JPH025783B2

JPH025783B2 -

Info

Publication number: JPH025783B2
Application number: JP12362984A
Authority: JP
Inventors: Kimihide Kawamura; Shojiro Horiguchi; Hisao Okamoto
Original assignee: Dainichiseika Color and Chemicals Mfg Co Ltd
Current assignee: Dainichiseika Color and Chemicals Mfg Co Ltd
Priority date: 1984-06-18
Filing date: 1984-06-18
Publication date: 1990-02-05
Also published as: JPS614769A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は新規なアゾ顔料に関し、鮮明性、耐光
性、耐溶剤性、耐熱性等にすぐれたアゾ顔料の提
供を目的とする。従来多数のアゾ顔料が公知であり、広範囲の用
途を有している。しかしながら、未だ十分なる性
能を有するアゾ顔料が得られていないのが実情で
ある。本発明は特定構造のアゾ顔料について種々の諸
堅牢性、特に耐候性および耐溶剤性を向上せしめ
るべくアゾ顔料の結晶性について種々研究の結
果、後記構造式（）で表わされる特定の結晶形
のアゾ顔料が種々の性能にすぐれていることを知
見して本発明を完成した。すなわち、本発明は下記の構造式（）で表わ
され、且つＸ線回折において、回折角度（2θ）約
8.6゜、約11.6゜、約12.9゜、約14.3゜、約18.1゜およ
び約
26.5゜に特徴的ピークを示す結晶性を有する顔料
である。本発明を詳細に説明すると、本発明のアゾ顔料
は、下記の如き方法により得られる無定形アゾ顔
料を熱処理することにより得ることができる。 (イ) ２―ヒドロ―３―ナフトエ酸に、３―、また
は４―アミノフタルイミドのジアゾニウム化合
物をカツプリングさせて得られる下記構造式
（）で表わされる化合物と、下記構造式（）
で表わされる化合物を反応させる方法。上記構造式（）で表わされる化合物それ自
体は公知であり、例えば特公昭56−2102号公報
に記載のものがいずれも使用することができ
る。上記構造式（）で表わされる化合物と、上
記構造式（）で表わされる化合物との反応
は、両化合物をベンゼン、クロルベンゼン、ア
ルキルベンゼン、ニトロベンゼン、α―クロル
ナフタレンその他の不活性溶剤中で、例えば好
ましくは塩化チオニル、五塩化リン、オキシ塩
化リン等の如きハロゲン化剤を使用することに
より、常法に従つて容易に実施でき、前記構造
式（）で表わされる無定形のアゾ顔料が得ら
れる。 (ロ) 下記の構造式（）で表わされる化合物と、
下記構造式（）で表わされる化合物との反
応。上記式（）中のＹはNH、（OCH₃）₂または
Cl₂である。上記構造式（）で表わされる化合物は、前
記構造式（）で表わされる化合物と、ニトロ
アニリンとを反応させ、次いで存在するニトロ
基をアミノ基に還元することによつて得られ
る。上記構造式（）の化合物は、３―イミノ―
１―オキソイソインドリン、３，３―ジメトキ
シ―１―オキソイソインドリンまたは、３，３
―ジクロル―１―オキソイソインドリンの核ハ
ロゲン化物である。構造式（）で表わされる
化合物と構造式（）で表わされる化合物との
反応は、常法に従つて行なうことができ、無定
形のアゾ顔料が得られる。 (ハ) 下記構造式（）で表わされる化合物をカツ
プリング成分とし、３―または４―アミノフタ
ルイミドをジアゾ成分として、両者を反応させ
る方法。上記構造式（）で表わされる化合物は、前
記構造式（）の化合物と２―ヒドロキシ―３
―ナフトエ酸とを上記（）の方法と同様に反
応させて得られる。この構造式（）の化合物
に、３―または４―アミノフタルイミドのジア
ゾニウム塩をカツプリングさせる方法は公知の
方法に準じて行なうことができ、無定形のアゾ
顔料が得られる。上記の如くして製造された無
定形のアゾ顔料は、添付図面の第１図および第
３図Ａに示す通り、殆ど結晶性を示さないもの
で、色相は不鮮明であり、耐溶剤性、耐光性お
よび耐熱性が十分ではない。本発明のアゾ顔料は、上記の無定形アゾ顔料
を、好ましくはニトロベンゼン、トリクロルベン
ゼン、オルソジクロルベンゼン、α―クロルナフ
タレン等その他の高沸点有機溶剤中で、約120〜
250℃の温度で約１〜10時間加熱処理する方法や、
結晶種を用いる方法等によつて得られる。このよ
