JPH0249727A - 抗潰瘍剤 - Google Patents
抗潰瘍剤Info
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- JPH0249727A JPH0249727A JP13336289A JP13336289A JPH0249727A JP H0249727 A JPH0249727 A JP H0249727A JP 13336289 A JP13336289 A JP 13336289A JP 13336289 A JP13336289 A JP 13336289A JP H0249727 A JPH0249727 A JP H0249727A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は抗潰瘍剤に関する。
(従来技術)
消化器潰瘍形成の要因の1つとして多量の胃酸分泌があ
げられている。この胃酸はヒスタミン、アセチルコリン
、ガストリンなどの刺激により胃壁細胞から分泌される
ことが知られており、これら刺激物質と拮抗して胃酸分
泌を抑制する薬剤として、コリン受容体遮断剤(例えば
、アトロピン)、ヒスタミンHz受容体拮抗剤(例えば
、シメチジン)などが臨床的に使用されている。〔メデ
ィシナ(Medicina)、第23巻、第4号、56
0〜565頁(1986年)〕 また、最近胃酸の濃縮・分泌に関与するH”/に’ A
TPアーゼの酵素活性を阻害して胃酸分泌を抑制するベ
ンズイミダゾール系化合物(例えば、オメプラゾール)
も見出されてきている(特開昭54−141783号)
。
げられている。この胃酸はヒスタミン、アセチルコリン
、ガストリンなどの刺激により胃壁細胞から分泌される
ことが知られており、これら刺激物質と拮抗して胃酸分
泌を抑制する薬剤として、コリン受容体遮断剤(例えば
、アトロピン)、ヒスタミンHz受容体拮抗剤(例えば
、シメチジン)などが臨床的に使用されている。〔メデ
ィシナ(Medicina)、第23巻、第4号、56
0〜565頁(1986年)〕 また、最近胃酸の濃縮・分泌に関与するH”/に’ A
TPアーゼの酵素活性を阻害して胃酸分泌を抑制するベ
ンズイミダゾール系化合物(例えば、オメプラゾール)
も見出されてきている(特開昭54−141783号)
。
しかしながら、コリン受容体遮断剤はアトロピン中毒な
ど毒性が強く、またヒスタミンH2受容体拮抗剤である
例えばシメチジンについては抗アンドロゲン作用、プロ
ラクチン放出刺激作用などの副作用が知られている。
ど毒性が強く、またヒスタミンH2受容体拮抗剤である
例えばシメチジンについては抗アンドロゲン作用、プロ
ラクチン放出刺激作用などの副作用が知られている。
(発明の構成及び効果)
本発明は一般式
(但し、環Aは置換または非置換ピリジル基、環Bは置
換または非置換フェニル基を表し、R1及びR1はとも
に水素原子であるかまたは互いに末端で結合して式−(
CH,)q−で示される基を形成し、nは0.1または
2、qは3または4を表す。)で示されるイミダゾール
誘導体もしくはその塩を有効成分として含有する抗潰瘍
剤に関する。
換または非置換フェニル基を表し、R1及びR1はとも
に水素原子であるかまたは互いに末端で結合して式−(
CH,)q−で示される基を形成し、nは0.1または
2、qは3または4を表す。)で示されるイミダゾール
誘導体もしくはその塩を有効成分として含有する抗潰瘍
剤に関する。
本発明の有効成分である化合物(1)またはその塩は優
れた胃酸分泌抑制作用を有し及び/または優れたH’
/K” ATPアーゼに対する酵素活性阻害作用を有す
るため、ヒスタミンH2受容体拮抗剤に見られるような
副作用のない抗潰瘍剤として有用な医薬化合物であり、
該化合物を有効成分とする本発明の抗潰瘍剤は例えば胃
潰瘍、十二指腸潰瘍等の消化器潰瘍の治療・予防に使用
することができる。また、化合物(1)またはその塩に
は、必ずしもH” /K” ATPアーゼに対する酵素
活性阻害作用によらずに優れた胃酸分泌抑制作用を示す
ものが含まれ、オメブラゾール等既存のH” /に″″
ATPアーゼ阻害剤とは異なった作用機序による抗潰瘍
剤として優れた特性を発揮する。更に、本発明の有効成
分である化合物(1)またはその塩は低毒性であり、医
薬として高い安全性を示す。例えば、1,4,5.6−
チトラヒドロー1−(2−ピリジル)−2−(2−(ジ
エチルアミノ)ベンジルスルフィニルコシクロペンタ(
d)イミダゾールをマウスに1000mg/kg経口投
与し、3日間観察t7ても死亡例は認められず、体重抑
