JPH0254427B2 - - Google Patents
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- JPH0254427B2 JPH0254427B2 JP58062291A JP6229183A JPH0254427B2 JP H0254427 B2 JPH0254427 B2 JP H0254427B2 JP 58062291 A JP58062291 A JP 58062291A JP 6229183 A JP6229183 A JP 6229183A JP H0254427 B2 JPH0254427 B2 JP H0254427B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、真空蒸着装置の蒸着鍋内の溶融メツ
キ材液面に浮遊する酸化物等の異物を該液面から
除去する手段を備えた真空蒸着装置に関する。
キ材液面に浮遊する酸化物等の異物を該液面から
除去する手段を備えた真空蒸着装置に関する。
鋼帯の片面にAlやZn等をメツキする一方法と
して、真空蒸着方法が採用されており、第１図は
その方法を施行するための通常の真空蒸着装置の
概要を示す説明図である。
して、真空蒸着方法が採用されており、第１図は
その方法を施行するための通常の真空蒸着装置の
概要を示す説明図である。
第１図において、１は真空槽、２はスノーケル
管、３は大気中に開放されているメツキ金属の溶
解炉、４は前記スノーケル管２の１端を底部に連
結させた蒸着鍋、５は電熱器、６は水冷板、７は
溶融メツキ材、８は上記真空槽１を気密裡に貫通
走行し、蒸着鍋４内の溶融メツキ材７の蒸気によ
る蒸着メツキを施行される被メツキ材の鋼帯であ
る。
管、３は大気中に開放されているメツキ金属の溶
解炉、４は前記スノーケル管２の１端を底部に連
結させた蒸着鍋、５は電熱器、６は水冷板、７は
溶融メツキ材、８は上記真空槽１を気密裡に貫通
走行し、蒸着鍋４内の溶融メツキ材７の蒸気によ
る蒸着メツキを施行される被メツキ材の鋼帯であ
る。
この装置による蒸着メツキ操作手順は、次の通
りである。
りである。
先ず、大気中の溶解炉３にてメツキ材７を溶解
した後、スノーケル管２を該溶解炉３の上記溶融
メツキ材７浴中に浸漬させる。次いで、真空槽１
を真空引して溶融メツキ材７を溶解炉３から蒸着
鍋４に昇液し、然る後、電熱器５により溶融メツ
キ材７を加熱して蒸発を開始させ、対向する鋼帯
８の面に蒸着させる。鋼帯８を走行することによ
り連続的にメツキ材を蒸着し、メツキ被覆を形成
することになる。なお、メツキ材７の昇液高さｈ
は、溶融メツキ材７の比重量と、真空槽１内の気
圧と大気圧との差圧に見合つた高さでバランス
し、常時一定に制御できる。
した後、スノーケル管２を該溶解炉３の上記溶融
メツキ材７浴中に浸漬させる。次いで、真空槽１
を真空引して溶融メツキ材７を溶解炉３から蒸着
鍋４に昇液し、然る後、電熱器５により溶融メツ
キ材７を加熱して蒸発を開始させ、対向する鋼帯
８の面に蒸着させる。鋼帯８を走行することによ
り連続的にメツキ材を蒸着し、メツキ被覆を形成
することになる。なお、メツキ材７の昇液高さｈ
は、溶融メツキ材７の比重量と、真空槽１内の気
圧と大気圧との差圧に見合つた高さでバランス
し、常時一定に制御できる。
従つて、蒸着鍋４内の溶融メツキ材７の液位の
調整は、溶解炉３内の溶融メツキ材７の液位を上
下することによつて、間接的に任意に調節するこ
とができる。
調整は、溶解炉３内の溶融メツキ材７の液位を上
下することによつて、間接的に任意に調節するこ
とができる。
溶解炉３内の溶融メツキ材７の液位の調節は溶
解炉３自体を昇降装置によつて上下するか、溶解
炉３内の溶融メツキ材７自体を増減量するか、あ
るいは溶解炉３内にダミーを挿入または抜き出し
て溶解炉３の内容積を変化させるか、又は見掛け
上のメツキ材の増減量を行うか、これらいずれか
の手段によつて達成できる。
