JPH0251132B2 - - Google Patents

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JPH0251132B2
JPH0251132B2 JP57125221A JP12522182A JPH0251132B2 JP H0251132 B2 JPH0251132 B2 JP H0251132B2 JP 57125221 A JP57125221 A JP 57125221A JP 12522182 A JP12522182 A JP 12522182A JP H0251132 B2 JPH0251132 B2 JP H0251132B2
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JP
Japan
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diffraction
temperature
grating
beams
measuring device
Prior art date
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Application number
JP57125221A
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English (en)
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JPS5826235A (ja
Inventor
Edoaaru Gyuroomu Misheru
Joruju Andore Pisho Misheru
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Publication of JPS5826235A publication Critical patent/JPS5826235A/ja
Publication of JPH0251132B2 publication Critical patent/JPH0251132B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01KMEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01K1/00Details of thermometers not specially adapted for particular types of thermometer
    • G01K1/02Means for indicating or recording specially adapted for thermometers
    • G01K1/024Means for indicating or recording specially adapted for thermometers for remote indication
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01DMEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01D5/00Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
    • G01D5/26Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
    • G01D5/32Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
    • G01D5/34Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
    • G01D5/36Forming the light into pulses
    • G01D5/38Forming the light into pulses by diffraction gratings
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01KMEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01K5/00Measuring temperature based on the expansion or contraction of a material
    • G01K5/48Measuring temperature based on the expansion or contraction of a material the material being a solid
    • G01K5/50Measuring temperature based on the expansion or contraction of a material the material being a solid arranged for free expansion or contraction

