JPH0261008A - 連続アニーリングのための方法及び装置 - Google Patents

連続アニーリングのための方法及び装置

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JPH0261008A
JPH0261008A JP1171764A JP17176489A JPH0261008A JP H0261008 A JPH0261008 A JP H0261008A JP 1171764 A JP1171764 A JP 1171764A JP 17176489 A JP17176489 A JP 17176489A JP H0261008 A JPH0261008 A JP H0261008A
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strip
furnace
annealing
replenishment
loop
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JP1171764A
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Thomas A Sellitto
トマス・エイ・セリット
Willis E Perry
ウィリス・イー・ペリー
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    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D1/00General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C21D1/26Methods of annealing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • C21D9/52Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
    • C21D9/54Furnaces for treating strips or wire
    • C21D9/56Continuous furnaces for strip or wire

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  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は金属ストリップの連続したアニーリングのため
の方法及び装置に関し、特に鉛直アキュムレータ加給炉
を有する金属ストリップの連続したアニーリングのため
の方法及び装置に関する。
[従来技術1 ストリップ金属の連続アニーリングが長年の間鉄M産業
界で行われてきた。その工程には通常、連続する金属ス
トリップをアニーリング・オープンに供給する工程が含
まれている。ストリップの供給工程は連続して為されな
ければならない、というのは、オープン内に置かれた多
くの過熱されたストリップが好ましくない粒状構造物を
形成するからである。ストリップは一度過熱されると、
その仔かな粒状構造物及びこのような構造物に対応して
見られる1的減少の為に、駄目になる。
アニーリング・ラインにおけるアキュムレータの使用は
、連続するストリップに追加のストリップをつなげる間
、アニーリング・オープンにストリップを連続して流す
ことを確実にし、巻取りコイルの巻取りが完了してもう
一つのコイルが作られることを可finにするようにス
トリップが切断されるとき、オープンからのストリップ
の連続した流れを確実にする。
従来の連続ストリップ・アニーリングの実施にfl−う
問題は、かなりの数の付属装置をアキュムレータの形で
アニーリング・ラインに加えなければならないことであ
る。このような付属装置の購入は、かなりの初期資本投
資を必要とし、通常の操作上の問題とメインテナンスの
必要とから引き続き投資を必要とし、また、余分な設置
空間を必要とする。
アニーリングの実施に鉛直アニーリング加熱炉を用いる
ときは、概して内部の加熱要素やバーナーを必要とし、
アニールされたストリップに高エネルギーが用いられる
ことになる。操作の間にjJF出される燃焼排気ガスも
また浪費される。このようなアニーリングの実施は、加
熱炉の加熱効率の対応する損失がなく均一な連続アニー
ルを達成するための僅かな技術を提供する。
これらの問題の幾つかを克服する鉛直連続アニーリング
加熱炉を提供するために、別の努力がなされた。このよ
うな努力の一つが米国特許第4.395.021号に記
