JPH02502551A - ペーパウェブ等の装置内被覆乾燥の方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ベーパウェブ等の 装置内被覆乾燥の方法および装置 本発明は、ベーパウェブもしくはボードウェブまたはその他の相当する連続ウェ ブを無接触で乾燥する方法に関する。この方法では、赤外線照射と乾燥空気噴射 を乾燥用に使用し、走行中のウェブをこの噴射によって、望ましくは両側からの 噴射によって無接触で搬送し、赤外線乾燥ギャップ通過後、ウェブを実質的に直 ちに滞空ウェブ乾燥ギャップに送って、空気噴射により支持し乾燥する。

さらに１本発明はベーパウェブ等の装置内被覆乾燥装置に関する。この装置は、 赤外線乾燥装置と１個以上の滞空ウェブ乾燥装置とを含み、赤外線乾燥装置は、 一連の赤外線照射装置とこれに関連して設けられる赤外線処理ギャップとを有し 、乾燥対象ウェブはこのギャップを通る。滞空ウェブ乾燥装置は、内部にノズル ボックスをはめ込むボックス部を有し、これに関連してノズル部が設けられ、ノ ズル部から乾燥および支持用の空気ジェットが乾燥対象ウェブに当てられる０本 装置は、構造的および機能的に互いに一体である赤外線乾燥装置と滞空ウェブ乾 燥装置を含む、赤外線乾燥装置は乾燥対象ウェブの走行方向に滞空ウェブ乾燥装 置の直前に置かれる。

本発明はペーパウェブもしくはボードウェブ、またはその他の相当する連続ウェ ブの乾燥に関する０本発明の代表的な目的は、被覆または表面サイジングに関連 する乾燥処理である。

従来技術で公知のように、ペーパウェブの被覆は。

別体の被覆装置か、または製紙゛装置に組み込まれその乾燥部で作動する装置内 装置すなわち表面サイジング装置かによってなされる。したがって、マルチシリ ンダ乾燥機の最終端で、被覆対象ウェブは被覆装置に送られ、これに中間乾燥機 が続き、最後に１例えば、後段乾燥機としての一部の乾燥シリンダが置かれる０ 本発明の代表的な応用目的は、厳密には被覆装置後のこの中間乾燥機であるが、 これのみに限定されるものではない。

従来技術では、いわゆる滞空ウェブ乾燥機が知られているが、これは、ペーパウ ェブ、ボードウェブ等を無接触で乾燥するものである。滞空ウェブ乾燥機は、例 えば、ロールコータまたはスプレッドコータ後のペーパ被ｍｍで使用され、被覆 剤で濡れているウェブを無接触で乾燥する。滞空ウェブ乾燥機内には、乾燥およ び支持用空気のための各種ブローノズルおよびノズル装置が使用される。これら の吹出しノズルは２種類、すなわちプレッシャノズルまたはフロートノズルと負 圧力またはフォイルノズルとに分類され１両者とも本発明の乾燥機および方法に 適用できる。

従来の滞空ウェブ乾燥機でもっとも多（使用されているものは、専らエアブロ− を基礎にしている。これは滞空ウェブ乾燥機の規模が大きくなる理由の一つでも ある。つまり、十分に高い乾燥能力を得るには、滞空ウェブ乾燥機の有効距離を 長くせねばならないからである。これらの欠点の他の理由には、空気乾燥では、 乾燥の浸透深さが比較的浅いことがあげられる。

従来技術では、他の乾燥機として、照射、とくに、赤外１Ｍ照射を使用するもの が知られている。赤外線照射を使用する利点は、照射での浸透深さか深いことで 、これは短波長になるほど深くなる。ペーパウェブの乾燥における赤外線乾燥機 の使用は、例えば、火災の危険があるため減少している。これは、十分に短い波 長で乾燥用照射を行なうためには、赤外線照射装置の温度は１例えば、２０００ ℃といった高温になるからである。

従来技術に関しては、西ドイツ公開特許公報（ＤＥＯＳＩ第２．３５１．２８０ 号を参照されたい、これには、圧力ノズルを使用する赤外線乾燥機と滞空ウェブ 乾燥機との組合せの１種が記載されている。上述の特許出願には１間隔をもって 連続的に並べられたノズルボックスを含む一方向つニブ乾燥機が記載されている 。これらのノズルボックスの端部にはノズル孔が設けられ、これを介して上方の ウェブに空気噴射が垂直に向けられ、ウェブに当たり、ノズルボックスから外側 に曲げられる。ノズルボックス間にはこれらのギャップを埋める赤外線照射装置 が設けられている０本出願人の知るかぎりでは、この乾燥機は広くは使用されて いないが、それは、構造上およびエネルギー経済性の点で望ましい空気乾燥と照 射乾燥の組合せが十分成功していないからであろう、加えて、この構造は一方向 で、例えば、ベーパ仕上げプラントで、満足な高乾燥能力を得るには、ウェブ走 行方向に十分な空間が必要である。

