JPH0260974A - 卑金属薄膜形成用インキ - Google Patents
卑金属薄膜形成用インキInfo
- Publication number
- JPH0260974A JPH0260974A JP63213902A JP21390288A JPH0260974A JP H0260974 A JPH0260974 A JP H0260974A JP 63213902 A JP63213902 A JP 63213902A JP 21390288 A JP21390288 A JP 21390288A JP H0260974 A JPH0260974 A JP H0260974A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base metal
- ink
- thin film
- abietic acid
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010953 base metal Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 20
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutan-2-one Chemical compound CC(=O)CC(F)(F)F BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N Abietic acid Natural products CC(C)C1=CC2=CC[C@]3(C)[C@](C)(CCC[C@@]3(C)C(=O)O)[C@H]2CC1 BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N 0.000 claims abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 abstract description 8
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- -1 nickel octylate) Chemical compound 0.000 abstract description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 abstract description 2
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 abstract description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract 2
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 abstract 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は各種エレクトロニクスデバイスにおいて広く使
用される卑金属薄膜の形成用インキに関するものである
。
用される卑金属薄膜の形成用インキに関するものである
。
従来の技術
従来よ多金属薄膜は、抵抗器や電極、センサ等の各種エ
レクトロニクス分野に広く使用されてきた。これら金属
薄膜は一般にスパッタ、蒸着等の真空技術によシ製造さ
れている。一部、メツキによる製造も検討されているが
、1μ以下の薄膜については広い範囲にわたって均一な
膜厚を得るのは困難であった。また、貴金属については
、樹脂酸塩の塗布・熱分解等により、容易に薄膜が得ら
れるものもある。
レクトロニクス分野に広く使用されてきた。これら金属
薄膜は一般にスパッタ、蒸着等の真空技術によシ製造さ
れている。一部、メツキによる製造も検討されているが
、1μ以下の薄膜については広い範囲にわたって均一な
膜厚を得るのは困難であった。また、貴金属については
、樹脂酸塩の塗布・熱分解等により、容易に薄膜が得ら
れるものもある。
従来のこれら真空技術を応用した卑金属薄膜の製造は高
額の製造装置を必要とし、かつ、バッチ生産であるため
に生産性に劣υ、また真空装置を必要とするため、大面
積の製造が困難である。また、パターン状の薄膜を必要
とする場合はレジストを形成してのちエツチングして形
成するため、廃液などの公害処理装置を要するなどの問
題点があυ、この問題点を解決するため、本発明者らは
卑金属薄膜の形成法として、卑金属を含有する化合物を
基板上に塗布し、酸化雰囲気中で熱分解して金属酸化物
層として後、還元雰囲気中で熱処理する形成法を発明(
特願昭62−122948号公報)したが、上記発明に
おいて塗布液としては、卑金属の有機酸塩、有機錯体等
を溶媒に溶解したものを使用したが、これらの塗布液は
粘度が低いためパターン状の印刷が困難であり、パター
ン印tle11するためには塗布液にバインダとなる樹
脂を添加して粘度を高める必要があった。
額の製造装置を必要とし、かつ、バッチ生産であるため
に生産性に劣υ、また真空装置を必要とするため、大面
積の製造が困難である。また、パターン状の薄膜を必要
とする場合はレジストを形成してのちエツチングして形
成するため、廃液などの公害処理装置を要するなどの問
題点があυ、この問題点を解決するため、本発明者らは
卑金属薄膜の形成法として、卑金属を含有する化合物を
基板上に塗布し、酸化雰囲気中で熱分解して金属酸化物
層として後、還元雰囲気中で熱処理する形成法を発明(
特願昭62−122948号公報)したが、上記発明に
おいて塗布液としては、卑金属の有機酸塩、有機錯体等
を溶媒に溶解したものを使用したが、これらの塗布液は
粘度が低いためパターン状の印刷が困難であり、パター
ン印tle11するためには塗布液にバインダとなる樹
脂を添加して粘度を高める必要があった。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、増粘用のバインダ樹脂としてセラミック