載されており、そこにはカテナリー(CaLenary
)金属ストリップを受け入れるための一つの鉛直アニー
リング加熱炉があり、関連する余熱及び加熱チェンバー
を形成する二つの加熱炉カバーを有する。また、別の努
力が米国特許第3,152゜794号に記載されている
。そこには二つの金属ストリップのカテナリー・ループ
が互いに長さが可変であるように、例えば、一方は短く
他方は長く示されている。インプット及びアウトップト
・ピンチ17−ラの回転によって、各々ストリップをル
ープへ供給し、またループから引き出す、そのループは
適切なストリップアニールを得るために、・ピ・要に応
じて短くされ、また、長くされる。
[発明の目的] 本発明は、付属の高価なアキュムレータ及びそれらに関
連する装備を必要としないアキュムレータとして夕)l
直前熱炉を使用する金属ストリップの連続アニーリング
のための新規で改良された装置を提供し、また、エネル
ギーの効果的操作原理を用いて、高い均一性をもったア
ニールを提供する。
[発明の構成] アニーリング装置はリードコイルからのリードストリッ
プ部分のf&端部を一つのコイルからの連続するストリ
ップの先端部に継いで連続ストリップを形成するための
ストリップ結合ステーション;インプット及びアウトツ
ブトストリップ補給構造体、即ちローラ;アニーリング
・チェンバを限定する鉛直加熱炉;ストリップ補給I7
I遺体間及び加熱炉内でストリップのカテナリー・ルー
プを形成するために補給構造体から補給されるストリッ
プの1を調節するための制御装置;及び加熱炉がストリ
ップをアニールし、同時に、アキュムレータとしてfi
lfflするようにt%4ヤされるようループの大きさ
を制御nするために補給構造体の各景を調節し、処理す
るための制御装置と通じているセンサーとからなる。
本発明の好適な構成に従った装置には、ストリップ金属
のリードコイルと連続コイルを支持する構造体を有する
ストリップコイル・サプライを有する。ストリップはコ
イル・サプライからストリップ結合ツー。チージョンに
補給される。ストリップ結きステージボンは接続される
各ストリップの自由先端部と自山峡端部を取り除く切I
t1it機構と連続ストリップを作るために端部を一緒
に熔接する熔接器を有する。
本発明の好適態様に於いて、ストリップの入り口及び出
口を有する加熱チェンバ;該チェンバを加熱するために
アニーリング加熱炉からの排気ガスを受け人!しるガス
入り口;及び加熱チェンバからの排気ガスをレキュペレ
ータあるいは他の熱再利用即ち変Ja装置に排出するた
めのガス出口を有する余熱ステーションが提供される。
レキュペレータは加熱炉m焼ガスがアニーリング加熱炉
に戻される前に該ガスを加熱することを助け、それによ
って加熱炉の効率を上げ、エネルギーの消費を減少させ
る。
インプット及びアウトプットストリップ補給構造体即ち
ローラが加熱炉アニーリングチェンバの両側で上端部近
くに配設されている。インプットM31体もまた加熱チ
ェンバストリップ出口に近接配置されており、″インプ
ット補給構造体はストリップを受け取って加熱チェンバ
からの出口にあるアニーリング加熱炉に該ストリップを
送る。
ストリップは好ましくは、可変長カテナリー・ループを
形成する装置の間のha給装置と加熱炉とを通じて補給
されることである。前記加熱炉は、該加熱炉の上端部の
ストリップ入り口及び出口;加熱炉から加熱チェンバl
−排気ガスを放出する排気ガス出口;ストリップの状態
を検知するためのセンサー:及びセンサー情報に応答し
てチェンバを加熱するために制御装置によって始動させ
られる加熱要素即ちバーナーとを有する。
好適実施例では、制御装置はセンサーによって検知され
たストリップの状態の情報に従って、ストリップ補給装
置の回転率を調節する。制御装置によって受け取られた
センサー情報は処理され、制御装置の理想アニール状態
と比較される1次に制御装置は、補給構造体の各回転率
を調節し、検知されたストリップ状態が制御装置の理想
アニール状!ぶに一致するように加熱要素を働かせる。
インプット補給槽−遺体が次に続くストリップを連続ス
トリップと連結するために止められているとき、アラl
−プツト補給槽遺体は引き続きストリップを動かし、そ
れによって加熱炉内のループが使い果たされる。従って
、ループの大きさは前記加熱炉がストリップをアニール
し、同時にアキュムレータとしてll!能するように制
御される。加熱炉内のストリップの張力もまた前のカテ
ナリー加熱炉のものより減じられているので、アニーリ
ング温度でのストリップの破損の可能性は、好適実施例
に従って構成された装置では大きく減少される。
−度連続ストリップ接続がオーバースピード状!「でス