赤外線乾燥機の特別な問題は、塵芥と高湿度空気の生成である。

別体または専用の電気赤外線乾燥機は１例えば、天然ガスの場合と比較して、電 気エネルギーの経費が比較的高いのでこれもエネルギー経済性の点で好ましくな い。

装置内被覆も含めてペーパ被覆装置では、乾燥を専ら照射効果で行なう別体の赤 外線乾燥機が使用されている。しかし、これらの赤外線乾燥機は１紙質および蒸 発の調節能力に関して十分ではない、さらに、乾燥処理は赤外線乾燥機の運転性 能に大きく依存する。

本発明の目的はこのような従来技術の問題点を解決することである。

本発明の特定な目的は赤外線乾燥機の新規な応用を開発し、と（に、空気技術を 従来に比べて改善することである。

本発明の他の目的はペーパウェブの被覆乾燥の全体的制御を改善する方法と装置 を提供することである。

本発明の一部の目的は、赤外線乾燥機の新規な応用を提供し、従来技術に比べて 、より望ましい投資コストと運転コストをもたらす乾燥機の概念を実現できるよ うにすることにもある。この目的を達成するために１本発明では、高乾燥能力、 Ｈ置の小型化、装置設置場所での低い発熱湿度負荷を得ることを試みている。

本発明の特定な目的は、製紙機で製造されるウェブの最終温度プロファイルの調 節ができる赤外線乾燥機の応用を提供することである。

上述の、および以降で述べる目的を達成するため。

本発明の方法は主として次のような特徴を有する。

この方法では、移動ウェブは先ず赤外線乾燥ギャップに送られ、ここで比較的短 いパルス幅の乾燥エネルギーパルスがウェブに向けられ、乾燥エネルギーバルス の電力は乾燥機の単位面積あたりの平均乾燥出力より実質的に高い。

この空気は赤外線乾燥装置に送られて赤外線装置で加熱され、交換空気および／ または乾燥空気として赤外線装置に続く滞空ウェブ乾燥機に供給される。

一方１本発明による乾燥装置の主たる特徴は、赤外線乾燥装置が空気装置および ノズル装置を含み、これらを通して、空気流が赤外！！乾燥装置の処理ギャップ へ、および／または赤外線乾燥装置の高熱部との接触部分へ導かれる。空気流は 後続の滞空ウェブ乾燥機の又換用および／または乾燥用空気として流される。

本発明により、設備投資コストおよび運転経費の両方を考慮した総合的な利益率 の改善された乾燥処理が実現できる。

本発明により、高蒸発能力、マシンホールでの熱および温度負荷の減少、ならび に赤外線乾燥機用のリフトおよび補助装置の経済性が実現する０本出願人が実行 した測定、乾燥テストランおよび理論的検証を基に１本発明の解決策は、蒸発技 術上およびベーパウェブ品質に関して、赤外線乾燥装置と滞空ウェブ乾燥機とが 別々の作動装置として含まれる従来の乾燥装置に比べて、かなり満足すべきもの であることが確認された。

本発明による方法と装置は、被覆または表面サイジング装置の後に置かれる装置 内乾燥機にとくに適し、さらに、必要であればベーパウェブの最終湿度状態の調 節にも適する。

本発明では、従来技術の場合のような乾燥機の上方にオーブンフードを設ける必 要がない、これは１本発明の赤外線乾燥装置の構造では、滞空ウェブ乾燥機の廃 棄ダクト装置が十分に換気するので、単なるスポット状の排気で十分なためであ る。

滞空ウェブ乾燥機の乾燥空気過熱用に天然ガスまたは相当の燃料を使用するとき には１本発明の方法および本発明を利用する装置の単位水分蒸発量に対する運転 コストは、電気乾燥のみの乾燥機に比べて非常に好ましい結果になる。この利点 は、本発明では、電気乾燥機内のベーパウェブに転送されるエネルギーが赤外線 乾燥装置後の滞空ウェブ乾燥欄内で効果的に使用されるためである。

以下に、添付の図面に示された本発明の出発点を構成する従来技術と１本発明の いくつかの実施例とを参照して１本発明を詳述する。

第Ａ図は従来技術の装置内被覆乾燥装置の構成を示す。

第１図は第Ａ図に対応する有様で本発明の乾燥方法と装置の構成を示す。

第２図は本発明の滞空ウェブ乾燥機の側面図である。

第２Ａ図は第２図のＡ−Ａに沿う断面図である。

第２Ｂ図は第２図のＢ−Ｂに沿う断面図である。

第２Ｃ図は本発明の滞空ウェブ乾燥機内の両方向吹き出し圧力ノズル装置を示す 。

第２Ｄ図は第２Ｃ図のノズル装置の他の例として本発明の滞空ウェブ乾燥機内の 負圧カ一方向吹出しコアンダノズル装置を示す。

第３図は本発明の方法を空気流れ図として示す。

第４Ａ図は２個の別々の赤外線装置を有する従来の乾燥機の蒸発能力を時間の関 数として示す。

第４Ｂ図は、本発明による第１図に示した赤外線滞空乾燥機の蒸発能力を時間の 関数として第４Ａ図に対応する有様で示す。

第Ａ図は製紙機の乾燥部に配設される従来技術の仕上げおよび被覆部を示し、こ れには従来技術の乾燥装置が使用されている。ここに示すように、ベーパウェブ Ｗは、フード１２内の通常のマルチシリンダ乾燥機１０のシリング１３上を通過 する。乾燥部１０内の上部乾燥ワイヤを参照番号１１で示す、マルチシリンダ乾 燥機１０には、ウェブＷを横切る測定桁１３Ａが続き、これに間違してウェブの 湿度や重さを計るための検出器等の測定用検出装置が設けられている。測定桁１ ３Ａにはロール１４Ａおよび１４Ｂを含む中間プレスが続き、この後。

