図に示すような基板1上の配線パターン2及
び半田接続パターン7と位置合わせを行なった後、加熱
と加圧により接続する。本実施例においては、半田接続
箇所の数を限定するものではないが、半導体チップ4に
反りや傾きが出ないようにチップ面に均等に分散して設
けるようにすると好適である。又半田突起8の形状は限
定されず、ボール形状のものを供給してもよい。
第3図はこのようにして半導体チップ4を配線パターン
2を有する基板1上に接続した状態を示す図であり、基
板1上に接着樹脂9を塗布した後半導体チップ4裏面か
らの加熱によって半田突起8を溶融し、半田接続パター
ン7と接続して半田の表面張力によりセルフアライメン
トされた後、更に加圧して金属突起5も接続する。この
とき接着樹脂9は半田突起8を溶融する加熱により、セ
ルフアライメントされた後硬化するものとし、硬化後半
導体チップ4と基板1間に収縮応力が働き半田突起8に
よる接続の補強をする。さらに、半田突起8は金属突起
5より熱膨張係数の小さいものとし、実装後の熱による
膨張で金属突起5と配線パターン2の接触部に引っ張り
応力が俄かないようにする。また、半田突起8の高さは
金属突起5の高さより高くして、溶融した時半田接続パ
ターン7と十分に接続するようにする。
このようにして半導体チップ4を基板1上に接続した後
、保護樹脂10を塗布し、周囲環境から半導体チップ4
及び接続部を保護する。
発明の効果 以上述べてきたように、本発明によれば半導体チップの
電極間ピッチを小さくして電極数を多く取ることができ
、かつ接続強度の大きい半導体チップの実装を行なうこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例における半導体チップの図、第
2図は実施例において半導体チップを実装する基板の部
分図、第3図は実施例において半導体チップを基板に実
装した状態図、第4図は従来例の半田バンプにより接続
した状態図、第5図は従来例の絶縁性UV硬化樹脂によ
り接続した状態図である。 1・・拳基板、2会・・配線パターン、4−−・半導体
チップ、511・・金属突起、8I・Φ半田突起、9・
・・接着樹脂。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体チップの全て或いは一部の電極上に金属突
    起を設けると共に、前記金属突起を形成しない残りの電
    極上か又は前記電極以外の部分でかつパターンの無い箇
    所に、半田突起を設け、この半田突起を加熱溶融して前
    記金属突起を基板の配線パターンと接続することを特徴
    とする半導体チップの実装方法。
  2. (2)半田突起の熱膨張係数は金属突起と同じか又は小
    さいことを特徴とする請求項1記載の半導体チップの実
    装方法。
  3. (3)半田突起の高さは十分に基板上のパターンと接続
    する程度に金属突起の高いことを特徴とする請求項1記
    載の半導体チップの実装方法。
  4. (4)半導体チップと基板の間に接着樹脂を介存させる
    ことを特徴とする請求項1記載の半導体チップの実装方
    法。
  5. (5)接着樹脂は硬化が半田突起の溶融温度で行なわれ
    ることを特徴とする請求項4記載の半導体チップの実装
    方法。
  6. (6)接着樹脂は半導体チップと基板との間に収縮応力
    を働かせて半田接続の補強をすることを特徴とする請求
    項4記載の半導体チップの実装方法。
JP21307688A 1988-08-26 1988-08-26 半導体チップの実装方法 Pending JPH0262056A (ja)

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