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Radiation Pyrometers (AREA)
  • Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は回折格子を使用しての温度測定装置に
関する。特に本発明はイオン化された媒体内に浸
漬された材料の温度の測定に関するイオン移植、
層の沈澱、焼鈍等の処理中の半導体基層の温度の
測定は上記基層が浸漬される媒体の特殊な性質に
起因して困難な問題である。特に、いかなる機械
的または電気的接触も防止されねばならない。だ
がこの種の基層の表面の温度は常時且つ注意深く
検査されねばならない、非常に重要な製造の媒介
変数である。
今までは、このような条件でこの検査または制
御を行うための満足な装置は提案されていない。
本発明はいかなる機械的な接触もすることなく
材料の温度を測定することを可能ならしめる装置
を提案することでこの欠陥を回避する。この目的
で本発明は光学的装置、特に回折格子の使用をす
すめる。格子により光のビームが回折させられる
条件は格子の間隔に依存している。この格子が測
定されるべき温度まで上げられた場合、その間隔
はこの温度の関数であり且つこの回折の条件自体
はこの温度に左右されるようになる。したがつ
て、回折格子の位置の測定は測定されるべき温度
に個々に対応している。
本発明は特に、測定されるべき温度まで加熱さ
れる第1の回折格子と、ビームを前記第1の回折
格子上に導かれる単色光のビーム源と、前記第1
の回折格子により回折された2本の1回回折ビー
ムの経路に配置された第2の回折格子と、前記第
2の回折格子により回折させられたビームの角位
置を測定するための装置とを含んで成る温度測定
装置に関する。
第1図に例示されている設備は、従来技術によ
る温度測定装置の一例を示している。この設備
は、真空処理ハウジング14内に位置決めされて
いるベース板12により担持された基層10を含
んでいる。処理装置が図示されていないが実際に
おいて真空沈澱物のためのるつぼ、イオン移植装
置等を含んでいる。
この装置によれば、基層10の表面の温度の測
定のため、上記基層上に回折格子20が配置され
ているがこの格子はビーム源22からの単色放射
線ビーム21で照射される。回折させられたビー
ム23は光学装置24により集光され且つ上記ビ
ームの角位置が測定される。入射ビーム21と回
折させられたビーム23は透明窓25を介してハ
ウジング14を通り抜ける。
とうぜんながら、基層10を構成している材料
が適当であれば、基層10上に回折格子20を直
接食刻することが可能である。たとえばこのこと
はケイ素基層に関してもあてはまる。
この格子の温度はこの格子を形成する材料の膨
張係数と与えられた温度における格子の間隔とが
判つている場合は計算によりあるいは前の温度の
補正により、回折させられたビームの角位置を基
に決定されることができる。
しかしながら、このような計算によりあるいは
前の温度の補正により格子の温度を決定すること
は装置の構成を複雑にしていた。
本発明によれば、この測定は、付加的格子で、
温度を一定の値(思いのままに調整可能である)
に維持され且つ間隔を測定用格子の間隔に接近し
た格子を使用することで、差別的性質を与えられ
る。この差別的変種によれば、測定用格子の出口
において、単一の回折させられたビームが2つの
回折させられたビームで、互いに反対にされた次
数を有する(nを1に等しいかあるいは1より大
きい整数にされた場合それぞれ+nおよび−n)
2つのビームにより置き替えられ且つ上記付加的
格子が上記2つのビームの通路に位置決めされて
いる。上記付加的格子により回折させられたビー
ムの中の次数−nおよび+nのビームは上記2つ
の格子が同じであれば、互いに平行であるという
特殊な特色を有している。かくして特殊な通路に
関して、2つの格子での回折に起因した変差は大
きさ相等しく且つ相反する符号を有する。この測
定格子が自身の温度に対する変更に起因してその
間隔の変化を受けた場合、この装置の2つの出力
ビームは互いに平行であることをやめ且つそれぞ
れの角変化は2つの格子の相互間の温度変化の表
示である。
以下添付図面について本発明を詳述する。第1
図と同一の番号は第1図と同一の構成を示してい
る。
本発明による温度測定装置は付加的格子30を
含むものとして第2図から第4図までに例示され
ている。第2図において2つの格子は透過で作用
している第3図には測定用格子20は反射で作用
しまた基準格子30は透過で作用している。第4
図において2つの格子はビームスプリツタ32に
起因して反射で作用している。
添付図面において、回折の次数n=±1で作用
が行われていると仮定されている。したがつて格
子20は23+および23-で示されている2つの
ビームを生成する。ビーム23+は基準格子30
に打当り、かくして2つの回折させられたビーム
を生成するがその中の次数(−1)のビームのみ
が用いられる。そのビームは(23+-と呼ばれ
る。同様にビーム23-1は格子30に打当つた後
に2つの回折させられたビームを生成するがその
中の次数(+1)のもののみ、すなわち(23-
+のみ用いられる。前に引用された理由で2つの
格子が同じ条件であればビーム(23+-と(2
-+とは互いに平行である。それがそうではな
ければ、それ等の角度の変化の測定で測定格子の
温度に関する情報が得られる。
実際においてビーム源22はレーザーたとえば
6328Åで作動するネオン−ヘリウムガスレーザー
であつてよい。測定装置24は望遠鏡であつてよ
い。格子は振幅格子または位相格子であつてよ
い。
第3図および第4図に示した装置の場合も第2
図について説明したのと同様の原理により、温度
測定が行なわれる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来技術による温度測定装置の一例を
示す概略図、第2図は透過で作用している2つの
格子を有する本発明による温度測定装置の一例を
示す概略立面図、第3図は反射で作用している測
定用格子と、透過で作用している基準格子とを有
する一変種の同様な略図、第4図は反射で作用し
ている2つの格子を有する一変種の同様な略図で
ある。 10……基層、12……ベース板、14……真
空処理ハウジング、20……回折格子、21……
入射ビーム、23……回折させられたビーム、2
4……光学装置、25……窓、30……さらに他
の格子。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 装置の使用中、測定されるべき温度まで加熱
    される第1の回折格子と、前記第1の回折格子上
    に導かれる光ビームを放射するように配置される
    単色光ビーム源からなり、前記第1の回折格子
    が、該光ビーム源により放射された光ビームを逆
    の回折次数+nおよび−n(nは1以上の整数)
    を有する2本の1回回折ビームに分割する働きを
    する温度測定装置において、前記2本の1回回折
    ビームの経路に配置され、装置の使用中基準温度
    に維持され、該2本の1回回折ビームのそれぞれ
    を、逆の回折次数+nおよび−n(nは1以上の
    整数)を有する2回回折ビームに分割する働きを
    し、前記第1の回折格子と同一の格子を有する第
    2の回折格子と、前記2回回折ビームの各対のう
    ちの少くとも1つを受信するように位置決めさ
    れ、前記2回回折ビームの各対のうちの少くとも
    1つのビーム間の角変化に基づいて、測定される
    べき温度を表示する測定装置とを有し、前記2回
    回折ビームの各対のうちの少くとも1つが逆の回
    折次数を有し、これにより、測定されるべき温度
    が基準温度に等しいときに、前記2回回折ビーム
    の各対のうちの少くとも1つが平行であることを
    特徴とする温度測定装置。 2 特許請求の範囲第1項記載の温度測定装置に
    おいて、前記第1および第2の回折格子が共に透
    過で作用することを特徴とする装置。 3 特許請求の範囲第1項記載の温度測定装置に
    おいて、前記第1および第2の回折格子のうちの
    1つが透過で作用し、かつ前記第1および第2の
    回折格子のうちの1つが反射で作用することを特
    徴とする装置。 4 特許請求の範囲第1項記載の温度測定装置に
    おいて、前記第1および第2の回折格子が共に反
    射で作用することを特徴とする装置。
JP57125221A 1981-07-21 1982-07-20 温度測定装置 Granted JPS5826235A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8114176 1981-07-21
FR8114176A FR2510254A1 (fr) 1981-07-21 1981-07-21 Procede et dispositif de mesure de temperature utilisant un reseau de diffraction