ウェブＷは案内ロール１５によって公知の被覆部２０Ａに導かれる。被】部２０ Ａは被覆装置と、後続の赤外線乾燥機２５および別体の滞空ウェブ乾燥機２６と により構成される。

被覆部２０Ａのフレーム内の垂直桁は参照番号２１ａで、水平桁は参照番号２１ ｂで示す、被覆部２２の後。

ウェブＷは案内ロール２３によって別体の赤外線乾燥機２５の処理ギャップ２５ Ｖに導かれる。処理ギャップ２５Ｖで乾燥されたウェブＷは、かなり長い引出し 部となって滞空ウェブ乾燥機２６の処理ギャップ２６Ｖに導かれ、そこで無接触 で支持されるとともに、滞空ウェブ乾燥機２６のノズル（図示せず）からの空気 噴射により乾燥される。

滞空ウェブ乾燥機２６の後、ウェブＷは案内ロール２７によって後置乾燥機３０ に送られる。乾燥機３０の第１シリング３３ａにはフェルトがない、後置乾燥機 ３０はフード３２内に設けられ、その上部フェルトは案内ロール３４に導かれ、 参照番号３１で示されている。後置乾燥機３０は例えば４個のシリンダ３３ａ　 ＄５よび３３を有する。後置乾燥機３０からは、完全に乾燥され被覆されたウェ ブＷが巻取り装置ｉｔ（図示せず）に送られる。

第Ａ図に関して、従来の被覆部２０Ａを詳述した。以降に１本発明の方法および 装置の動作および性能を第Ａ図による乾燥方法および装置と厳密に比較する。

第１図は第Ａ図に示しｈ−被覆乾燥処理と同一であるが、第Ａ図の被覆部２０Ａ は本発明による被覆部２０に代わっている。第Ａ図の被覆部は本発明による乾ｉ ！４０を含む被覆部２０を備えることで近代化されていると考えられる。被覆部 ２０は前置された被覆部２０Ａのフレーム部２１ａおよび２１ｂに関連して設置 される。この近代化では、マルチシリンダ乾燥機１０と後置乾燥機３０は変更さ れていない、しかし本発明による乾燥機４０は、第１図の応用と配置の他に、多 くの応用も遺していることを強調しておく。

第１図に示されている被覆部２０は、従来の被覆部２２と、本発明による赤外線 滞空ウェブ乾燥機４０と、それに続く別体の従来技術による滞空ウェブ乾燥８！ ９０とにより構成されている。ウェブＷは上向きに垂直に赤外線滞空ウェブ乾燥 機４０の処理ギャップ４０Ｖに進み、案内ロール２７により実質的に水平な流れ として滞空ウェブ乾燥機９０の垂直処理ギャップ９０Ｖに導かれ、ここを下方に 進む、処理ギャップ９０Ｖから、ウェブＷは案内ロール２７により第１乾燥シリ ンダ３３ａへ、つづいて公知の方法で、さらに、後置乾燥機３０に送られる。赤 外線滞空ウェブ乾燥機４０のｍ造の詳細については添付の第２図、第２Ａ図ない し第２Ｄ図に示されている。赤外線滞空ウェブ乾燥機４０は赤外線乾燥機５０を 含み、これの処理ギャップなウェブＷは無接触で通過し、同時に赤外線照射によ り乾燥される。赤外線乾燥機５０には、空気技術的および構造的に一体の滞空ウ ェブ乾燥機８０が設けれ、乾燥［８０は乾燥機のボックス部８１と、ボックス部 内にはめ込まれた上部ノズル８２Ａと下部ノズル８２Ｂとを含む、上部ノズル８ ２Ａ内には１等間隔Ｈに数個のノズル装置８５ａがあり、これに対応して下部ノ ズル８２Ｂ内には、等間隔Ｈに数個のノズル装置８５ｂが設けられ、処理ギャッ プ８０Ｖが形成される。これを通ってウェブＷは乾燥および支持され、わずかに 蛇行し実質的には正弦的に進み、同時に乾燥および支持用の高第２図と第３図に 示されるように１本発明では、赤外線乾燥機５０と滞空ウェブ乾燥機８０は、構 造的および乾燥処理の点で、主に、乾燥エネルギー技術およびウェブの最適な乾 燥処理と引出しを考慮して、新規な乾ｆｉ装置として一体化されている。この新 規な乾燥技術と空気技術の統合が本発明の主旨である。

