JPH024991A - 金属洗浄用薬剤 - Google Patents
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、工業用金属材料の洗浄用薬剤、更に詳細には
、金属材料のブラシ洗浄に際し、金属材料表面に付着し
た金属粉または埃等の固体汚れを効果的に除去すること
のできる金属洗浄用薬剤に関する。
、金属材料のブラシ洗浄に際し、金属材料表面に付着し
た金属粉または埃等の固体汚れを効果的に除去すること
のできる金属洗浄用薬剤に関する。
一般に金属材料は、熱間加工、冷間加工等幾多の加工成
形ft経て、更に科目的に応じてメツキ処理等の表面処
理が施される。この際、金属材料の各種加工成形後及び
各種表面処理工程前では洗浄処理が必須となシ、洗浄性
の優劣は、金属材料の光沢度の同上だけでなく塗装性、
メツキの付き廻シ性等の表面処理性をも大きく左右する
。
形ft経て、更に科目的に応じてメツキ処理等の表面処
理が施される。この際、金属材料の各種加工成形後及び
各種表面処理工程前では洗浄処理が必須となシ、洗浄性
の優劣は、金属材料の光沢度の同上だけでなく塗装性、
メツキの付き廻シ性等の表面処理性をも大きく左右する
。
このような金属材料の洗浄では、金属加工油、防錆油等
の油状汚れ及び加工時に生じる金属粉、埃等の固体汚れ
がその対象となる。
の油状汚れ及び加工時に生じる金属粉、埃等の固体汚れ
がその対象となる。
従来、金属材料の洗浄には、主として、アルカリ剤等の
各種ビルダーと界面活性剤から成る洗浄剤が使用されて
おり、界面活性剤の浸透、乳化、分解作用及びビルダー
の中和。
各種ビルダーと界面活性剤から成る洗浄剤が使用されて
おり、界面活性剤の浸透、乳化、分解作用及びビルダー
の中和。
鹸化作用によって金属材料に付着した油状汚れを洗浄し
ている。しかし、金属材料に付着した金属粉及び埃等の
固体汚れは非常に小さいため、その除去が困難でめった
。
ている。しかし、金属材料に付着した金属粉及び埃等の
固体汚れは非常に小さいため、その除去が困難でめった
。
−万、金属材料の洗浄方法としては、一般に電解洗浄、
浸漬洗浄、スゾレー洗浄、ブラシ洗浄があるが、金属材
料の固体汚れは、特にブラシ洗浄等の物理的方法に頼っ
ているのが現状でるる。
浸漬洗浄、スゾレー洗浄、ブラシ洗浄があるが、金属材
料の固体汚れは、特にブラシ洗浄等の物理的方法に頼っ
ているのが現状でるる。
しかしながら、固体汚れは、油の付着、水中の硬水成分
であるカルシウムイオン、マグネシウムイオンの作用、
更には金属材料、金属粉の形状効果等によって強固にな
っており、その洗浄は極めて困難である。
であるカルシウムイオン、マグネシウムイオンの作用、
更には金属材料、金属粉の形状効果等によって強固にな
っており、その洗浄は極めて困難である。
本発明者らは、上記実状に鑑み鋭意研究を行なった結果
、アミノアルキルホスホンM及びヒドロキシアルキルジ
ホスホン酸が効果的に固体汚れを除去し得ることを見出
し本発明を完成した。
、アミノアルキルホスホンM及びヒドロキシアルキルジ
ホスホン酸が効果的に固体汚れを除去し得ることを見出
し本発明を完成した。
すなわち、本発明は炭素数2〜6のアミノアルキルホス
ホン酸またはヒドロキシアルキルジホスホン酸を含有す
ることを特徴とする金属洗浄用薬剤を提供するものであ
る。
ホン酸またはヒドロキシアルキルジホスホン酸を含有す
ることを特徴とする金属洗浄用薬剤を提供するものであ