トリップインプット補給構造体の動きによって完了する
と、゛使い果たされたループが補給される。・・・・・
・ストリップの切断のためにアウトプット補給構造体が
止められるとき、ループもまた補給される。・・・・・
・ 従って、制御装置とセンサーは、インプット及びア
ウトプット補給構造体の回転とバーナーの操作を調節し
、理想アニール状態と一致させるために、定期的にスト
リップ状態についての情報を得ている。
好適な構成では、アウトプット補給構造体は加熱炉出口
から出てくるストリップを冷却するために、水で冷却さ
れたローラから成っている。ボストアニーリング・ステ
ーションがアラ!・プツト構造体からストリップを受け
取る。前記ステーションは一つのセンサー、ストリップ
を更に空冷するための構造体及びストリップを取り扱う
ための浄化及び乾燥構造体。
ストリップ切断ステージジンも備えられ、そこで別個の
アニールされたストリップを作るために連続補給された
ストリップが分離される。加熱炉構造木から出た後の分
離されアニールされたストリップを冷却するための構造
体を有する取り出し即ちリコイリング・ステーションも
備えられている。
好適実施例の装置では、幅センサ−、重重センサー1、
長さセンサー、温度センサー及び速度センサーからなる
センサーから制御装置へ検知されたスl−リップ状層が
伝達される。
別の好適な装置では、高いコイル温度を維持するように
コイルが従来のローリング・システム及び加熱されたコ
ンベアーを通るコイラー(coiler)からストリッ
プコイル・サプライに移し変えられている。高いコイル
温度を維持する事により、それに共なってエネルギーの
節約も得られる。
本発明の他の特徴及び利点が、以下に添付図面を用いて
記載した詳細な説明から明らかに成るであろう。
[実施例] 本発明に従って構成されたストリップ金属の連続アニー
リングのための装置が第1図に示されている。装置が参
照番号Aで示された工場の床の上に示されている。前記
装置はプリエントリー・ステーション11、ストリップ
サプライ12、ストリップ連結ステーション14、余熱
ステーション15、アニーリングチェンバ18を限定す
る鉛直加熱炉構造体16、インプット・ストリップ補給
器20、アウトプット・ストリップ補給器22、制御装
置24、センサー26、ボストアニーリング・スデーシ
iン2M、別個のアニールされたコイルをft?るため
にス!・リッ1を分離するストリップ切断ステージ1ン
30及び(連続して111目合されたストリップの切断
の後、)アニールさ!したストリップをコイリングする
ための取り出し装置32からなる。
第1図に示されたプリエントリー・ステーション11は
巻かれたストリップを作るローリング及びご1イリング
SAnから右かれたストリップを直接受け取り、そして
、ストリップをCI−ル及びコイバフ1−メイシnンか
ら」−昇した温度に維持するために囲われて加熱された
コンベアー40を有する。コイルは1リエン1−リー・
ステーシロンからストリップサプライ12に移される。
ストリップサプライには第1サボー1−48 J:のリ
ード=1イIし46からリードスw〜リップ44を解き
、受け1■す、支持するための解きはどき機栖42を(
Tする。第2サポート52」−に設置された連続する:
Fイル50を解きほどき機構に移すために、17−ゾイ
ンク機横49も備わっている。−度はどdid)及びビ
ーリング(peeling)8%横54を通して7.ト
リーy 73’!結ステーシヨンに送られる。
ストリップ連結ステーション14はリードストリップ4
4と連続するコイル50からのストリップの自由端部を
切断するための切断機槽からなる。
ストリップは切断されるとすぐに溶接器58へ運ばれ、
アニールされる連続ストリップ34を作るために自由r
jl igどうしが溶接される0次に前記連続ストリッ
プはステアリング・ローラ60を通して余熱ステージせ
ンに送られる。
第2図のように、余熱即ち前処理ステーション】5は以
Fのものから構成される。即ち加熱チェンバ62であっ
て、該チェンバを加熱するために加熱炉16からの排気
ガ、スを受け入れるためのガスインレット64を備える
火を用いないチェンバ、前記U?気ガスを加熱チェンバ
からレキュペレータ(図示せず)に放出するためのガス
出口66、センサー68及び加熱炉インプッl−補給f
III造体20とから成る。第2図に示されているよう
にインプラ1−74相措造木20番奥駆動ローラ70(
:によって定められた制御された割合でストリップを加
熱炉に供給するためのローラ70 a及び701]とか
らなる。
ストす・ソアは入り口開ロア2を通って加熱チェンバに
入り、出ロア4を通ってチェンバから出る。