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5826235A JPS5826235A (ja) 1983-02-16
JPH0251132B2 true JPH0251132B2 (ja) 1990-11-06

Family

ID=9260719

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57125221A Granted JPS5826235A (ja) 1981-07-21 1982-07-20 温度測定装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4525066A (ja)
JP (1) JPS5826235A (ja)
DE (1) DE3227297A1 (ja)
FR (1) FR2510254A1 (ja)
GB (1) GB2102569B (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8618159D0 (en) * 1986-07-25 1986-09-03 Pa Consulting Services Spectrometer based instruments
FR2603379B1 (fr) * 1986-08-26 1988-12-02 Tissier Annie Procede de mesure du fluage d'un materiau et appareil de mise en oeuvre
DE3642182A1 (de) * 1986-12-10 1988-06-23 Wolf & Co Kg Kurt Anordnung zum messen der temperatur in einem heizsystem aus kochplatte und kochtopf mit kochgut
JPH0250644A (ja) * 1988-08-12 1990-02-20 Fujitsu Ltd トランジスタ直流ループ加入者回路
US6056436A (en) * 1997-02-20 2000-05-02 University Of Maryland Simultaneous measurement of temperature and strain using optical sensors
EP1130372A1 (en) * 2000-03-02 2001-09-05 Semiconductor 300 GmbH & Co. KG Arrangement and method for temperature measurement of a semiconductor wafer
DE10119599A1 (de) * 2001-04-21 2002-10-31 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur Bestimmung von Temperaturen an Halbleiterbauelementen
GB2417071B (en) * 2004-08-13 2006-12-20 Rolls Royce Plc Temperature measuring system
ES2712778T3 (es) 2007-05-30 2019-05-14 Ascensia Diabetes Care Holdings Ag Método y sistema para gestionar datos de salud
US8709822B2 (en) * 2008-12-18 2014-04-29 Bayer Healthcare Llc Method and assembly for determining the temperature of a test sensor
RU2630032C1 (ru) * 2016-02-29 2017-09-05 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Казанский физико-технический институт им. Е.К. Завойского Казанского научного центра Российской Академии наук (КФТИ КазНЦ РАН) Оптическое термометрическое устройство на полимерной основе
US12025504B2 (en) * 2021-10-12 2024-07-02 L3Harris Technologies, Inc. Non-contact temperature measurement systems and methods

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5610220A (en) * 1979-07-05 1981-02-02 Sumitomo Electric Ind Ltd Optical noncontact thermometer

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3458257A (en) * 1964-10-08 1969-07-29 Timothy R Pryor Method and apparatus for detecting spatial relationships and for determining properties derived therefrom
US3628866A (en) * 1969-01-24 1971-12-21 Bendix Corp Noncontacting method of measuring strain
DE3015091A1 (de) * 1979-04-27 1980-11-13 Smiths Industries Ltd Graet zum darstellen einer lage
US4355898A (en) * 1979-05-23 1982-10-26 Plessey Overseas Limited Optical detecting, monitoring or measuring arrangements

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5610220A (en) * 1979-07-05 1981-02-02 Sumitomo Electric Ind Ltd Optical noncontact thermometer

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Publication number Publication date
GB2102569A (en) 1983-02-02
FR2510254B1 (ja) 1984-04-06
DE3227297C2 (ja) 1990-08-02
FR2510254A1 (fr) 1983-01-28
DE3227297A1 (de) 1983-02-10
GB2102569B (en) 1985-09-18
US4525066A (en) 1985-06-25
JPS5826235A (ja) 1983-02-16

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