解炉３自体を昇降装置によつて上下するか、溶解
炉３内の溶融メツキ材７自体を増減量するか、あ
るいは溶解炉３内にダミーを挿入または抜き出し
て溶解炉３の内容積を変化させるか、又は見掛け
上のメツキ材の増減量を行うか、これらいずれか
の手段によつて達成できる。
尚、蒸着鍋４内の溶融メツキ材７の液位を高め
て、該鍋４の側壁を超えて該メツキ材７を外部に
横溢させることも、前記手段を用いることによつ
て実施できることは原理的に自明である。
て、該鍋４の側壁を超えて該メツキ材７を外部に
横溢させることも、前記手段を用いることによつ
て実施できることは原理的に自明である。
さて、叙上のような従来の真空蒸着装置におい
て、操業時、蒸着鍋４内の溶融メツキ材７の液面
にメツキ材の粉状の酸化物（スカム）等の異物が
膜状に浮遊し、以下のような問題が生じている。
て、操業時、蒸着鍋４内の溶融メツキ材７の液面
にメツキ材の粉状の酸化物（スカム）等の異物が
膜状に浮遊し、以下のような問題が生じている。
(1) 上記異物の存在がスプラツシユの原因とな
り、飛散してメツキ金属蒸気とともに鋼帯に蒸
着され、製品の品質を劣化させる。
り、飛散してメツキ金属蒸気とともに鋼帯に蒸
着され、製品の品質を劣化させる。
(2) 蒸発面積（異物の浮遊していない所謂きれい
な表面）が必ずしも一定にならないために、蒸
発量の制御が困難である。
な表面）が必ずしも一定にならないために、蒸
発量の制御が困難である。
これらの問題の原因としては、以下のことが考
えられる。
えられる。
(i) 真空槽を大気開放する場合、蒸着鍋やスノー
ケル管に残存しているAlやZn等のメツキ金属
材が酸化され、これが装置の再スタート時に剥
離して浮遊する。
ケル管に残存しているAlやZn等のメツキ金属
材が酸化され、これが装置の再スタート時に剥
離して浮遊する。
(ii) 点検修理等で各種ゴミが残存する場合があ
る。
る。
(iii) 真空槽内は絶対真空でなく、槽内は10-2〜
10゜トール程度の真空度であるので、残存酸素
によつて溶融メツキ金属表面が酸化され、酸化
物が生成されて浮遊する。
10゜トール程度の真空度であるので、残存酸素
によつて溶融メツキ金属表面が酸化され、酸化
物が生成されて浮遊する。
以上の対策として、大気圧へ昇圧時に不活性ガ
スによる置換が考えられるが、真空槽内のメンテ
ナンスの必要から大気開放も避けられず、対策と
して充分な効果が得られない。
スによる置換が考えられるが、真空槽内のメンテ
ナンスの必要から大気開放も避けられず、対策と
して充分な効果が得られない。
本発明者らは、以上の諸点に鑑み、蒸発量の制
御（蒸発面積の把握）および蒸発面積の低下等の
対策につき、検討を重ねた結果、蒸着鍋内の溶融
メツキ材表面に浮遊する異物の除去が量も合目的
であるとの結論に達し、機械的手段に依らない
で、上記異物を除去する技術を開発し、別途提案
している。即ちその要旨とするところは、蒸発鍋
内の溶融メツキ材の液位を高めて、オーバーフロ
ーさせることにより、該液面に浮遊している異物
を横溢するメツキ材と共に蒸発鍋外に排除するこ
とを特徴とするものであり、極めて効果的に異物
の除去を達成することができる。
御（蒸発面積の把握）および蒸発面積の低下等の
対策につき、検討を重ねた結果、蒸着鍋内の溶融
メツキ材表面に浮遊する異物の除去が量も合目的
であるとの結論に達し、機械的手段に依らない
で、上記異物を除去する技術を開発し、別途提案
している。即ちその要旨とするところは、蒸発鍋
内の溶融メツキ材の液位を高めて、オーバーフロ
ーさせることにより、該液面に浮遊している異物
を横溢するメツキ材と共に蒸発鍋外に排除するこ
とを特徴とするものであり、極めて効果的に異物
の除去を達成することができる。
本発明は叙上の技術を更に発展させるもので、
真空雰囲気中において、蒸着鍋内の異物除去を容
易、且つ効果的に行うことができ、しかも収容槽
内に横溢させた溶融メツキ材をその都度収容槽か