本発明による赤外線滞空ウェブ乾燥機４０内では、赤外線乾燥機が必要とする冷 却空気をノズル５５Ａおよび５５Ｂから吹き出し、滞空ウェブ乾燥ｉａｏおよび ／または９０に対する交換空気を生成している１本発明では、滞空ウェブ乾燥機 ８０への漏れ空気は密封でき、赤外線乾燥機５０からの高温の冷却空気の効果的 利用が可能である。赤外線滞空ウェブ乾燥機４０では、被覆処理の直後および乾 燥処理の始まりにおいて高蒸発エネルギービーク値をウェブに与えることができ る（後に、第４図に戻って説明する）。

次に第２図、第２Ａ図ないし第２Ｄ図、第３図、第４図を参照して、赤外線滞空 ウェブ乾（４機４０の構成と動作を詳述する０本発明の本質的特徴は、赤外線乾 燥機５０が、乾燥対象ウェブＷの走行方向１１ｉｎ−１１ｏｕｔにおいて赤外線 滞空ウェブ乾燥機４０の前方に置かれることである。赤外線滞空ウェブ乾燥機４ ０は上部ボックス部５１Ａと下部ボックス部５１Ｂを含む、それらの前方に、ボ ックス部５１Ａと５１Ｂは、ウェブｌ１ｉｎが進入するギャップ部Ｇを画成する 。ギャップ部Ｇから、空気密封のノズルとウェブＷの赤外線処理用ギャップが始 まる。ここでウェブＷは空気ジェットＦＡおよびＦＢによって支持されて安定し 、同時に赤外ｍ照射Ｒにより加熱乾燥される。

赤外線乾燥機５０は上部ボックス部５４Ａと下部ボックス部５４Ｂを含む、これ らのボックス部に空気バイブ５３Ａと５３Ｂが接続されている。上部ボックス部 ５４Ａ内には一連の赤外線照射装置６０が設けられ、この上部の熱絶縁体６１内 に反射面６２が置かれている。処理ギャップの対向側の熱絶縁体６４の上部には 反射面６３が置かれ、これにより、ウェブＷを通過するすべての赤外線照射Ｒが 反射されてウェブＷに当たる、取入れギヤツブＧに関連して、ボックス部５１Ａ と５１Ｂは随伴空気ダクト５５Ａを画成し、これと対応してその下部側に下部随 伴空気ダクト５５Ｂを画成している。ここから、随伴空気吹出しＦＡおよびＦＢ がバイブ５２Ａおよび５２Ｂを経てボックス部５１Ａと５１Ｂに吹き込まれる。

これらは、赤外線処理ギャップ内のウェブＷを支持して安定させ、ギャップの換 気をする。赤外線処理ギャップ内では。

空気ジェットＦＦＡおよびＦＢが加熱され、この熱は第２Ａ図および第３図の装 置により回収され後に戻される。

第１図の断面Ａ−Ａである第２Ａ図によれば、ブロア１０３（第３図）のダクト １０４かもの空気は、バイブ５２Ａ　ｇよび５４Ｂを経て赤外線乾燥機５０の上 部ボックス部５１Ｊｌと５４ＡにフローＦＡｉｎとして吹き込まれ、ここから主 に赤外線処理ギャップに向けられ、上記付随ブローＦＡを構成する。第２図およ び第２Ａ図かられかるように、ダクト１０４に接続されたバイブ５２Ｂおよび５ ３Ｂからの取入れ空気ＦＢｉｎは、赤外線乾燥機５０（第３図）の下部ボックス 部５１Ｂに進み、この取入れ空気ＦＢｉｎは実質的には上記付随ブローＦＢを構 成するように向けられる。赤外線処理ギャップを囲む内部ボックス部５４Ａと５ ４Ｂに送られるＦＡｉｎとＦＢｉｎは矢印ＦＡ２とＦＢ２の方向に案内され、赤 外照射によって加熱された部分を冷却する。これらの冷却フローは少なくともそ の一部は赤外線処理ギャップに送られ、左側フローＦＡおよび付随フローＦＢに 合流する。赤外線処理ギャップの後、ダク）　８２Ａおよび８２ＢはウェブＷの 全幅の上部においてウェブＷの近くで開成する。ダク）　６２Ａおよび６２Ｂは ボックス１０８Ａおよび１０６Ｂと導通する。ボックス１０８Ａおよび１０６Ｂ から、パイプ５８Ｂおよび５１１１Ｂが始まり、第３図に示すようにパイプ１０ ５に接続している。滞空装置８０および赤外線乾燥ｍｓｏの上記ボックスは、統 合または一体構成でであり、これらの装置間には、区分壁６３Ａおよび６３Ｂが あり、場合によっては熱絶縁が施される。しかし、第２図に関しても、ウェブは 赤外線処理ギャップおよびその後の滞空ウェブ乾燥装置の水平面内を通過するよ うに示されているが、第２図の実施例のように、ウェブの走行は傾斜していても 垂直でもよい、ギャップＧから始まる垂直走行も上から下に内赤外線照射装置６ ０はウェブＷの横方向に小室６０１〜６ＯＮに分かれ、各室には導電体１５０（ 第３図〕から調節可能な電力を供給でき１周知の電気装置により加熱効果の横方 向プロファイルが調節できる。プロファイル制ｍ装置は横方向の温度プロファイ ルを測定するための装置（図示せず）を含む。