る。
本発明で用いる炭素数2〜6のアミノアルキルホスホン
酸としてはアミノトリメチレンホスホン酸またはエチレ
ンジアミンテトラメチレンホスホン酸が、またヒドロキ
シアルキルジホスホン酸としては1−ヒドロキシエチリ
デン−1,1−ゾホスホン酸が挙けられる。
酸としてはアミノトリメチレンホスホン酸またはエチレ
ンジアミンテトラメチレンホスホン酸が、またヒドロキ
シアルキルジホスホン酸としては1−ヒドロキシエチリ
デン−1,1−ゾホスホン酸が挙けられる。
本発明の金属洗浄用薬剤は、アミノアルキルホスホンm
tたはヒドロキシアルキルジホスホン[tアルカリ金属
塩、アンモニウム塩またはアミン塩として使用し、水溶
液の形態に調製するのが好ましい。この場合当該ホスホ
ン酸の濃度は使用時0.001〜10.00重量チ(以
下、単にチで示す)になるようにするのが好ましい。
tたはヒドロキシアルキルジホスホン[tアルカリ金属
塩、アンモニウム塩またはアミン塩として使用し、水溶
液の形態に調製するのが好ましい。この場合当該ホスホ
ン酸の濃度は使用時0.001〜10.00重量チ(以
下、単にチで示す)になるようにするのが好ましい。
当該ホスホン酸はそれ単独でも充分な洗浄効果を有する
が、これに更に無機もしくは有機ビルダー 界面活性剤
等を併用することができる。
が、これに更に無機もしくは有機ビルダー 界面活性剤
等を併用することができる。
ビルダーおよび界面活性剤としては例えば次のものが挙
げられる。
げられる。
■無機ビルダー
一般に無機ビルダーとしては1例えば苛性ソーダ、苛性
カリ、水酸化リチウム等の強アルカリ剤;硫酸、塩酸、
硝酸、リン酸、ホウ酸、珪酸等の醒のアルカリ金属塩、
アンモニウム塩または低級アミン塩並びに炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩等が好適に用
いられる。
カリ、水酸化リチウム等の強アルカリ剤;硫酸、塩酸、
硝酸、リン酸、ホウ酸、珪酸等の醒のアルカリ金属塩、
アンモニウム塩または低級アミン塩並びに炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩等が好適に用
いられる。
■有機ビルダー
有機ビルダーとしては、例えばグリシン、ニトリロ三酢
酸(NTA ) 、エチレンゾアミン四酢酸(El)T
A ) 、ジエチレントリアミン五酢酸等のアミノカル
ボン酸類、又はクエン酸、リンゴ識、酒石酸、グルコン
酸、粘g酸等のオキシカルボン酸類のアルカリ金属塩、
アンモニウム塩、低級アミン塩が挙けられる。
酸(NTA ) 、エチレンゾアミン四酢酸(El)T
A ) 、ジエチレントリアミン五酢酸等のアミノカル
ボン酸類、又はクエン酸、リンゴ識、酒石酸、グルコン
酸、粘g酸等のオキシカルボン酸類のアルカリ金属塩、
アンモニウム塩、低級アミン塩が挙けられる。
■界面活性剤
界面活性剤としては、下記に示すような非イオン型界面
活性剤、アニオン型界面活性剤、カチオン型界面活性剤
及び両性界面活性剤の1種又は2s以上を用いることが
できる。
活性剤、アニオン型界面活性剤、カチオン型界面活性剤
及び両性界面活性剤の1種又は2s以上を用いることが
できる。
■非イオン型界面活性剤
次の一般式で示される非イオン型界面活性剤。
■ ” 0(Cz f(403nH
OR’0(C2H40)n(C3H110)、、HRl