ら再度蒸着鍋内に循還回収して、横溢させた溶融
メツキ材の有効利用を図るのみならず、収容槽に
収容した異物（酸化物）を同槽内において還元
し、蒸着メツキ材として有効活用し得る装置を提
供するものである。
真空雰囲気中において、蒸着鍋内の異物除去を容
易、且つ効果的に行うことができ、しかも収容槽
内に横溢させた溶融メツキ材をその都度収容槽か
ら再度蒸着鍋内に循還回収して、横溢させた溶融
メツキ材の有効利用を図るのみならず、収容槽に
収容した異物（酸化物）を同槽内において還元
し、蒸着メツキ材として有効活用し得る装置を提
供するものである。
すなわち、本発明の要旨とするところは、真空
槽内に設置したスノーケル管付蒸着鍋、前記真空
槽外下方に設置し、前記スノーケル管の下端を溶
融メツキ材中に浸漬させる溶解炉を備えた真空蒸
着装置において、前記蒸着鍋の外方に該蒸着鍋の
側壁を超えて横溢する溶融メツキ材を一時的に収
容する収容槽を設け、且つ該収容槽と前記蒸着鍋
とを細路を介して連通させたことを特徴とする真
空蒸着装置にある。
槽内に設置したスノーケル管付蒸着鍋、前記真空
槽外下方に設置し、前記スノーケル管の下端を溶
融メツキ材中に浸漬させる溶解炉を備えた真空蒸
着装置において、前記蒸着鍋の外方に該蒸着鍋の
側壁を超えて横溢する溶融メツキ材を一時的に収
容する収容槽を設け、且つ該収容槽と前記蒸着鍋
とを細路を介して連通させたことを特徴とする真
空蒸着装置にある。
以下、本発明を実施例に基づいて添付図面を参
照し詳細に説明する。
照し詳細に説明する。
本発明装置の主たる構成は蒸着鍋にあり、その
他の構成については従来公知装置の構成と同一あ
るいは類似であるので、本発明の特徴とする蒸着
鍋の構成、作用および効果について説明し、その
他の構成については、その説明は省略する。但
し、本発明の説明上必要ある場合は、第１図に示
す公知装置の構成をもつて準用し説明することと
する。
他の構成については従来公知装置の構成と同一あ
るいは類似であるので、本発明の特徴とする蒸着
鍋の構成、作用および効果について説明し、その
他の構成については、その説明は省略する。但
し、本発明の説明上必要ある場合は、第１図に示
す公知装置の構成をもつて準用し説明することと
する。
本発明装置の蒸着鍋の構成の一実施態様例を第
２図に示す。同図において、１は真空槽、２はス
ノーケル管、４は蒸着鍋、７は溶融メツキ材、９
は蒸着鍋４の側壁、１０は収容槽、１１はグラフ
アイト等の還元性材料製の異物分離手段（ここで
はすの子）、１２は前記収容槽１０のグラフアイ
ト等の還元性材料製の内張り材、１３は該収容槽
１０の上方に設置したヒータ、１４は蒸着鍋４の
側壁９の下端と該鍋４の底部との間に設けた細路
で、蒸着鍋４と収容槽１０とがこの細路により連
通されており、溶融メツキ材７の制約的流通を許
容している。１５は溶融メツキ材７の液面に浮遊
している異物で、主として溶融メツキ材７の酸化
物であり、その個々は粉状であるが、集合して膜
状を呈し液面に拡がつている。尚、１５′は収容
槽１０内に収容され、すの子１１上に堆積した異
物である。L1およびL2は溶融メツキ材７の液位
であつて、図示しない溶解炉３から供給される溶
融メツキ材７の注入、排出によつて調節される
が、その操作方法は前述した公知装置の場合と同
様である。L1はオーバーフロー時の液位を示し、
L2は蒸着操業時の液位を示す。
２図に示す。同図において、１は真空槽、２はス
ノーケル管、４は蒸着鍋、７は溶融メツキ材、９
は蒸着鍋４の側壁、１０は収容槽、１１はグラフ
アイト等の還元性材料製の異物分離手段（ここで
はすの子）、１２は前記収容槽１０のグラフアイ
ト等の還元性材料製の内張り材、１３は該収容槽
１０の上方に設置したヒータ、１４は蒸着鍋４の
側壁９の下端と該鍋４の底部との間に設けた細路
で、蒸着鍋４と収容槽１０とがこの細路により連
通されており、溶融メツキ材７の制約的流通を許
容している。１５は溶融メツキ材７の液面に浮遊