赤外線照射装置６０の下方に処理間隙に対向して窓６０Ａが設けられ、これを経 て赤外線照射ＲがウェブＷに当てられ浸透する。この一部はウェブＷを通過して 反射面６３から戻り、ウェブＷに作用する。

第２Ｃ図と第２Ｄ図は滞空ウェブ乾燥機８０のノズル８５の構成を示す、第２Ｃ 図はフロートノズルでボックス部を有し、この中に吹込み空気が矢印Ｆ１方向に 供給される。この高温の乾燥用吹込み空気はノズルボックス８６Ａの両側に設け られている縦方向ダクト８７ａおよび８７ｂに分配され、これらに向けてフロー Ｆ１の成分Ｆ２ａおよびＦ２ｂが送られる。ウェブＷに並んで設置されている縦 方向ダクト１１７ａ　ｊ１５よび８７ｂの端部には、ノズルスロット８８Ａ　Ｊ よび８８Ｂが設置され、これらは、ジェットＦ３ａおよびＦ３ｂを互いに対向す る方向に、ウェブＷの搬送面８９Ａに沿って吹き出す、搬送面８９Ａの中央には 凹部Ｓがある。上記のように、ウェブＷを安定させる加圧乾燥領域に＋が形成さ れ、ここから、空気はフローＦ４ａおよびＦ４ｂとしてノズルボックス８５の両 側に放出される。これにより、吹出し空気ジェットとウェブＷとの間に十分な渦 流と良好な熱伝達が形成される。

第２Ｄ図はフォイル型のノズルでノズルボックス８６Ｂを含み、これには１個の 縦方向ダクト８７が設けられ。

そのウェブＷに並べられた端部にはノズルスロット８８が備えられている。吹出 し空気はフローＦｌとしてノズルボックス８６Ｂに進入し、ここで分かれてフロ ーＦ２としてノズルボックス８７に進み、ノズル８８の後に置かれているコアン ダ面８８Ｃに沿ってジェットＦ３として放出される。コアンダ面８８Ｃに続いて 、セクタａ内の平面搬送面８９Ｂの前で搬送面から離れて、これに関連して負圧 力の搬送面と乾燥ギャップトが形成される。放出空気は、フローＦ４として乾燥 ギャップトから矢印方向にノズルボックス８５間に進む、第２Ｃ図および第２Ｄ 図のノズルの相対的な配置を第２図に示す０本発明の滞空ウェブ乾燥機では、第 ２Ｃ図および／または第２Ｄ図のノズルと異なるノズルを使用してもよい。

第４Ａ図および第４Ｂ図は第Ａ図に示す従来型乾燥機と第１図に示す本発明によ る乾燥機での蒸発能力（ｋｇ／ｇ＊２ｈｌをグラフで比較したものである。

第４Ａ図において、２個の別体の赤外線乾燥機とそれらの間に置かれたリーディ ングシリンダとを有する第Ａ図の型の従来型乾燥機では、第１赤外線乾燥機の領 域内の蒸発量は、例えば１時間ｔｌ−ｔ２では、約４０ｋｇ／ｒｍ２ｈのレベル となり、その後、第１赤外線乾燥機に続くオーブンドロー上では蒸発量が減少し 、時間ｔ２−ｔ３では、約２５ｋｇ／ｍ２ｈのレベルとなる。ここで、リーディ ングシリンダ（２３Ａｌの領域内では蒸発量は低レベルに留まり、時刻ｔ４では 約２５ｋｇ／ｍ２ｈに上昇し、リーディングシリンダ（２３Ａｌ後のオーブンド ローが始まる１時間ｔ５−ｔ６は第２赤外線乾燥機に対応し、これは第Ａ図の滞 空ウェブ乾燥機２６に代わって設けられている。その後１時間ｔ６−ｔ７ではオ ーブンドローが続き。

ここで蒸発量は実質的に指数関数的に減少する。

第４Ｂ図に示す本発明による赤外線滞空ウェブ乾燥機の蒸発能力を第４Ａ図に示 すものと比較すると、以下のことがわかる１時間ｔ５−’ｔ６では、ウェブＷは 本発明による赤外線処理装置５０の赤外線処理ギャップを通過する。赤外線処理 ギャップの長さは例えば約４００ミリメートルである０時間ｔｌ−ｔ２では、蒸 発能力はゼロから約４ｏｋｇ／范２ｈに上昇し、その後、時間ｔ２−ｔ３では、 本発明による乾燥機の滞空装置８０の処理ギャップ８０ｖが続く０時刻ｔ２から 、蒸発は急激に上昇して蒸発ピークＨｐｌが形成され、この最大値は約１８０ｋ ｇ／ｍ２ｈである。