:C,〜C3oのアルキル基又はアルケニル基 g’:c、〜CSOのアルキル基又はアルケニル基 R“:C4〜C12のアルキル基 n:3〜20 m:0〜10 R2:c6〜Cooのアルキル基又はアルケニル基 m+m’: Q〜35 n十n’:3〜40 (C3H60)m〃(C2H40)n#HR3:C,〜
Cooのアルキル基又はアルケニル基 m 十m’−)−m” : O〜35 n十n’十n”: 3〜40 ■アニオン型界面活性剤 次の一般式で示されるアニオン型界面活性剤 ■ R4−803−Ml @ R40S03 Ml Q R4R4−0−P−0− \ −Mt R4,: c、〜CaOのアルキル基又はアルケニル基 Ml:アルカリ金属、アンモニウム又は低級アミン ■両性界面活性剤 次の一般式で示される両性界面活性剤 R5:C4〜C12のアルキル基又はアルケニル基 R2:アルカリ金属、アンモニア又は低級アンモニウム 上記ビルダー及び界面活性剤は、汚れの種類、使用水等
に応じて適宜路7II]賞を決めることができる。
:C,〜C3oのアルキル基又はアルケニル基 g’:c、〜CSOのアルキル基又はアルケニル基 R“:C4〜C12のアルキル基 n:3〜20 m:0〜10 R2:c6〜Cooのアルキル基又はアルケニル基 m+m’: Q〜35 n十n’:3〜40 (C3H60)m〃(C2H40)n#HR3:C,〜
Cooのアルキル基又はアルケニル基 m 十m’−)−m” : O〜35 n十n’十n”: 3〜40 ■アニオン型界面活性剤 次の一般式で示されるアニオン型界面活性剤 ■ R4−803−Ml @ R40S03 Ml Q R4R4−0−P−0− \ −Mt R4,: c、〜CaOのアルキル基又はアルケニル基 Ml:アルカリ金属、アンモニウム又は低級アミン ■両性界面活性剤 次の一般式で示される両性界面活性剤 R5:C4〜C12のアルキル基又はアルケニル基 R2:アルカリ金属、アンモニア又は低級アンモニウム 上記ビルダー及び界面活性剤は、汚れの種類、使用水等
に応じて適宜路7II]賞を決めることができる。
本発明の洗浄用薬剤は、固体汚れに対する吸着分散性に
優れているので低濃度かつ低温度で鉄粉等の頑固な固体
汚れkg易に洗浄することができる。また低温で実施で
きることは省エネルギーの点で工業的に極めて有利であ
る。
優れているので低濃度かつ低温度で鉄粉等の頑固な固体
汚れkg易に洗浄することができる。また低温で実施で
きることは省エネルギーの点で工業的に極めて有利であ
る。
次に実施例を挙けて説明する。
実施例1
(試験方法)
冷間圧延鋼板を寸法50X150mに切断したものを試
験片として用いた。
験片として用いた。
洗浄性は、冷間圧延鋼板のブラシ洗浄における鉄粉の除
去性を調査するため、洗浄薬剤をブラシに含ませブラシ
洗浄した。尚、ブラシ回数は同一洗浄面を3回行なった
。
去性を調査するため、洗浄薬剤をブラシに含ませブラシ
洗浄した。尚、ブラシ回数は同一洗浄面を3回行なった
。
洗浄性は、鋼板表面に付着する鉄粉をセロテーゾ剥離し
、洗浄前と洗浄後のセロテープ剥離物の反射率から次式
により脱鉄粉率として評価した。
、洗浄前と洗浄後のセロテープ剥離物の反射率から次式
により脱鉄粉率として評価した。
A:セロテーゾ単独の反射率
B:洗浄前のセロテープ剥離物の反射率C:洗浄後のセ
ロテープ剥離物の反射率衣−1に示すホスホン酸の0.
2%水溶fLを表−1に記載のアルカリで中和し、−9
〜10に調整した洗浄系剤について、前記試験方法によ
って洗浄効果を調べた。また比較として、市販品の0.