制も観察されなかった。
れた胃酸分泌抑制作用を有し及び/または優れたH’
/K” ATPアーゼに対する酵素活性阻害作用を有す
るため、ヒスタミンH2受容体拮抗剤に見られるような
副作用のない抗潰瘍剤として有用な医薬化合物であり、
該化合物を有効成分とする本発明の抗潰瘍剤は例えば胃
潰瘍、十二指腸潰瘍等の消化器潰瘍の治療・予防に使用
することができる。また、化合物(1)またはその塩に
は、必ずしもH” /K” ATPアーゼに対する酵素
活性阻害作用によらずに優れた胃酸分泌抑制作用を示す
ものが含まれ、オメブラゾール等既存のH” /に″″
ATPアーゼ阻害剤とは異なった作用機序による抗潰瘍
剤として優れた特性を発揮する。更に、本発明の有効成
分である化合物(1)またはその塩は低毒性であり、医
薬として高い安全性を示す。例えば、1,4,5.6−
チトラヒドロー1−(2−ピリジル)−2−(2−(ジ
エチルアミノ)ベンジルスルフィニルコシクロペンタ(
d)イミダゾールをマウスに1000mg/kg経口投
与し、3日間観察t7ても死亡例は認められず、体重抑
制も観察されなかった。
本発明の有効成分である化合物(1)の具体例としては
、例えば環Aがハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基、ニトロ基、ア
ミノ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルカノイル
オキシ基、シアニド基、トリハロゲノ低級アルキル基、
トリハロゲン低級アルコキシ基及び水酸基から選ばれる
1つまたは2つの基で置換されていてもよい2−または
4−ピリジル基;環Bがアミン基、モノ−またはジ−低
級アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、シク
ロアルキルアミノ基、ホルミルアミノ基及び含窒素5〜
6員環複素単環弐基(例えば、モルホリノ基、ピロリル
基及びピペリジル基)から選ばれる基で置換されていて
もよいフェニル基である化合物があげられる。
、例えば環Aがハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基、ニトロ基、ア
ミノ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルカノイル
オキシ基、シアニド基、トリハロゲノ低級アルキル基、
トリハロゲン低級アルコキシ基及び水酸基から選ばれる
1つまたは2つの基で置換されていてもよい2−または
4−ピリジル基;環Bがアミン基、モノ−またはジ−低
級アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、シク
ロアルキルアミノ基、ホルミルアミノ基及び含窒素5〜
6員環複素単環弐基(例えば、モルホリノ基、ピロリル
基及びピペリジル基)から選ばれる基で置換されていて
もよいフェニル基である化合物があげられる。
このうち薬効上好ましい化合物は一般式(I)に於いて
環Aが低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニル低
級アルコキシ基、アミノ基及び低級アルカノイルアミノ
基から選ばれる1つまたは2つの基で置換されていても
よい2−または4−ピリジル基;環Bがアミノ基、モノ
−またはジ−低級アルキルアミノ基、低級アルカノイル
アミノ基、ホルミルアミノ基及び含窒素5〜6員環複素
単環式基から選ばれる基で置換されていてもよいフェニ
ル基であり、R’及びR2はともに水素原子であるか又
は互いに末端で結合してトリメチレン基を形成する化合
物があげられる。
環Aが低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニル低
級アルコキシ基、アミノ基及び低級アルカノイルアミノ
基から選ばれる1つまたは2つの基で置換されていても
よい2−または4−ピリジル基;環Bがアミノ基、モノ
−またはジ−低級アルキルアミノ基、低級アルカノイル
アミノ基、ホルミルアミノ基及び含窒素5〜6員環複素
単環式基から選ばれる基で置換されていてもよいフェニ
ル基であり、R’及びR2はともに水素原子であるか又
は互いに末端で結合してトリメチレン基を形成する化合
物があげられる。
薬効上より好ましい化合物としては一般式(■)におい
て環Aが低級アルキル基及び低級アルコキシ基から選ば
れる1つもしくは2つの基で置換されていてもよい2−
もしくは4−ピリジル基;環Bがアミノ基、モノ−また