#U熱チェンバを収容し、チェンバ62内に汚t4>物
質が流れ込むことを防ぐために入り口と出口にバリアー
IlILM 76が設けt、れている、レキコ、ペレー
タ1上従来の熱交Jl! 2y1.;+るいは他の熱変
換装置からなり、前記チェンバから出る排気ガスを受け
入れ、鉛直加熱炉16に入る燃焼ガスの加熱を助ける。
nQ記加熱チェンバには内側63に耐火煉瓦が並べt、
れており、該煉瓦は熱エネルギーを蓄えてストリッフ゛
に再放口(する。
センサー68はストリップが加熱グーエンバに入る前の
温度を測定するための高温計のような温度センサーとス
トリップの速度を検知するためのタコ、メータからなる
。センサーによって検知されたiu度の情報は、は連結
された制御n!a置24に伝達、二I」 される、加熱炉インプットtin給ローラ70a及び7
01)は、やはり制in装置によって決定される制f、
IFされた割合でストリップを鉛直加熱炉に補給する。
鉛直加熱炉楕逍体16はアニーリング・チェンノ<18
に、しって限定されており、該チェンバは鋼鉄の外部シ
ェル77、非常に低い保温率を有するファイバー絶縁材
で絶縁された内978、耐火煉瓦で絶縁された底部分8
0及びやはり鋼鉄でfPられ、低い保温率を有するファ
イバー絶縁材で絶縁された上端部分82を有する。アニ
ーリング・チェンバは加熱炉の−tZ端部分82にスト
リップ入り口84及びストリップ出口86を有し、その
人り1コと出口に加熱チェンバについて1(!明したタ
イプのバリアー76が備わっている。アニーリング・チ
ェンバかr、の排気ガスは入り口64を介して連結され
た加熱チェンバ62に放出される。
第2rl!!の鉛直断面に示されるように、バーナー1
(1jち加熱9’JT:sBがチェンバを所望のアニー
リング温度に加熱するために加熱炉fl!l壁に取り付
けられており、セン→)’ −26からの情報のfT、
3fiに応じて制す−装置によって始!I’11される
。黒点で示したバー→・−は近い側壁78に取り付けら
れたバーナーを示し、白点で示したバーナーは加熱炉の
側壁から遠くに収りf・1けられたバーナー881)を
示す。
I7−ラ70 a及び7 r) bを有するイン:)”
 −y t−ス!・す・ツブ補相イ旧n (+2 o 
4,1、制御装置24によって制御された割合で駆動ロ
ーラ7 (1cによって回転さぜ?、れる。アウトプッ
1〜補給横逍(+、22はロー”+9 (1*、90 
b及び()Q cかr、なる、連続ストす・ソア34の
カテナリー・ルー゛r36は加熱炉内にストリップの蓄
積をさせるために、イングツト及びアウトプッl−il
l給椙造体20.22の間に沖びている。ループの大き
さは各々インプラ!・及び7°つi・アットローラの回
転によって制御される。
加熱炉内のストリップ入ちループ位置は、ループ(Iy
′W、を伝達するため番ご制御装置と連結された)1ト
セルからなるセンサー92によって監視される。
7、トす・ツブ・アニーリング温度がチェンバ内におい
て、及びストリップがチェンバに入るときと出−9・−
1 るときに於いてそれぞれ監視されるように、アニーリン
グ・チェンバの底部分80、入り口84及び出[186
に配設された高温計センサー94.96によってストリ
ップ温度が検知される。
アウトプット 9 0 cは、ストリップ・グレイン楕遺物を保管する
ために加熱炉から出てくるアニーリング・ストリップを
低い温度に冷やすための水冷ローラからなっている。
i,II I)−装置24には理想的なアニーリングモ
デルがプログラムされたコンピュータからなる.前記コ
ンピュータは、余熱ステーション15、アニーリング・
グ・エンバ18、ボストアニーリング・ステーション2
8、バーナー88及び補給梧造体からの検知されたスト
リップ状態を受けるために,ステーシヨン26の各々に
連結されている.ストリップの幅、ゲージ及び速度とい
ったインプット状態もまたアニーリング・チェンバによ
る一時間当たりのコイルの処理乗員を計算するために余
熱ステージジンに配設されたセンサー26によって提供
ンサーから受け取った検知された状態と共に、プログラ
ムされた理想アニーリングモデルの状態と比較され、理
想モデルと一致させるためにバーナー動作の必要なレベ
ルと装置を通過するストリップ速度を計算する.−度レ
ベルが決定されると、コンピュータは検知されたストリ
ップ状態を理想アニーリングモデル状態に一致させるよ
うに適切にtJ!J整する。
ボストアニーリング・ステーション28は図に示されて
いるようにストリップをチェンバから離し,空冷セクシ
ョンを通るように動かずための水冷17ーラリ0;t,
90b,すOCと,ステアリング・ロール98と、冷却