5%水溶液及び温水を用いた。
ロテープ剥離物の反射率衣−1に示すホスホン酸の0.
2%水溶fLを表−1に記載のアルカリで中和し、−9
〜10に調整した洗浄系剤について、前記試験方法によ
って洗浄効果を調べた。また比較として、市販品の0.
5%水溶液及び温水を用いた。
=11−
〜12−
その結果は表−2のとおシである。
表−2
表−2よシ明らかな如く、不発明洗浄薬剤は市販のアル
カリ型洗浄剤に比較し洗浄効果が著しく優れており、特
に低温での効果が顕著でめった。
カリ型洗浄剤に比較し洗浄効果が著しく優れており、特
に低温での効果が顕著でめった。
実施例2
本発明のホスホン酸を市販品同僚に高アルカ!j(rf
l=12)に調合した場合の脱鉄粉効果を調べた。アル
カリ剤として苛性ソーダ及び苛性カリを用いて各洗浄楽
剤の−を12VC調整した。
l=12)に調合した場合の脱鉄粉効果を調べた。アル
カリ剤として苛性ソーダ及び苛性カリを用いて各洗浄楽
剤の−を12VC調整した。
尚、洗伊テスト方法及びテスト粂件は全て実施例1と同
一にした。ブラシ洗浄用に調合した洗浄薬剤の組成及び
脱鉄粉率の結果は、表−3のとおシである。
一にした。ブラシ洗浄用に調合した洗浄薬剤の組成及び
脱鉄粉率の結果は、表−3のとおシである。
表−3から明らかな如く、本発明のホスホン酸洗浄薬剤
は高アルカリ型にvI4製すると、実施例1の−9〜1
0のものに比較し更に洗浄効果が上昇した。
は高アルカリ型にvI4製すると、実施例1の−9〜1
0のものに比較し更に洗浄効果が上昇した。
実施例3
ホスホン酸に界面活性剤及び/又はキレート剤を併用し
たときの併用効果を実施例1と同様にして調べた。その
結果は表−4のとおシである。
たときの併用効果を実施例1と同様にして調べた。その
結果は表−4のとおシである。
以下余白
表−4に示すように、界面活性剤及びキレート型ビルグ
ーの併用により、わずかではあるが洗浄効果の向上が認
められた。しかし、硬水成分の多い水を使用するときに
は更に一層の効果の向上が期待される。
ーの併用により、わずかではあるが洗浄効果の向上が認
められた。しかし、硬水成分の多い水を使用するときに
は更に一層の効果の向上が期待される。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、炭素数2〜6のアミノアルキルホスホン酸またはヒ
ドロキシアルキルジホスホン酸を含有することを特徴と
する金属洗浄用薬剤。 2、アミノトリメチレンホスホン酸、エチレンジアミン
テトラメチレンホスホン酸または1−ヒドロキシエチリ
デン−1,1−ジホスホン酸を含有することを特徴とす
る金属洗浄用薬剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15547188A JPH024991A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 金属洗浄用薬剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15547188A JPH024991A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 金属洗浄用薬剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH024991A true JPH024991A (ja) | 1990-01-09 |
Family
ID=15606778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15547188A Pending JPH024991A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 金属洗浄用薬剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH024991A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992016017A1 (en) * | 1991-02-28 | 1992-09-17 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Cleaning liquid for semiconductor substrate |
WO2020071372A1 (ja) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | 日本ペイント・サーフケミカルズ株式会社 | 表面処理剤 |
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JPS5344138A (en) * | 1976-10-05 | 1978-04-20 | Canon Inc | Electronic calculator |
-
1988
- 1988-06-23 JP JP15547188A patent/JPH024991A/ja active Pending
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JPWO2020071372A1 (ja) * | 2018-10-02 | 2021-09-02 | 日本ペイント・サーフケミカルズ株式会社 | 表面処理剤 |
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