はジ−低級アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ
基、モルホリノ基、ピペリジノ基及びピロリル基から選
ばれる基で置換されたフェニル基である化合物がある。
て環Aが低級アルキル基及び低級アルコキシ基から選ば
れる1つもしくは2つの基で置換されていてもよい2−
もしくは4−ピリジル基;環Bがアミノ基、モノ−また
はジ−低級アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ
基、モルホリノ基、ピペリジノ基及びピロリル基から選
ばれる基で置換されたフェニル基である化合物がある。
薬効上好ましい別の化合物群としては、一般式(1)に
おいてnが0である化合物をあげることができる。
おいてnが0である化合物をあげることができる。
また、上記具体例及び好ましい化合物群において低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルカノイル基と
しては炭素数1〜6、好ましくは炭素数1〜3、のアル
キル基、アルコキシ基及びアルカノイル基が含まれ、ま
た、シクロアルキル基としては炭素数3〜8、好ましく
は炭素数4〜7、とりわけ炭素数5〜6、のシクロアル
キル基が含まれる。
ルキル基、低級アルコキシ基及び低級アルカノイル基と
しては炭素数1〜6、好ましくは炭素数1〜3、のアル
キル基、アルコキシ基及びアルカノイル基が含まれ、ま
た、シクロアルキル基としては炭素数3〜8、好ましく
は炭素数4〜7、とりわけ炭素数5〜6、のシクロアル
キル基が含まれる。
本発明の有効成分である化合物(I)は遊離塩基及び酸
付加塩のいずれの形でも医薬用途に供することができる
。薬理的に許容しうる塩としては、例えば、塩酸塩、臭
化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩の如き無
機酸付加塩;ギ酸塩、シュウ酸塩、メタンスルホン酸塩
、グルクロン酸塩の如き有機酸付加塩等があげられる。
付加塩のいずれの形でも医薬用途に供することができる
。薬理的に許容しうる塩としては、例えば、塩酸塩、臭
化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩の如き無
機酸付加塩;ギ酸塩、シュウ酸塩、メタンスルホン酸塩
、グルクロン酸塩の如き有機酸付加塩等があげられる。
本発明の有効成分である化合物(I)またはその塩は経
口的にも非経口的にも投与することができる。経口的に
投与する場合は、例えば錠剤、散剤、カプセル剤、顆粒
剤等の固形剤として投与することができ、これらは慣用
の賦形剤を含んでいてもよ(、さらに結合剤、希釈剤、
崩壊剤、湿潤剤等を含むものであってもよい。また水性
または油性のけん濁液、溶液、シロップ、エリキシル等
の液剤としても経口投与することができ、注射剤として
非経口的に投与することもできる。
口的にも非経口的にも投与することができる。経口的に
投与する場合は、例えば錠剤、散剤、カプセル剤、顆粒
剤等の固形剤として投与することができ、これらは慣用
の賦形剤を含んでいてもよ(、さらに結合剤、希釈剤、
崩壊剤、湿潤剤等を含むものであってもよい。また水性
または油性のけん濁液、溶液、シロップ、エリキシル等
の液剤としても経口投与することができ、注射剤として
非経口的に投与することもできる。
本発明の抗潰瘍剤の投与量は疾患の程度、患者の年齢、
体重、状態及び投与方法などにもよるが、その有効成分
である化合物(1)またはその薬理的に許容しうる塩の
投与量が通常1日当たり約0.05〜50■/kg、と
りわけ約0.1〜20mg/kgとなるような範囲で用
いるのが好ましい。
体重、状態及び投与方法などにもよるが、その有効成分
である化合物(1)またはその薬理的に許容しうる塩の
投与量が通常1日当たり約0.05〜50■/kg、と
りわけ約0.1〜20mg/kgとなるような範囲で用
いるのが好ましい。
尚、本発明の有効成分である化合物(1)は不斉スルホ
キシド基に基づく光学異性体及びこれらの混合物のいず
れをも含むものである。
キシド基に基づく光学異性体及びこれらの混合物のいず
れをも含むものである。
本発明の有効成分である化合物(1)またはその塩は、
例えば、一般式 (但し、1!mA、R’ 、R”及びnは前記と同−意
味を有する。) で示されるメルカプトイミダゾール化合物またはその塩
と一般式 (但し、Xはハロゲン原子を表し、環Bは前記と同一意
味を有する。) で示されるトルエン化合物またはその塩とを脱酸剤(例
えば水酸化アルカリ金属、水酸化アルカリ土類金属、ピ