している異物で、主として溶融メツキ材７の酸化
物であり、その個々は粉状であるが、集合して膜
状を呈し液面に拡がつている。尚、１５′は収容
槽１０内に収容され、すの子１１上に堆積した異
物である。L1およびL2は溶融メツキ材７の液位
であつて、図示しない溶解炉３から供給される溶
融メツキ材７の注入、排出によつて調節される
が、その操作方法は前述した公知装置の場合と同
様である。L1はオーバーフロー時の液位を示し、
L2は蒸着操業時の液位を示す。
さて、このような装置において、蒸着鍋４の液
面に浮遊している溶融メツキ材７の異物１５を除
去する操作手順につき述べると、先ず、メツキ材
７の液面を上昇させて、L1に到達させ、さらに
メツキ材７を、蒸着鍋４内に継続して供給する
と、該メツキ材７は側壁９の上端を超えて外方つ
まり、収容槽１０内にオーバーフローする。この
際、オーバーフローするメツキ材７は蒸着鍋４の
中央表面から外周方向に向う流れを生じて、浮遊
している異物１５を伴いながら収容槽１０内に横
溢流下して、すの子１１に至り、異物１５は該す
の子１１にて流下を阻止されてすの子１１上に堆
積し、同時に流下した溶融メツキ材７はすの子１
１の目を通過して更に流下し、収容槽１０の底部
に溜る。一方、蒸着鍋から細路１４を通過し収容
槽１０内に流入した溶融メツキ材７は上記オーバ
ーフローのメツキ材７と合流し遂次液位を高める
ので、該液位L3が収容槽１０の上端付近に達し
た時、蒸着鍋４内への溶融メツキ材７の供給を停
止する。然る後、該鍋４内のメツキ材７の液位を
L2まで降下させ、蒸着運転操作に移行する。か
かる状態において、収容槽１０内の溶融メツキ材
７は前記細路１４を経由して蒸着鍋４内に漏入
し、遂次その液位L3を下げて、やがて蒸着鍋４
内のメツキ材７の液位L2と同一液位に達して止
まる。かくして、異物１５′のみがすの子１１上
に残留し、ヒーター１３からの加熱を受け、且つ
該すの子１１および収容槽１０の内張り材１２を
構成する還元性材料との接触によつて還元され、
メツキ蒸気となつて蒸着に利用される。
面に浮遊している溶融メツキ材７の異物１５を除
去する操作手順につき述べると、先ず、メツキ材
７の液面を上昇させて、L1に到達させ、さらに
メツキ材７を、蒸着鍋４内に継続して供給する
と、該メツキ材７は側壁９の上端を超えて外方つ
まり、収容槽１０内にオーバーフローする。この
際、オーバーフローするメツキ材７は蒸着鍋４の
中央表面から外周方向に向う流れを生じて、浮遊
している異物１５を伴いながら収容槽１０内に横
溢流下して、すの子１１に至り、異物１５は該す
の子１１にて流下を阻止されてすの子１１上に堆
積し、同時に流下した溶融メツキ材７はすの子１
１の目を通過して更に流下し、収容槽１０の底部
に溜る。一方、蒸着鍋から細路１４を通過し収容
槽１０内に流入した溶融メツキ材７は上記オーバ
ーフローのメツキ材７と合流し遂次液位を高める
ので、該液位L3が収容槽１０の上端付近に達し
た時、蒸着鍋４内への溶融メツキ材７の供給を停
止する。然る後、該鍋４内のメツキ材７の液位を
L2まで降下させ、蒸着運転操作に移行する。か
かる状態において、収容槽１０内の溶融メツキ材
７は前記細路１４を経由して蒸着鍋４内に漏入
し、遂次その液位L3を下げて、やがて蒸着鍋４
内のメツキ材７の液位L2と同一液位に達して止
まる。かくして、異物１５′のみがすの子１１上
に残留し、ヒーター１３からの加熱を受け、且つ
該すの子１１および収容槽１０の内張り材１２を
構成する還元性材料との接触によつて還元され、
メツキ蒸気となつて蒸着に利用される。
さて、上記のオーバーフロー操作によつて、蒸
着鍋４内の溶融メツキ材７液面上の異物１５は極
めて容易かつ効果的に除去されるが、一回の斯か
るオーバーフロー操作に依るも尚、液面上に異物
１５が残留するような場合には、前述のオーバー
フロー操作を所要回数、繰り返すことによつて完
全に異物１５を排除することができる。