スなどで一般に用いられているセルローズ系その他樹脂
を用いた場合、印刷むらや加熱焼成時に粉体化、はがれ
、ひび割れ等が生じる場合が多く、良好な卑金属薄膜が
得られにくいものであった。そこで増粘剤としてロジン
を用いることにより、スクリーン印刷法を用いて均質な
卑金属薄膜が得られることを発見したが、ロジンは天然
であるためその構成成分比等が産地や季節によって左右
され、常に安定した特性のインキを作ることは難しいと
いう問題があった。
スなどで一般に用いられているセルローズ系その他樹脂
を用いた場合、印刷むらや加熱焼成時に粉体化、はがれ
、ひび割れ等が生じる場合が多く、良好な卑金属薄膜が
得られにくいものであった。そこで増粘剤としてロジン
を用いることにより、スクリーン印刷法を用いて均質な
卑金属薄膜が得られることを発見したが、ロジンは天然
であるためその構成成分比等が産地や季節によって左右
され、常に安定した特性のインキを作ることは難しいと
いう問題があった。
本発明の課題は、上記の問題を解決し、均質性に優れた
卑金属薄膜が形成でき、かつ、o 7 )によるばらつ
きの小さい卑金属薄膜形成用インキを提供することにあ
る。
卑金属薄膜が形成でき、かつ、o 7 )によるばらつ
きの小さい卑金属薄膜形成用インキを提供することにあ
る。
課題を解決するだめの手段
上記課題を解決するために本発明は、卑金属を含有する
化合物塗布インキの増粘剤としてアビエチン酸を主たる
構成要素として用いること全特徴とするものである。
化合物塗布インキの増粘剤としてアビエチン酸を主たる
構成要素として用いること全特徴とするものである。
作用
上記、本発明の卑金属薄膜形成用インキを採用すること
により、インキのロフトによるばらつきが小さく、かつ
、均質で導電性の良いパターン状の卑金属薄膜を印刷で
得ることができる。
により、インキのロフトによるばらつきが小さく、かつ
、均質で導電性の良いパターン状の卑金属薄膜を印刷で
得ることができる。
実施例
まず本発明の概要について説明すると、本発明に使用す
る卑金属を含む化合物としては、各種アルコキシド、各
種カルボン酸塩、各種有機化合物錯体、メタロセン等の
各種有機金属化合物や硝酸塩、硫酸塩等の各種無機化合
物がある。増粘剤としては、アビエチン酸または目的に
応じてアビエチン酸を種々変性したものを用いることが
できる。
る卑金属を含む化合物としては、各種アルコキシド、各
種カルボン酸塩、各種有機化合物錯体、メタロセン等の
各種有機金属化合物や硝酸塩、硫酸塩等の各種無機化合
物がある。増粘剤としては、アビエチン酸または目的に
応じてアビエチン酸を種々変性したものを用いることが
できる。
溶媒としては、スクリーン印刷などの印刷方法を採用す
る場合はイソホロン、テルピネオール、テトラリン、ブ
チルカルピトール等蒸発速度の遅い溶媒が好ましいが、
必ずしもこれらに限られることはなく、本発明にかかる
組成を溶解するものであれば単独で、または混合して任
意に使用することができる。上記主たる構成要素以外に
も印刷性その他の改良の目的で消泡剤など各種添加物を
添加することができる。
る場合はイソホロン、テルピネオール、テトラリン、ブ
チルカルピトール等蒸発速度の遅い溶媒が好ましいが、
必ずしもこれらに限られることはなく、本発明にかかる
組成を溶解するものであれば単独で、または混合して任
意に使用することができる。上記主たる構成要素以外に
も印刷性その他の改良の目的で消泡剤など各種添加物を
添加することができる。
以下、具体的な実施例について説明する。
本発明のインキおよび比較のためのインキを第1表のよ
うな組成で各種印刷インキとして調製した。これらを市
販のソーダ石灰ガラス基板上にスクリーン印刷し、乾燥
後、大気中電気炉で640°C130分焼成した。次い
で、このガラスを管状炉に入れ、30%の水素を含む窒
素気流中600°Cで1時間の熱処理を行った6比較の
ため、各種ロジンを増粘剤として使用した系についても
同様の処理を行った。
うな組成で各種印刷インキとして調製した。これらを市
販のソーダ石灰ガラス基板上にスクリーン印刷し、乾燥
後、大気中電気炉で640°C130分焼成した。次い
で、このガラスを管状炉に入れ、30%の水素を含む窒
素気流中600°Cで1時間の熱処理を行った6比較の
ため、各種ロジンを増粘剤として使用した系についても
同様の処理を行った。
第1表のどとくロジンを増粘剤として用いた場合、その
産地や季節によって印刷性や得られた卑金属薄膜の特性
が変わるが、アビエチン酸を増粘剤として用いれば安定
した印刷性及び均質な卑金属薄膜が得られた。
産地や季節によって印刷性や得られた卑金属薄膜の特性
が変わるが、アビエチン酸を増粘剤として用いれば安定
した印刷性及び均質な卑金属薄膜が得られた。
アビエチン酸・・・・・・試薬(関東化学制)ロジン・
・・・・・試薬(関東化学制)発明の効果 以上実施例及び比較例から判るように、卑金属を含有す
る化合物塗布液の増粘剤としてアビエチン酸を用いるこ
とにより、インキのロフトによるばらつきが小さく、パ
ターニングされた均質な卑金属薄膜を量産性よく得るこ
とができ、工業上の効果は太きいものである。
・・・・・試薬(関東化学制)発明の効果 以上実施例及び比較例から判るように、卑金属を含有す
る化合物塗布液の増粘剤としてアビエチン酸を用いるこ
とにより、インキのロフトによるばらつきが小さく、パ
ターニングされた均質な卑金属薄膜を量産性よく得るこ
とができ、工業上の効果は太きいものである。
Claims (1)
- 卑金属を含有する化合物,アビエチン酸及びこれらを
溶解させる溶媒とを主たる構成要素として含有すること