リジン、トす低級アルキルアミン等)の存在下または非
存在下に反応させ、得られた一般式 (但し、環A、環B、R’ 、R”及びnは前記と同一
意味を有する。) で示される化合物を例えば、メタクロロ過安息香酸、過
安息香酸等の慣用の酸化剤で処理して製することができ
る。
例えば、一般式 (但し、1!mA、R’ 、R”及びnは前記と同−意
味を有する。) で示されるメルカプトイミダゾール化合物またはその塩
と一般式 (但し、Xはハロゲン原子を表し、環Bは前記と同一意
味を有する。) で示されるトルエン化合物またはその塩とを脱酸剤(例
えば水酸化アルカリ金属、水酸化アルカリ土類金属、ピ
リジン、トす低級アルキルアミン等)の存在下または非
存在下に反応させ、得られた一般式 (但し、環A、環B、R’ 、R”及びnは前記と同一
意味を有する。) で示される化合物を例えば、メタクロロ過安息香酸、過
安息香酸等の慣用の酸化剤で処理して製することができ
る。
或いはまたイミダゾール誘導体(1)の内、R1及びR
2が式−(C)IりQ−(ctは前記と同一意味を有す
る。)で示される基を形成する化合物は一般式 (但し、Rl l及びR1′は互いに末端で結合して式
−(C)f、)Q−で示される基を形成し、環A、環B
、q及びnは前記と同一意味を有する。)で示されるイ
ミダゾール誘導体またはその塩をp−トルエンスルホン
酸の如き有機酸あるいは塩酸、硫酸の如き無機酸等で脱
水処理し、ついで、その生成物を上記と同様に酸化して
製することもできる。
2が式−(C)IりQ−(ctは前記と同一意味を有す
る。)で示される基を形成する化合物は一般式 (但し、Rl l及びR1′は互いに末端で結合して式
−(C)f、)Q−で示される基を形成し、環A、環B
、q及びnは前記と同一意味を有する。)で示されるイ
ミダゾール誘導体またはその塩をp−トルエンスルホン
酸の如き有機酸あるいは塩酸、硫酸の如き無機酸等で脱
水処理し、ついで、その生成物を上記と同様に酸化して
製することもできる。
なお、上記反応で得られる新規中間体(II)の原人、
環B上の置換基は、所望により、適宜相互変換可能であ
り、例えば、原人及び/または環B上にアミノ基を有す
る中間物(II)は、対応するニトロ基置換体(n)を
常法で還元するかまたは対応するN−フタルイミドもし
くはN−トリ低級アルキルフェニルスルホニルアミド基
置換体(■)を加水分解して製することもできる。更に
環A及び/または環B上のアミノ基が低級アルカノイル
基、ホルミル基、低級アルキル基等の基で置換された中
間物(n)は、対応するアミノ基置換体(II)を慣用
の手段でさらにアシル化、アルキル化して製することも
できる。
環B上の置換基は、所望により、適宜相互変換可能であ
り、例えば、原人及び/または環B上にアミノ基を有す
る中間物(II)は、対応するニトロ基置換体(n)を
常法で還元するかまたは対応するN−フタルイミドもし
くはN−トリ低級アルキルフェニルスルホニルアミド基
置換体(■)を加水分解して製することもできる。更に
環A及び/または環B上のアミノ基が低級アルカノイル
基、ホルミル基、低級アルキル基等の基で置換された中
間物(n)は、対応するアミノ基置換体(II)を慣用
の手段でさらにアシル化、アルキル化して製することも
できる。
実験例1
i敗分蔓皿皿作朋
SD系雌雄性絶食ラット1群5匹)に被検化合物(30
mg/kg)の溶液または懸濁液を経口投与し、投与1
時間後にペンタガストリン(1mg/kg)を皮下投与
した。その30分後にラットを屠殺、開腹し、幽門部を
結紮後、胃を摘出し採取した胃液の総酸度を測定し胃酸
分泌量とした。結果は第1表に示す通りであった0表中
、胃酸分泌抑制作用は対照群と投与群の総酸度の差から
、胃酸分泌を70%以上抑制した場合を「+十ノ、40
〜70%抑制した場合を「+」で表示した。
mg/kg)の溶液または懸濁液を経口投与し、投与1
時間後にペンタガストリン(1mg/kg)を皮下投与
した。その30分後にラットを屠殺、開腹し、幽門部を
結紮後、胃を摘出し採取した胃液の総酸度を測定し胃酸
分泌量とした。結果は第1表に示す通りであった0表中
、胃酸分泌抑制作用は対照群と投与群の総酸度の差から
、胃酸分泌を70%以上抑制した場合を「+十ノ、40
〜70%抑制した場合を「+」で表示した。
第1表
注1)実験に際しては、後記各製造例で得た生成物を供
試化合物として使用した。(以下、実験例2においても
同じ、) 実験例2 H” K″ATPAT Pアーゼトーネルソン(Sigrist−Nelson
) らの方法〔フェプスレクーズ、FEBS LI?