の後にストリップ温度を検知するための高温計センサー
97と一連のクリユング1^横とを有している.そのク
リーニング17ttMはプラス1−クリーナー(bla
sL cleaner)9 9:ストリップを収納する
′ためのプライドル(bridl(!>101を有する
硫酸ソーダ100aのピックリ〉グ・バス(pickl
iB baLl+) 1 0 0と矢印で示したところ
からガスが出る°排気1コ100b:やはり矢印で示し
たところからガスが出る排気口102a、ブラシ103
及びドライヤー104を有する穴部クリーナー102と
を有する.ディフレクタ−・17−ル106も一連のク
リーナー桟積に従って設けられている。
ストリップは別個のアニールされたコイルを作るために
ストリップ切断ステーション30で切断1措110によ
って分離され、ピンチローラ112によって取り出しt
Fl造体32へ運ばれ、そこでストリ・yプはアニール
されたコイル114内でリコイラー(reeoiler
)fi横によってリコイルされる。
アニーリング装置の操fヤの間、連結ステーション14
で次に続くストリップが連続的に連続ストリップ34に
接続される.ストリップの接続の間、制御装置は加熱炉
に供給されるストリップが停止するようにインアワl−
補#&措造体20の回転を調節する.停止している間、
アウトプット浦給槽逍体は引き続き加熱炉からストリッ
プを運び出し、第1I2Iに点線で示したようにチェン
バ内のループを減少させる.ループ′の長さの減少がセ
ンサー92によって検知されたときに、さらにエネルギ
ーを保有するために制御装置が下方のバーナーを止めて
もよい.もし、ストリップの長さが最小限度を超えて雉
くなったな?,、制御装置は2分以」ニバーナーを止め
る。
一度ストリップが接続されると、制御装置はバーナーを
再点火し、タコメータ及びフすトセル・センサーと共に
制911装置によってit17された.にのストリップ
を減じられたルー136が補給されるまでチェンバに急
速補給するように、インプットidi給tMjを木をオ
ーバースピード状態で駆動する。
加熱炉はこのように同時にアニーリング・チェンバとし
て、及びアキ5.ムレータとして俄<。
均一なストリップ・アニールと加熱炉効率の増加を得る
ために、従ってインプット及びアウトプラト補給構造体
の回転,ストリップ温度及びバーナーの操作に連続的に
通じ、調節し、それらを理想的なアニール状態と一致さ
せるために、制御装置24とセンサー26が関連するス
トリップ速度、・・j′ 温度及び位置と連続Cヶに通じている。
ここまで本発明の好適な実施例について詳細に開示して
きたが、本発明は開示した構成に厳密に限定されるもの
ではない、様々な付加、変更及び発明の使用形態が当業
者には明らかかも知れない、そして、そのような付加、
変更及び発明の使用形態の総てが特許請求の範囲に入る
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に従って梢成された鉛直アキュノ、レー
タ加熱炉を使用する金属ストリップを連続アニールする
ための装置の略示図で有る。 第2図は第1図のアキュムレータ加熱炉の鉛直断面略示
図で有る。 上1口しt9」兄ユ 2・・・スI・リップサプライ 4・・・ストリップ連結ステーション 5・・・余熱ステーシヨン S・・・アニーリングナエンバ 6・・・鉛直加熱炉tl!逍体 20・・・インプット・ストリップ補給器22・・・ア
ウトプット・ストリップ補給器24・・・制御ヰ装置 26・・・センサー 30・・・ストリップ切断ステーション:32・・・収
り出し装:代

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、金属ストリップを連続アニーリングするための装置
    であつて、 a)アニーリング・チェンバを限定する加熱炉、 b)前記チェンバの両側で、上端部付近に配設されたイ
    ンプット及びアウトプットストリップ補給構造体、 c)前記ストリップ補給構造体で各々がそれらの間にカ
    テナリー・ループ作るためにストリップ補給の制御をす
    るための手段を含むところのストリップ補給構造体、 d)ストリップの後端部と次に続くストリップの先端部
    を接続する機構をゆうし、それにより連続するストリッ
    プ補給がストリップコイルの補給あるいは同様のものか
    ら加熱炉に補給されるところのストリップ補給構造体、
    及び、 e)ストリップ補給構造体と機能的に連結され、検知し
    た状態に応答して各補給構造体の割合を制御するための
    補給制御手段であつて、該状態にはストリップの温度が
    アニーリング温度に達することを確実にし、それによっ