着鍋４内の溶融メツキ材７液面上の異物１５は極
めて容易かつ効果的に除去されるが、一回の斯か
るオーバーフロー操作に依るも尚、液面上に異物
１５が残留するような場合には、前述のオーバー
フロー操作を所要回数、繰り返すことによつて完
全に異物１５を排除することができる。
この場合、オーバーフローさせた溶融メツキ材
７は、真空蒸着装置の運転操業状態において収容
槽１０から蒸着鍋４内に回収できることは前述の
説明で自明であり、当然蒸着用メツキ材として有
効に利用できる。
７は、真空蒸着装置の運転操業状態において収容
槽１０から蒸着鍋４内に回収できることは前述の
説明で自明であり、当然蒸着用メツキ材として有
効に利用できる。
尚、本実施例装置においては、蒸着鍋４の構成
が全く可動部分を有せず、従つて故障の発生原因
がない点で有利であるが、蒸着鍋４内のメツキ材
７のオーバーフロー操作移行時、つまり蒸着鍋４
内へのメツキ材の昇液開始からオーバーフロー中
に亘つて、蒸着鍋４と収容槽１０を連通する細路
１４を通つて収容槽１０内に底部から浸入するメ
ツキ材により収容槽１０内のメツキ材の液位が不
要に上昇するのを避けるために、細路１４の孔径
の選定、および前記蒸着鍋４内へのメツキ材の供
給速度等について配慮する必要がある。
が全く可動部分を有せず、従つて故障の発生原因
がない点で有利であるが、蒸着鍋４内のメツキ材
７のオーバーフロー操作移行時、つまり蒸着鍋４
内へのメツキ材の昇液開始からオーバーフロー中
に亘つて、蒸着鍋４と収容槽１０を連通する細路
１４を通つて収容槽１０内に底部から浸入するメ
ツキ材により収容槽１０内のメツキ材の液位が不
要に上昇するのを避けるために、細路１４の孔径
の選定、および前記蒸着鍋４内へのメツキ材の供
給速度等について配慮する必要がある。
上記の点に鑑みて、蒸着鍋４と収容槽１０との
連通通路に逆止弁Ｖを介在させることもできる。
この例を第３，４図に示す。同図において、前記
逆止弁Ｖは、弁座１６とこれに係合する球型の弁
体１７から構成される。
連通通路に逆止弁Ｖを介在させることもできる。
この例を第３，４図に示す。同図において、前記
逆止弁Ｖは、弁座１６とこれに係合する球型の弁
体１７から構成される。
第３図は、メツキ材７ののオーバーフロー操作
を行つている状態を示しているが、この場合、蒸
着鍋４内のメツキ材の液位上昇過程において、前
記逆止弁Ｖの球型弁体１７が浮子として作用し、
弁座１６に係合して収容槽１０内へのメツキ材の
不要の流入を阻止する作用を行うので、該収容槽
１０へのメツキ材の流入は、上部からオーバーフ
ローして来たメツキ材のみであつて、有効な収容
槽１０の利用が可能となる。また、第４図に示す
ように、蒸着鍋４内のメツキ材の液位をＳの位置
まで低下させた際、逆止弁Ｖの弁体１７は弁座１
６から離れて、収容槽１０内の溶融メツキ材７を
速かに流出させて、蒸着鍋４方向に回収すること
ができる。従つて、第２図に示す例に比較し、オ
ーバーフロー操作による異物の除去を効果的に実
施し得ると共に、当該操作のサイクルを早めるこ
とができるので、特に大型の蒸着装置に適用して
有益である。
を行つている状態を示しているが、この場合、蒸
着鍋４内のメツキ材の液位上昇過程において、前
記逆止弁Ｖの球型弁体１７が浮子として作用し、
弁座１６に係合して収容槽１０内へのメツキ材の
不要の流入を阻止する作用を行うので、該収容槽
１０へのメツキ材の流入は、上部からオーバーフ
ローして来たメツキ材のみであつて、有効な収容
槽１０の利用が可能となる。また、第４図に示す
ように、蒸着鍋４内のメツキ材の液位をＳの位置
まで低下させた際、逆止弁Ｖの弁体１７は弁座１
６から離れて、収容槽１０内の溶融メツキ材７を
速かに流出させて、蒸着鍋４方向に回収すること
ができる。従つて、第２図に示す例に比較し、オ
ーバーフロー操作による異物の除去を効果的に実
施し得ると共に、当該操作のサイクルを早めるこ
とができるので、特に大型の蒸着装置に適用して
有益である。