TTEl?5197巻1・2号187頁1986年〕に
準じて食用豚の新鮮な胃粘膜より胃酸分泌細胞を分離し
、H”/K”ATPアーゼを含むベシクルは蔗糖の不連
続密度勾配中で遠心分離することにより調製した。被検
化合物存在下における同酵素のH’ /に″ATPアー
ゼ活性の測定はキーリング(Keel ing) ら
の方法〔バイオケミカル・ファーマコロジ−; Bi
ocheIlical PharmacoloBy 3
4巻16号2967頁1985年〕に準じて行い、被検
化合物非存在下で測定したH” /に″ATPアーゼ活
性との差から阻害率を算出した。次いで、被検化合物の
各添加濃度ごとの阻害率に基づいて作成した濃度・阻害
曲線から各化合物のIC,。値を求めた。
試化合物として使用した。(以下、実験例2においても
同じ、) 実験例2 H” K″ATPAT Pアーゼトーネルソン(Sigrist−Nelson
) らの方法〔フェプスレクーズ、FEBS LI?
TTEl?5197巻1・2号187頁1986年〕に
準じて食用豚の新鮮な胃粘膜より胃酸分泌細胞を分離し
、H”/K”ATPアーゼを含むベシクルは蔗糖の不連
続密度勾配中で遠心分離することにより調製した。被検
化合物存在下における同酵素のH’ /に″ATPアー
ゼ活性の測定はキーリング(Keel ing) ら
の方法〔バイオケミカル・ファーマコロジ−; Bi
ocheIlical PharmacoloBy 3
4巻16号2967頁1985年〕に準じて行い、被検
化合物非存在下で測定したH” /に″ATPアーゼ活
性との差から阻害率を算出した。次いで、被検化合物の
各添加濃度ごとの阻害率に基づいて作成した濃度・阻害
曲線から各化合物のIC,。値を求めた。
結果を第2表に示した。
第2表
製造例 1
(1) 1−(2−ピリジル)−2−メルカプトイ
ミダゾール3.0gをエタノール50m1に溶解し、水
冷下、2N−水酸化す) IJウム水溶液16.9ml
を加える。これに、m−ジメチルアミノベンジルクロリ
ド塩酸塩3.84gを加えて室温で2時間撹拌する。溶
媒を留去した後、残金に水を加えて酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥後、溶媒を留去する。残金を酢
酸エチル及びn−ヘキサン混液から再結晶することによ
り1−(2−ピリジル)−2−(3−ジメチルアミノベ
ンジルチオ)イミダゾール3.95gを得る。
ミダゾール3.0gをエタノール50m1に溶解し、水
冷下、2N−水酸化す) IJウム水溶液16.9ml
を加える。これに、m−ジメチルアミノベンジルクロリ
ド塩酸塩3.84gを加えて室温で2時間撹拌する。溶
媒を留去した後、残金に水を加えて酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥後、溶媒を留去する。残金を酢
酸エチル及びn−ヘキサン混液から再結晶することによ
り1−(2−ピリジル)−2−(3−ジメチルアミノベ
ンジルチオ)イミダゾール3.95gを得る。
収率 75%
M、p、79〜80°C
(2) 本島3.73gの塩化メチレン100m1溶液
をアルゴン気流下−40°Cに冷却する。
をアルゴン気流下−40°Cに冷却する。
該溶液に80%メタクロロ過安息香酸5.32gを少量
ずつ添加する。同温にて1時間撹拌する。
ずつ添加する。同温にて1時間撹拌する。
反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、乾燥
後溶媒を留去する。残金をメタノールから再結晶するこ
とにより、1−(2−ピリジル)−2−(3−(ジメチ
ルアミノ)ベンジルスルフィニル]イミダゾール1.4
8gを得る。
後溶媒を留去する。残金をメタノールから再結晶するこ
とにより、1−(2−ピリジル)−2−(3−(ジメチ
ルアミノ)ベンジルスルフィニル]イミダゾール1.4
8gを得る。
収率 55%
M、p、177〜179°C
製造例 2〜24
対応原料化合物を製造例1と同様に処理することにより