    てループの大きさを制御するためにストリップ温度が含
    まれ、また、加熱炉が使用中にこのようなストリップを
    アニールし、同時にアキュムレータとして機能するよう
    にループの大きさを変えるよう操作されるような加熱炉
    の温度が含まれることを特徴とする、補給制御手段、 とから成る装置。 2、アニーリング加熱炉であって、 a)一つのリードコイルと少なくとも一つのストリップ
    金属の連続コイルを支持する構造体、リードコイルの後
    端部と次に続くコイルの先端部を継ぐためのストリップ
    連結ステーションを有し、それによって前記コイルから
    ストリップが間断なく補給され得るストリップ・サプラ
    イ、 b)アニーリング・チェンバとインプット及びアウトプ
    ットストリップ補給器を限定する加熱炉構造体、 c)加熱炉構造体から出た後のアニールされたストリッ
    プを巻くための構造体と、別個にアニールされたコイル
    の形成を可能にするために、間断なく補給されるストリ
    ップを切断するストリップ切断ステーションとを有する
    取り出し装置、 d)補給器に接続され、ストリップ補給器がチェンバを
    介して加熱炉内のストリップの自由ループの確立をし、
    該ループの大きさを制御することが可能なように該スト
    リップ補給器を制御するように構成された制御装置、 e)制御装置であって、熔接操作が行われ、一方で加熱
    炉からのアウトプット補給が続いているときに、インプ
    ット補給器による加熱炉内へのストリップの補給を停止
    し、 また、切断操作が行われ、一方で、もし条件が保証され
    るならインプット補給を可能にし、それによって加熱炉
    内の自由ループが連続操作を可能にするアキュムレータ
    として機能するとき、加熱炉からのアウトプット補給を
    停止する補給制御手段を有し、該手段はまたストリップ
    温度を測定するためのセンサーを有し、ストリップがそ
    のアニーリング温度に加熱されることを確実にするため
    に加熱炉の温度を変えることを特徴とする制御装置、 とから成るアニーリング加熱炉。 3、鋼鉄の連続するアニーリングのための装置であって
    、 a)前記装置を通るストリップの動きを調節するための
    制御装置、 b)第一及び第二のストリップを受け入れるためのエン
    トリー・ステーションであって、アニールされるべき連
    続ストリップを形成するために、第一のストリップの自
    由端部と第二のストリップの自由端部を接続するための
    連結器を有するステーション、 c)前記処理ステーションであって、加熱チェンバ;ス
    トリップの幅、速度及び温度を検知するためのセンサー
    ;及び前記ストリップを制御された速度で補給するため
    の補給ローラ、から成るステーション、 d)処理ステーションであって、前記補給ローラから前
    記連続するストリップを受け入れ、前記加熱炉内にカテ
    ナリー・ループを形成する鉛直加熱炉から成り、加熱炉
    内でのストリップの長さ及び温度を検知するために制御
    装置と通じているセンサー及び該制御装置によって始動
    されるバーナーを有する処理ステーション、 e)処理手段を有するポスト処理ステーションであって
    、該手段が連結器の操作による補給ローラのストリップ
    の補給の停止にもかかわらず制御された速度で加熱炉か
    らの前記ストリップの取り出しを続けるための補給ロー
    ラ;ストリップを冷却し、清浄化するための手段;及び
    制御装置に接続されたセンサー手段を有し、該センサー
    手段はストリップ温度を検知するためにあり、前記処理
    手段は制御装置に接続されて、それにより、ストリップ
    が加熱炉から取り出される前にストリップがそのアニー
    リング温度に加熱されることを確実にするために、 検知された温度状態に応答して操作されることを特徴と
    する処理手段、 f)前記連続するストリップからアニールされたストリ
    ップを切断するための出口ステーション、 とから成る装置。 4、前記制御装置が、前記前処理、処理及びポスト処理
    ステーションセンサーからの検知された状態を受け入れ
    、該検知された状態を理想アニーリングモデルの状態と
    比較し、状態をアニーリングモデルに一致させるのに必
    要なステーションの調節を計算するためのプロセッサ手
    段を有し、検知したストリップ状態を理想アニーリング
    モデル状態と一致するように前記ステーション調節を行