を特徴とする卑金属薄膜形成用インキ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63213902A JPH0260974A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 卑金属薄膜形成用インキ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63213902A JPH0260974A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 卑金属薄膜形成用インキ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0260974A true JPH0260974A (ja) | 1990-03-01 |
Family
ID=16646915
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63213902A Pending JPH0260974A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 卑金属薄膜形成用インキ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0260974A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5338350A (en) * | 1992-07-06 | 1994-08-16 | Central Glass Company, Limited | Ink composition for forming thin film |
US5628820A (en) * | 1993-12-20 | 1997-05-13 | Central Glass Company, Ltd. | Ink composition for forming thin film |
US5698131A (en) * | 1995-05-15 | 1997-12-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Paste for manufacturing ferrite and ferrite |
-
1988
- 1988-08-29 JP JP63213902A patent/JPH0260974A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5338350A (en) * | 1992-07-06 | 1994-08-16 | Central Glass Company, Limited | Ink composition for forming thin film |
US5628820A (en) * | 1993-12-20 | 1997-05-13 | Central Glass Company, Ltd. | Ink composition for forming thin film |
US5698131A (en) * | 1995-05-15 | 1997-12-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Paste for manufacturing ferrite and ferrite |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20050033513A (ko) | 저점도 전구체 조성물 및 전도성 전자 형상의 증착 방법 | |
DE10325243A1 (de) | Abscheidung von Kupferschichten auf Substraten | |
JPH0260974A (ja) | 卑金属薄膜形成用インキ | |
EP0316452A1 (en) | Process for preparing thin film of base metal and application of the same | |
JPH0260975A (ja) | 卑金属薄膜形成用インキ | |
JP2702713B2 (ja) | 卑金属薄膜の製造方法 | |
JP7130631B2 (ja) | 導体の製造方法、配線基板の製造方法及び導体形成用組成物の製造方法 | |
KR20050004140A (ko) | 구리 화합물 및 이를 이용한 구리 박막의 제조 방법 | |
JP5170989B2 (ja) | 導電性銅被膜の製造方法 | |
JPH0554716A (ja) | 導電性薄膜形成用銀ペースト | |
JPH0593915A (ja) | パターン形成方法 | |
JPH02115374A (ja) | 無電解メッキ方法 | |
US4980197A (en) | Method of producing metallic structures on inorganic non-conductors | |
JPH01272192A (ja) | セラミックス基板 | |
JPH01159381A (ja) | 卑金属薄膜の製造方法 | |
JP3075287B2 (ja) | 電子部品用パラジウム薄膜形成方法 | |
JP2009013262A (ja) | 組成物及び銅膜の製造方法 | |
JPS5831075A (ja) | 局部無電解メツキ方法 | |
JPH0262006A (ja) | 金属薄膜抵抗体の製造方法 | |
JPS603724B2 (ja) | 透明導電性パタ−ンの形成方法 | |
JPS62146276A (ja) | 硫化物薄膜の形成方法 | |
JPH05266708A (ja) | 銀導体回路用印刷インキおよび銀導体回路の形成方法 | |
JPH0264002A (ja) | 超電導薄膜形成用インキ | |
JP2008016360A5 (ja) | ||
US20110236646A1 (en) | Ink composition, metal thin film prepared using the same and method of preparing the same |