、下記第3表記載化合物を得る。
、下記第3表記載化合物を得る。
第3表
(但し、製造例9においてはnは2、製造例14におい
てはnは1、製造例1〜8.10〜13.15〜24に
おいてはnは0を表す。)注): NMRはCDCl3 中で測定。
てはnは1、製造例1〜8.10〜13.15〜24に
おいてはnは0を表す。)注): NMRはCDCl3 中で測定。
注):
NMRはCDCl。
中で測定。
製造例3
1〜49
対応原料化合物を製造例1と同様に処理することにより
、 下記第5表記載化合物を得る。
、 下記第5表記載化合物を得る。
第5表
(但し、
製造例40においてはnは1、
製造例3
〜39、
1〜49においてはnはOを表す。
製造例
25〜30
対応原料化合物を製造例1と同様に処理することにより
、 下記第4表記載化合物を得る。
、 下記第4表記載化合物を得る。
第4表
(但し、
nはOを表す。
注): NMRはCDCl3中で測定。
製造例50〜57
対応原料化合物を製造例1と同様に処理することにより
、下記第6表記載化合物を得る。
、下記第6表記載化合物を得る。
第6表
注): NMRはCD C1:l中で測定。
製造例58〜,61
対応原料化合物を製造例1と同様に処理することにより
、下記第7表記載化合物を得る。
、下記第7表記載化合物を得る。
第7表
注): NMRはCDCl2中で測定。
注): NMRはCDC1z中で測定。
製造例 62〜63
対応原料化合物を製造例1と同様に処理することにより
、下記第8表記載化合物を得る。
、下記第8表記載化合物を得る。
第8表
製造例 64
(1) 2−(2−ジメチルアミノベンジルチオ)−
1,3a、4,5.6.6a−へキサヒドロ−6a−ヒ
ドロキシ−1−(2−ピリジル)シクロペンタCd)イ
ミダゾール7.53gを触媒量のp−トルエンスルホン
酸とともにトルエン200m1中で1時間加熱還流する
。溶媒を留去し、残金に水を加えて炭酸水素ナトリウム
水溶液で中和後、クロロホルム抽出する。抽出液を乾燥
後、溶媒を留去することにより1,4,5.6−チトラ
ヒドロー1−(2−ピリジル)−2−(2−(ジメチル
アミノ)ベンジルチオコシクロペンタ(d)イミダゾー
ル3.94gを得る。
1,3a、4,5.6.6a−へキサヒドロ−6a−ヒ
ドロキシ−1−(2−ピリジル)シクロペンタCd)イ
ミダゾール7.53gを触媒量のp−トルエンスルホン
酸とともにトルエン200m1中で1時間加熱還流する
。溶媒を留去し、残金に水を加えて炭酸水素ナトリウム
水溶液で中和後、クロロホルム抽出する。抽出液を乾燥
後、溶媒を留去することにより1,4,5.6−チトラ
ヒドロー1−(2−ピリジル)−2−(2−(ジメチル
アミノ)ベンジルチオコシクロペンタ(d)イミダゾー
ル3.94gを得る。
収率55%
M、p、115〜117”C(酢酸エチル−fi −ヘ
キサンから再結晶) (2) 本島を製造例1− (2)と同様に処理するこ
とにより、1,4,5.6−チトラヒドロー1−(2−
ピリジル)−2−(2−(ジメチルアミノ)ベンジルス
ルフィニル〕シクロペンタ〔d〕イミダゾールを得る。
キサンから再結晶) (2) 本島を製造例1− (2)と同様に処理するこ
とにより、1,4,5.6−チトラヒドロー1−(2−
ピリジル)−2−(2−(ジメチルアミノ)ベンジルス
ルフィニル〕シクロペンタ〔d〕イミダゾールを得る。
収率74%
M、p、139.5〜141°C’(酢酸エチル−n−
ヘキサンから再結晶) 製造例65〜67 対応原料化合物を製造例64と同様に処理することによ
り、下記第9表記載化合物を得る。
ヘキサンから再結晶) 製造例65〜67 対応原料化合物を製造例64と同様に処理することによ
り、下記第9表記載化合物を得る。
第9表
収率 93%
製造例 68
(1) 1−(2−ピリジル)−2−メルカプトイ
ミダゾールと2−(2,4,6−)リメチルフェニル)
スルホニルアミノベンジルクロリドとを製造例1−(1
)と同様に処理することにより1−〔2−ピリジル)−