    う、請求項3記載の装置。 5、前記エントリー・ステーション連結器が前記第一及
    び第二ストリップの自由端部を切り取るための切断機構
    及びアニールされるべき連続ストリップを作るために前
    記自由端部を熔接するための熔接器から成る請求項3記
    載の装置。 6、前記前処理ステーション加熱チェンバがそ/れ自身
    を加熱するために前記加熱炉から排気ガスを受け入れる
    ガス入り口と、前記加熱チェンバからの前記排気ガスを
    レキュペレータに放出するためのガス出口を有し、前記
    レキュペレータが加熱炉に入る前の燃焼ガスの加熱を助
    けるところの請求項3記載の装置。 7、前記鉛直加熱炉が、その上端部にストリップ入り口
    とストリップ出口を有し、また、加熱炉から相互に連結
    された加熱チェンバへ排気ガスを放出する排気ガス出口
    を有し、前記ストリップを加熱する前記バーナーが、セ
    ンサー情報に応答して前記制御装置によって始動される
    ところの請求項3記載の装置。 8、前記制御装置がストリップを動かす前記補給ローラ
    の回転の割合を決定し、制御装置に通じるセンサーによ
    って定められた割合で、加熱炉入り口にストリップを急
    速補給するためにオーバースピード状態を提供するとこ
    ろの請求項3記載の装置。 9、前記ストリップ長センサーがフォトセルから成り、
    前記ストリップ温度センサーが高温計から成り、そして
    、前記ストリップ速度センサーがタコメータから成ると
    ころの請求項3記載の装置。 10、更に、移送の間コイルの上昇した温度を維持する
    ために、新しい金属ストリップのコイルをエントリース
    テーションに移送するためのプリエントリー・ステーシ
    ョンから成るところの請求項3記載の装置。 11、金属ストリップの連続アニーリングのための装置
    であつて、 a)前記装置を通るストリップの動きと状態を調節する
    ための制御装置、 b)アニールされるべき金属ストリップを受け入れるエ
    ントリーステーションであって、アニールれるべき連続
    する金属ストリップを作るために、ストリップの自由端
    部と次に続く金属ストリップの自由端部を接続するため
    の連結器及び、ストリップ状態を検知し、該検知された
    状態を制御装置に送るためのセンサーを有するエントリ
    ーステーション、 c)前記制御装置によって定められた割合でストリップ
    を供給するためのインプット補給機構を有する処理ステ
    ーション、 d)前記ストリップを受け入れ、加熱炉内のストリップ
    のカテナリー・ループを加熱処理するための鉛直アニー
    リング加熱炉であって、アニーリングに必要な状態を達
    成するために前記制御装置によって始動される加熱要素
    を有する鉛直アニーリング加熱炉、 e)ストリップ温度を含むストリップ状態を検知し、そ
    の検知した状態を制御装置に送るためのセンサー、及び
    前記検知した状態に従って、制御装置によって定められ
    た割合で前記加熱炉からストリップを取り出し、連続す
    る金属ストリップを作るために前記連結器の操作と同時
    にそのような取り出しを連続的におこなうためのアウト
    プット補給機構であって、前記制御装置がインプット及
    びアウトプット補給機構の効果的な制御をし、それによ
    って加熱炉内のそのようなループの大きさ、ストリップ
    が進む速度及び加熱要素を変えるための制御手段を有し
    、それによって所望のアニールを達成するのに適した加
    熱炉内の温度と時間との関係を作り出すところのアウト
    プット補給機構、 f)前記連続する金属ストリップからアニールされたス
    トリップを切断するための出口ステーション、 とから成る装置。 12、鉛直アニーリング加熱炉内で連続してアニーリン
    グするための方法であって、 a)制御装置を用いて、前記加熱炉を通るリード金属ス
    トリップの動きと状態を調節するステップ、 b)アニールされるべき次に続く金属ストリップをエン
    トリー・ステーションで受け入れるステップ、 c)前記リードストリップの後端部を次に続く金属スト
    リップの先端部と接続してアニールされるべき連続する
    金属ストリップを作るステップ、 d)センサーを用いて前記エントリー・ステーションで
    ステップ状態を検知し、その検知したストリップ状態を
    制御装置に送るステップ、 e)インプット補給機構により、前記制御装置によって