蒸発ピークの最大点の後、蒸発能力は時刻ｔ３までは減少し、これは処理ギャッ プ８０Ｖの最終点で、ここでのレベルは約７０ｋｇ／ｗ２ｈとなる。この蒸発ピ ークＨｐｌは本発明にとくに特徴的で１次のようにして達成される。

すなわち、装置５０の赤外線処理ギャップ内で蒸発エネルギーをウェブＷの構造 内に供給することができ、このエネルギーは滞空装置の処理ギャップ８０Ｖに生 ずる効果的換気により蒸発能力として処理ギャップ８０Ｖ内に「放出」される、 第４Ｂ図では、蒸発ピークａｐｌの幅はｔｏで示される。蒸発ピークの幅ｔＯは 通常ｔＯ＝０．１〜０．５秒の範囲で、望ましくは、ｔｏ＝ｏ、　ｉｓ〜０．３ 秒である。第４Ｂ図において、ウェブＷの速度がｖＯ：１０Ｉｌ／Ｓの場合　Ｉ Ｑ２−Ｑ４秒である６時間ｔ２−ｔ３を示す空気処理ギャップ８０Ｖの長さは約 ２メートルである。蒸発ピークｔｏの後、蒸発能力は時間ｔ３−ｔ４内で減少す るが、この期間は、第１図に示す赤外線滞空装置４０と従来の滞空装置９０との 間のウェブＷのオーブンドローを表わしている。この後、第４Ｂ図において時間 ｔ４−ｔ５である滞空ウェブ乾燥装置９０の処理ギャップ９０Ｖでは、乾燥能力 は実質的に指数関数的に約８０ｋｇ／ｍ２ｈのレベルに上がり、急激に約２０ｋ ｇ／ｍ２ｈに低下する。ここで蒸発は、第４Ｂ図で時間ｔ５−ｔ６で示されるマ ルチシリンダ乾燥機前のオーブンドロー内で行なわれる。

第２図かられかるように、赤外線装置５０の処理ギャップと滞空ウェブ乾燥装置 ８０の処理ギャップ８０ｖは同一平面内にあり、ウェブＷは組合せ型赤外線滞空 乾燥機４０を通過する際に曲がることはない、密封および付随プローＦ１５よび ＦＢにより、初期状態からでさえ、ウェブＷは安定して赤外線処理ギャップに進 んで通過でき、このウェブＷの安定走行は滞空ウェブ乾燥装置８０の処理ギャッ プ８０Ｖまで続く、ウェブＷをかなり高速度で処理できるのはこのためでもあり 、その速度は１０００メ一トル／分にも達する。

こうして、ウェブＷ被覆面から高速で水分を蒸発でき、赤外線装置５０直後の滞 空ウェブ乾燥装置８０内で。

被覆基部内の固体領域が好ましく調節可能となり、例えば滞空ウェブ乾燥装置８ ０後の自由空間内に置くこともできる。このようにして、まだら現象の発生が防 げる。被覆処理直後の高蒸発ピーク）ｌｐｌによっても繊維の荒れ現象の発生が 低下する。

第３図は１本発明による方法と装置に適用可能な空気システムの実施例である。

乾燥空気は、ダクト１００からフィルタ１０１に送られ、さらにフロア１０３の 取入れタクト１０２に供給される。ブロア１０３の圧力ダクト１０４は、バイブ ５２Ａ、　５３Ａおよび５２Ｂ、　５３Ｂを経て赤外線装置のボックス５１Ａ、 　５４Ａおよび５１Ｂ、　５４Ｂに通じ、ここからフローが分流して、第２図に 示すように付随ブローＦＡおよびＦＢとなり、ノズル５５Ａおよび５５Ｂから放 出される。赤外装置５０を冷却する空気は回収されて滞空ウェブ乾燥装置８０お よび／または９０のための交換空気になる。

第３図によれば取入れタクト１０５はチャンバ１０６Ａおよび１０６Ｂから始ま り、これを経てダクト１０５の空気は滞空ウェブ乾燥装置８０のブロア１０７の 吸引側に送られ、バーナ１１６用の燃焼空気となる。吸引側のレギュレータは参 照番号１２０で示されている。ブロア１０７の圧力側のダクトはガスバーナ１１ ６に送られ、ここには、第２ブロア１１３の圧力側のダクトも接続されている。

フロア１１３の吸引ダクト１１５に関連してレギュレータ１２１がある。ガスバ ーナ１１６の出力側のタクト１１０は高温で乾燥した空気を滞空ウェブ乾燥装置 ８０のノズルボックス８２Ａおよび８２Ｂに送る。この空気は、ノズルボックス ８２Ａ　ｉ３よび８２Ｂから取り込まれ、ダクト１１１を経てダクト１１５に達 する。ダクト１１０とタクト１１１の間にはバイパスタクト１１２が設けられ、 これはレギュレータ１１４を有する。ダクト１１５と１１１は排出タクト１２２ を経て、そこからさらに排出ブロア１３２の吸引側のダクト１３１に達する。ダ クト１３１はレギュレータ１３３を備えている。ダクト１０５とダクト１１２の 間にはブロア１２５がある。赤外線装置５０の冷却空気タクト１０５も別体の赤 外線袋Ｍ９０の燃焼空気ブロア１４０の吸引タクトおよび別体の滞空ウェブ乾燥 装置９０の排出ダクト１３０に接続している。また、別体の赤外線装置９０の空 気装置は、滞空ウェブ乾燥装置８０に関して説明した空気装置に似ている。