うにして得られた本発明のアゾ顔料は、添付図面
の第２図および第３図Ｂに示す通り、明瞭な結晶
形を示し、特にＸ線回折において、回折角度
（2θ）約8.6゜、約11.6゜、約12.9゜、約14.3゜、約18
.1゜
および約26.5゜に特徴的ピークを示すことによつ
て特徴づけられる。なお、Ｘ線回折の条件は次の通りである。 Target Cu Scan Speed ２（2θ／min） Filter Ni Chart Speed ２（2θ／min） Voltage 30KV Angle range ５〜40（2θ） Current 15mA Viv Slit 1n Full Scale 2000cps Scat slit 1n Time const 2sec Rec Slict 0.4min 測定装置は、日本電子(株)製DXタイプＸ線回折
装置である。以上の如き本発明のアゾ顔料は、耐溶剤性に極
めて優れ、その他耐光性、耐熱性、耐水性、耐酸
性、耐アルカリ性なども良好であり、更に、極め
て高い着色力を有し、アゾ顔料として充分使用さ
れ得る。即ち、耐溶剤性試験として本発明のアゾ
顔料0.5ｇを試験管にとり、これに例えばメチル
イソブチルケトン、メチルアルコール、トルエ
ン、アセトン、セロソルブアセテート、ミネラル
スピリツト、ブチルアルコール、酢酸エチル、ト
リクレンなどの溶剤10c.c.を加え、しばらく振り動
かした後放置した結果、その上澄液はほとんど着
色されていなかつた。また、耐熱性試験として本発明方法で得られる
アゾ顔料を展色剤で練つて、ペースト状とし、こ
れを錫板に塗布し、該錫板を電気炉を使用して
200℃で１時間処理した結果、その色の変化はほ
とんど見られなかつた。さらにまた耐光性、耐酸性、耐アルカリ性、耐
水性などの試験においてもアゾ顔料として充分満
足すべき結果を示した。次に参考例および実施例をあげて本発明を具体
的に説明する。文中、部は重量基準による。参考例１ 1.62部の４―アミノフタルイミドを稀塩酸中で
常法によりジアゾ化し、ジアゾニウム塩溶液を得
る。一方、5.5部の前記構造式（）で表わされ
る化合物を、100部のメタノール、2.0部の苛性ソ
ーダおよび１部のトリエタノールアミンからなる
混合物中に溶解する。上記のジアゾニウム塩溶液
と上記の下漬溶液とを約30分間で混合してカツプ
リング反応を行なう。その後１時間常温で撹拌
し、濾過、水洗、乾燥して、前記構造式（）で
表わされるアゾ顔料を得た。該顔料の電子顕鏡写
真は第１図の通りであり、前記条件下におけるＸ
線回折図は第３図Ａの通りであつた。該顔料の耐
光性等の性能は後記第１表の通りであつた。実施例１参考例１で得られた顔料の水性ペーストを、α
―クロルナフタレン中に加え、110℃で加熱撹拌
し、水分を留去する。次いで更に加熱して３時間
還流し、その後100℃まで冷却して濾過し、温ニ
トロベンゼンで、次いでメタノールで洗浄し、乾
燥して本発明の赤色のアゾ顔料を得た。該顔料の
電子顕微鏡写真は第２図の通りであり、前記条件
下でのＸ線回折図は第３図Ｂの通りであり、回折
角度（2θ）約8.6゜、約11.6゜、約12.9゜、約14.3゜、
約
18.1゜および約26.5゜に特徴的なピークを有してい
た。該顔料の性能は後記第１表に示す。実施例２参考例１で得られた帯赤褐色のアゾ顔料10部
を、20〜25℃で、95％硫酸200部中に徐々に溶解
させる。得られた溶液を、氷水1000部中に徐々に
かくはんしながら注入し、析出した沈澱をろ過、
水洗して褐赤色の水性ケーキを得る。該ケーキを
トリクロルベンゼン200部中に加え、更に実施例
１で得たアゾ顔料0.1部を結晶種として加え、110
℃前後でかくはんして、水分を留去した。引つづ
き加熱を続け、約３時間かくはん還流する。冷
却、ろ過、、トリクロルベンゼン洗浄、メタノー
ル洗浄し、本発明の赤色のアゾ顔料を得た。該顔
料の電子顕微鏡写真、エツクス線回折図およびそ
の他の性状は、実施例１の顔料と同一であつた。性能評価例参考例１および実施例１の顔料の性能を評価し
た結果、下記第１表の結果を得た。

【表】 ×；劣る、○；優秀

【図面の簡単な説明】

第１図は参考例１で得られたアゾ顔料の結晶構
造の電子顕微鏡写真（３万倍）であり、第２図は
実施例１で得られたアゾ顔料の結晶構造の電子顕
微鏡写真（３万倍）であり、第３図は参考例１(A)
および実施例１(B)で得られたアゾ顔料の結晶のＸ
線回折図である。

Claims

【特許請求の範囲】１下記の構造式（）で表わされ、且つＸ線回
折において、回折角度（2θ）約8.6゜、約11.6゜、約
12.9゜、約14.3゜、約18.1゜および約26.5゜に特徴的ピ
ークを示す結晶性を有するアゾ顔料。