    定められた割合のストリップを鉛直アニーリング加熱炉
    であって、前記ストリップを受け入れ、アニーリングに
    必要な状態を達成するために前記制御装置によつて始動
    される加熱要素を有する加熱炉に供給するステップ、 f)センサーを用いて前記加熱炉内のストリップ温度を
    含むストリップ状態を検知し、前記検知されたストリッ
    プ状態を制御装置に送るステップ。 g)可変カテナリー・ループの形で前記加熱炉内に前記
    ストリップを集めるステップ、 h)加熱炉内で検知された前記状態に従って制御装置に
    より定められた割合で動作するアウトプット補給機構に
    より前記加熱炉からのストリップの取り出しが続く間、
    前記カテナリー・ループを使用し、一方で同時に前記連
    続する金属ストリップを作る前記連結器を連続的に操作
    するステップ、 i)出口ステーションで前記連続する金属ストリップか
    ら、アニールされたストリップを切断するステップ、 とから成る方法。 13、金属ストリップを連続的にアニーリングする方法
    であって、 a)鉛直アニーリング加熱炉内に移動するストリップの
    カテナリー・ループを作るステップ、 b)エントリー・ステーションにストリップ金属のコイ
    ルを連続的に供給するステップ、c)引き渡されたコイ
    ルの先端部を先のコイルの後端部と連続的に継ぎ、同時
    にカテナリー・ループを短くするステップ、 d)出口ステーションでアニールされたストリップをコ
    イリングするステップ、 e)アニールされたストリップのコイルが形成されたと
    き、出口ステーションでストリップを切断し、アニール
    されたストリップの連続するコイルの形成を開始し、一
    方で同時にカテナリー・ループを長くするステップ、 f)ストリップの温度状態を検知することにより、スト
    リップのアニーリングを制御し、検知した温度状態の個
    々の信号を制御装置に供給し、ループの大きさと加熱炉
    内のループが同時にアキュムレータ・ループ及びアニー
    ルされるストリップの部分であるような加熱炉を通るス
    トリップの割合を制御するためにこのような信号に応答
    して、制御装置を操作するステップ、 とから成る方法。 14、更に、加熱炉内の加熱器の操作を制御するために
    、このような信号に応答して制御装置を操作するステッ
    プを含む請求項13記載の方法。 15、ストリップアニーリング装置であって、 a)チェンバと入り口及び出口補給ローラを有する鉛直
    アニーリング加熱炉であって、 該チェンバが金属のストリップを可変長のカテナリー・
    ループの形で収容するのに適するようになされているこ
    とを特徴とする加熱炉、 b)各々ストリップ金属を供給し、ストリップ端部を熔
    接する、コイル支持体と熔接器を有するエントリー・ス
    テーション、 c)コイル支持体からエントリーローラへストリップの
    直接補給路を作る手段を有するエントリー・ステーショ
    ン、 d)各々アニールされたストリップを巻き付け、コイル
    端部をデリニエイトするために このようなストリップを切断する、コイラーと切断器を
    有する出口ステーション、 e)ストリップ温度を検知するためのセンサーを有する
    装置、 f)センサーからの信号を受けるためにセンサーに接続
    された制御装置であつて、入り口及び出口ローラの相対
    速度を制御するための加熱炉補給制御手段を有し、それ
    によって、ループが同時にアキュムレータ・ループ及び
    加熱炉内でアニールされるべきストリップ部分であるよ
    うなカテナリー・ループの大きさを制御する制御装置、 とから成る装置。 16、補給制御手段が加熱炉中へのストリップの投入を
    止め、一方でストリップの取り出しを続け、それにより
    熔接器がストリップ端部を接続するようになされるカテ
    ナリー・ループの大きさを減少させるのに迩した請求項
    15記載の装置。 17、補給制御手段が加熱炉からのストリップの取り出
    しを止め、一方でストリップの投入を続け、それにより
    出口ステーション切断器が操作されるようなカテナリー
    ・ループの大きさを増加させるのに適した請求項15記
    載の装置。
JP1171764A 1988-07-05 1989-07-03 連続アニーリングのための方法及び装置 Pending JPH0261008A (ja)

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