2−(2−(2,4゜6−ドリメチルフエニル)スルホ
ニルアミノベンジルチオコイミダゾールを得る。
ミダゾールと2−(2,4,6−)リメチルフェニル)
スルホニルアミノベンジルクロリドとを製造例1−(1
)と同様に処理することにより1−〔2−ピリジル)−
2−(2−(2,4゜6−ドリメチルフエニル)スルホ
ニルアミノベンジルチオコイミダゾールを得る。
収率87%
M、p、154〜156°C(イソプロピルアルコール
から再結晶) (2) 本島2g、アニソール2.5ml及びメタンス
ルホン酸15m1の混合物を室温で20時間撹拌する0
反応後、水に注加し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を
飽和食塩水にて洗浄、乾燥後、溶媒を留去することによ
り1−(2−ピリジル)−2−(2−アミノベンジルチ
オ)イミダゾール1.1gを油状物として得る。
から再結晶) (2) 本島2g、アニソール2.5ml及びメタンス
ルホン酸15m1の混合物を室温で20時間撹拌する0
反応後、水に注加し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を
飽和食塩水にて洗浄、乾燥後、溶媒を留去することによ
り1−(2−ピリジル)−2−(2−アミノベンジルチ
オ)イミダゾール1.1gを油状物として得る。
(3) 本島を製造例1− (2)と同様に処理するこ
とにより、1−(2−ピリジル)−2−(2−アミノベ
ンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
とにより、1−(2−ピリジル)−2−(2−アミノベ
ンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
M、p、145〜146°C(イソプロピルアルコール
から再結晶) 製造例 69 (1) 1−(2−ピリジル)−2−(2−アミノベ
ンジルチオ)イミダゾール4.8g、無水酢酸5ml及
びピリジン50m1の混合物を室温で16時間撹拌する
。溶媒を留去し、残香をトルエンより結晶化させ、ろ取
することにより1−(2−ピリジル)−2−(2−アセ
チルアミノベンジルチオ)イミダゾール4.31gを得
る。
から再結晶) 製造例 69 (1) 1−(2−ピリジル)−2−(2−アミノベ
ンジルチオ)イミダゾール4.8g、無水酢酸5ml及
びピリジン50m1の混合物を室温で16時間撹拌する
。溶媒を留去し、残香をトルエンより結晶化させ、ろ取
することにより1−(2−ピリジル)−2−(2−アセ
チルアミノベンジルチオ)イミダゾール4.31gを得
る。
収率 78%
M、p、150〜151°C(イソプロピルアルコール
から再結晶) (2) 本島を製造例1−(2)と同様に処理すること
により、1−(2−ピリジル)−2−(2−アセチルア
ミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
から再結晶) (2) 本島を製造例1−(2)と同様に処理すること
により、1−(2−ピリジル)−2−(2−アセチルア
ミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
M、9.172〜173°C(イソプロピルアルコール
から再結晶) 製造例 70 (1) 60%水素化ナトリウム100mgをジメチ
ルホルムアミド2mlに懸濁させ、これに水冷下で1−
(2−ピリジル)−2−(2−(24,6−1−リメチ
ルフェニル)スルホニルアミノベンジルチオコイミダゾ
ール1gのジメチルホルムアミド2ml溶液を加える。
から再結晶) 製造例 70 (1) 60%水素化ナトリウム100mgをジメチ
ルホルムアミド2mlに懸濁させ、これに水冷下で1−
(2−ピリジル)−2−(2−(24,6−1−リメチ
ルフェニル)スルホニルアミノベンジルチオコイミダゾ
ール1gのジメチルホルムアミド2ml溶液を加える。
室温で30分間撹拌した後、ヨウ化メチル320mgを