第１図と第３図に示す実施例において、導体１５０により赤外線装置５０に供給 される電力Ｐｓは、例えばＰｓ・７４０ｋＷ程度であり、赤外線滞空乾燥機４０ （ガスバーナ１１６）の滞空部分８０への吹出し空気の加熱電力Ｐ１は、Ｐｌ＝ ３００ｋＷのオーダである。従来の滞空ウェブ乾燥機９０吹出し空気の加熱電力 ＰＬは、例えばＰ２＝１３００ｋｌｌのオーくはＰｓ＝（２，、，３）ｘＰｌで ある。乾燥機４０および９０の被覆部２０での総電力は、第１図と第３図の場合 には、Ｐｔｏｔ＝Ｐｓ＋Ｐ１＋Ｐ２＝７４０＋３００＋１３００＝２３４０ｋｍ である。望ましくは、本発明での赤外線装置５０の電力Ｐｓは総電力Ｐｔｏｔの 約２５〜４０％、で、好ましくは３０〜３５％である０以上から本発明では、よ り高価な電力Ｐの割合を比較的低くして運転でき、場合によっては、空気加熱エ ネルギーＰｉｉ３よびＰ２は天然ガスから有利に得られ、または電気エネルギー より廉価な他のエネルギーから得られる。

したがって本発明により、空気加熱エネルギーを比較的低い割合にして赤外線乾 燥の望ましい効果が得られる。

次に特許請求の範囲を示すが１本発明の様々な細部は特許請求の範囲で定義した 発明の思想の範囲内で変形が可能であり、例示のみのために説明した以上の細部 とは異なることもある。