尚、第３，４図に示す例においては、逆止弁Ｖ
として、球型浮きタイプのものを示したが、この
型式に限定するものではなく、その他バタフライ
弁タイプのもの等他の型式の逆止弁の採用を阻げ
るものではない。
として、球型浮きタイプのものを示したが、この
型式に限定するものではなく、その他バタフライ
弁タイプのもの等他の型式の逆止弁の採用を阻げ
るものではない。
以上詳述したように、本発明装置に依れば、蒸
着鍋のメツキ材液面に浮遊する異物を機械的手段
に依らずに、単に蒸着鍋内の溶融メツキ材の液位
を昇降する操作のみにて極めて適確に除去するこ
とができ、その奏する効果は極めて多大である。
着鍋のメツキ材液面に浮遊する異物を機械的手段
に依らずに、単に蒸着鍋内の溶融メツキ材の液位
を昇降する操作のみにて極めて適確に除去するこ
とができ、その奏する効果は極めて多大である。
第１図は従来の真空蒸着装置の概略説明図、第
２図および第３，４図は夫々本発明装置の実施例
を示す図である。 １…真空槽、２…スノーケル管、３…溶解炉、
４…蒸着鍋、７…溶融メツキ材、８…鋼帯、９…
蒸着鍋の側壁、１０…収容槽、１１…すの子、１
２…内張り材、１３…ヒーター、１４…細路、１
５…異物、Ｖ…逆止弁。
２図および第３，４図は夫々本発明装置の実施例
を示す図である。 １…真空槽、２…スノーケル管、３…溶解炉、
４…蒸着鍋、７…溶融メツキ材、８…鋼帯、９…
蒸着鍋の側壁、１０…収容槽、１１…すの子、１
２…内張り材、１３…ヒーター、１４…細路、１
５…異物、Ｖ…逆止弁。
Claims (1)
- １ 真空槽内に設置したスノーケル管付蒸着鍋
と、前記真空槽外下方に設置し、前記スノーケル
管の下端を溶融メツキ材中に浸漬させる溶解炉を
備えた真空蒸着装置において、前記蒸着鍋の外方
に該蒸着鍋の側壁を超えて横溢する溶融メツキ材
を一時的に収容する収容槽を設け、且つ該収容槽
と前記蒸着鍋とを細路を介して連通させたことを
特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58062291A JPS59190361A (ja) | 1983-04-11 | 1983-04-11 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58062291A JPS59190361A (ja) | 1983-04-11 | 1983-04-11 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59190361A JPS59190361A (ja) | 1984-10-29 |
| JPH0254427B2 true JPH0254427B2 (ja) | 1990-11-21 |
Family
ID=13195863
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58062291A Granted JPS59190361A (ja) | 1983-04-11 | 1983-04-11 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59190361A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8430509D0 (en) * | 1984-12-04 | 1985-01-09 | Secr Defence | Alloy production |
-
1983
- 1983-04-11 JP JP58062291A patent/JPS59190361A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59190361A (ja) | 1984-10-29 |
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