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Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．ベーパウエブもしくはボードウェブ（Ｗ）、または他の相当する連続ウェブ （Ｗ）を無接触で乾燥する方法であって、赤外線照射（Ｒ）と乾燥空気噴射を乾 燥用に使用し、乾燥機（１４０）を走行中のウェブ（Ｗ）は該噴射にまって同時 に、望ましくは両側から無接触で搬送され、赤外線乾燥ギャップ通過後該ウェブ （Ｗ）は実質的に直ちに滞空ウェブ乾燥ギャップ（８０Ｖ）に送られて、空気噴 射により支持され乾燥される方法において、移動中のウェブ（Ｗ）は先ず前記赤 外線乾燥ギャップに送られ、ここで比較的短いパルス幅の乾燥エネルギーパルス が前記ウェブ（Ｗ）に向けられ、該乾燥エネルギーパルスの電力は乾燥機の単位 面積あたりの平均乾燥出力より実質的に高く、 空気（ＦＡｉｎ、ＦＢｉｎ）が赤外線乾燥装置（５０）に送られ、該空気は、赤 外線乾燥装置（５０）にて加熱され、交換空気および／または乾燥空気として該 赤外線乾燥装置に続く滞空ウェブ乾燥機（８０：９０）に供給されることを特徴 とするペーパウェブもしくはボードウェブ、または他の相当する連続ウェブを無 接触で乾燥する方法。 ２．請求の範囲第１項に記載の方法において、前記赤外線装置（Ｆ）に供給され る空気フロー（ＦＡｉｎ、ＦＢｉｎ）は前記ウェブ（Ｗ）の取入れギャップ（Ｇ ）に関連して該ウェブ（Ｗ）の両側へ送られてノズル（５５Ａ、５５Ｂ）から付 随および密閉ジェット（ＦＡ、ＦＢ）を生成し、該ジュット（ＦＡ、ＦＢ）は前 記赤外線処理ギャップに吹き込まれて該ウェブ（Ｗ）を支持し、該ウエブに関連 して設けられている該装置を冷却することを特徴とする方法。 ３．請求の範囲第１項または第２項に記載の方法において、前記組合せ型赤外線 滞空ウェブ乾燥装置（４０）の後、該ウェブ（Ｗ）は従来型滞空ウェブ乾燥装置 （９０）内で乾燥され、無接触で支持されることを特徴とする方法。 ４．請求の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の方法において、前記滞空 ウェブ乾燥装置（８０）または複数の該装置（８０、９０）に送られる交換空気 は、前記赤外線装置（５０）に供給される冷却空気（ＦＡｉｎ、ＦＢｉｎ）のみ から得られ、該冷却空気は、さらに前記取入れギャッブ（Ｇ）の密封、該ウェブ （Ｗ）の支持、および該取入れギャップ（Ｇ）から直ちに前記赤外線処理ギャッ プに該ウェブ（Ｗ）を随伴するために使用されることを特徴とする方法。 ５．請求の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の方法において、前記組合 せ型赤外線滞空ウェブ乾燥装置（４０）のウェブ（Ｗ）に与えられる電力（Ｐｓ ）は、その乾燥空気を加熱するために前記滞空ウェブ乾燥装置（８０）で使用さ れる電力（Ｐ１）の約２〜３倍（Ｐｓ＝（２．．．３）×ＰＩであることを特徴 とする方法。 ６．請求の範囲第１項ないし第５項のいずれかに記載の方法において、前記ウエ ブ（Ｗ）に当てられて赤外線照射（Ｒ）を生成する電力（Ｐｓ）は、前記乾燥機 におけるウェブ（Ｗ）に当てられる全乾燥出力（Ｐｔｏｔ）の約２５〜４０％、 望ましくは約３０〜３５％であることを特徴とする方法。 ７．請求の範囲第１項ないし第６項のいずれかに記載の方法において、前記赤外 線滞空ウェブ乾燥装置（８０）または複数の該装置（８０、９０）における前記 乾燥空気の加熱用にガスを使用することを特徴とする方法。 ８．請求の範囲第１項ないし第７項のいずれがに記載の方法を実行するための乾 燥装置であって、該装置は、赤外線照射装置（５０）と１個以上の滞空ウェブ乾 燥装置（８０、９０）とを含み、該赤外線乾燥装置（５０）は、一連（６０１〜 ６０Ｎ）の赤外線照射装置（６０）と該装置に関連して設けられた赤外線処理ギ ャップとを有し、乾燥対象ウェブ（Ｗ）は該ギャップを通過でき、前記滞空ウェ ブ乾燥装置（８０）または複数の該装置（８０、９０）は、内部にノズルボック ス（８２Ａ、８２Ｂ）をはめ込むボックス部（８１）を有し、該ボックス部に関 連してノズル部（８５Ａ、８５Ｂ）が設けられ、該ノズル部を通して乾燥および 支持用の空気ジェット（Ｆ３：Ｆ３ａ、Ｆ３ｂ）が乾燥対象ウェブ（Ｗ）に当て られ、該乾燥装置は、赤外乾燥装置（５０）と滞空ウェブ乾燥装置（８０）とを 含み、これらは構造的および機能的に互いに一体であり、該赤外線装置（５０） は前記乾燥対象ウェブ（Ｗ）の走行方向（Ｗｉｎ−Ｗｏｕｔ）において前記滞空 ウェブ乾燥装置（８０）の直前に置かた乾燥装置において、 前記赤外線乾燥装置（１０）は、空気およびノズル装置１５２Ａ、５３Ａ、５５ Ａ、５２Ｂ、５３Ｂ、５５Ｂ）を有し、該空気およびノズル装置を介して空気流 を前記赤外線装置（５０）の処理ギャップに、および／または該赤外線装置の加 熱された部分に関連して、送ることができ、該空気流は、後続の前記１個以上の 滞空ウェブ乾燥装置（８０、９０）用の交換空気および／または乾燥空気として 供給されることを特徴とする乾燥装置。 ９．請求の範囲８に記載の乾燥装置において、前記赤外線装置（５０）と実質的 に該装置の直後に置かれる前記滞空ウェブ乾燥装置（８０）との間に、エアダク ト（６２Ａ、６２Ｂ）を設け、該タクトの開口部は互いに対向して置かれ、該開 口部を通過する前記ウェブ（Ｗ）の近くに開口し、前記タクト（６２Ａ、６２Ｂ ）はエアダクト（５６Ａ、５６Ｂ）を通過して排気し、該エアダクトは、前記赤 外線装置内で加熱された空気を前記滞空ウェブ乾燥装置（８０、９０）に送って それらのガス燃焼機用の燃焼空気とすることを特徴とする乾燥装置。 １０．請求の範囲第９項に記載の乾燥装置において、前記赤外線装置（５０）は 、前記処理対象ウェブ（Ｗ）を案内できる取入れギャップ（Ｇ）を有し、該取入 れギャップ（Ｇ）のすぐ両側にはフォイル型ノズル（５５Ａ、５５Ｂ）が設けら れ、該ノズルは前記ウェブ（Ｗ）の全幅にわたって延在し、該ノズルを介して該 ウェブ（Ｗ）の両側からエアブロー（ＦＡ、ＦＢ）を噴射でき、同時に、前記赤 外線処理ギャップに関連して設けられ前記赤外線放射によって熱せられた部分の 冷却ができることを特徴とする乾燥装置。 １１．請求の範囲第９項または第１０項に記載の乾燥装置において、前記赤外縁 照射装置（６０）は小室（６０１．．．６０Ｎ）に分けられ、前記ウェブ（Ｗ） の湿度プロファイル制御に関して横方向における該乾燥装置の乾燥能力の分布を 調節するために、該小室のそれぞれに調節可能な電力を供給できることを特徴と する乾燥装置。 １２．請求の範囲第９項または第１０項に記載の乾燥装置において、前記滞空ウ ェブ乾燥装置（８０）の直前に置かれた前記赤外線装置（８０）の処理ギャップ は、該滞空ウェブ乾燥装置（８０）の処理および支持ギャップ（８０Ｖ）と同一 平面内に設けられていることを特徴とする乾燥装置。