加え2時間撹拌する。反応液を水にあけ、遊離する油状
物を酢酸エチル抽出する。乾燥後、溶媒を留去し、残香
をシリカゲルカラムクロマト(l媒;n−ヘキサン:酢
酸エチル=3 : 2)で精製することにより1−(2
−ピリジル)−2−(2−(N−メチル−N−(2,4
,6−1−リメチルフェニル)スルホニルアミノコベン
ジルチオ)イミダゾール0.76gを得る。
加え2時間撹拌する。反応液を水にあけ、遊離する油状
物を酢酸エチル抽出する。乾燥後、溶媒を留去し、残香
をシリカゲルカラムクロマト(l媒;n−ヘキサン:酢
酸エチル=3 : 2)で精製することにより1−(2
−ピリジル)−2−(2−(N−メチル−N−(2,4
,6−1−リメチルフェニル)スルホニルアミノコベン
ジルチオ)イミダゾール0.76gを得る。
M、p、131〜133°C(酢酸エチルから再結晶)
(2) 本島を製造例68−(2)と同様に処理するこ
とにより1−(2−ピリジル)−2−(2−メチルアミ
ノベンジルチオ)イミダゾールを油状物として得る。
とにより1−(2−ピリジル)−2−(2−メチルアミ
ノベンジルチオ)イミダゾールを油状物として得る。
収率 92%
(3) 本島を製造例1−(2)と同様に処理すること
により、1−(2−ピリジル)−2−(2−メチルアミ
ノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
により、1−(2−ピリジル)−2−(2−メチルアミ
ノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
M、p、135〜137°C(酢酸エチルから再結晶)
製造例 71
(1) 2−(2−フタルイミドベンジルチオ)−
1,3a、4,5,6,6a−へキサヒドロ−6a−ヒ
ドロキシ−1−(2−ピリジル)シクロペンタ(d)イ
ミダゾールを製造例64−(1)と同様に処理すること
により、1,4.5.’ 6テトラヒドロー1−(2−
ピリジル)−2−(2−フタルイミドベンジルチオ)シ
クロペンタ〔d〕イミダゾールを得る。
1,3a、4,5,6,6a−へキサヒドロ−6a−ヒ
ドロキシ−1−(2−ピリジル)シクロペンタ(d)イ
ミダゾールを製造例64−(1)と同様に処理すること
により、1,4.5.’ 6テトラヒドロー1−(2−
ピリジル)−2−(2−フタルイミドベンジルチオ)シ
クロペンタ〔d〕イミダゾールを得る。
M、p、196〜197°C(クロロホルム−酢酸エチ
ルから再結晶) (2) 本島1.80g、抱水ヒドラジン0゜22g及
びメタノール100m1の混合物を5時間加熱還流する
。冷却後、溶媒を留去し、残金に塩化メチレンを加えて
不溶物をろ去する。ろ液を水洗、乾燥後溶媒を留去する
。残金の結晶を酢酸エチル−〇−ヘキサン混液から再結
晶することにより1,4,5.6−チトラヒドロー1−
(2−ピリジル) −2−(2−アミノベンジルチオ
)シクロペンタ(d)イミダゾール1.06gを淡黄色
板状晶として得る。
ルから再結晶) (2) 本島1.80g、抱水ヒドラジン0゜22g及
びメタノール100m1の混合物を5時間加熱還流する
。冷却後、溶媒を留去し、残金に塩化メチレンを加えて
不溶物をろ去する。ろ液を水洗、乾燥後溶媒を留去する
。残金の結晶を酢酸エチル−〇−ヘキサン混液から再結
晶することにより1,4,5.6−チトラヒドロー1−
(2−ピリジル) −2−(2−アミノベンジルチオ
)シクロペンタ(d)イミダゾール1.06gを淡黄色
板状晶として得る。
収率83%
M、p、121〜123°C
(3) 本島1.0g及びトリエチルアミン035gの
塩化メチレン20m1溶液に水冷下、塩化アセチルO,
,27gの塩化メチレン5ml溶液を滴下する。1時間
後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、ついで水
で洗浄し、乾燥後、溶媒を留去する。残金の結晶をクロ
ロホルム−酢酸エチル混液から再結晶することにより1
,4゜5.6−チトラヒドロー1−(2−ピリジル)−
2−(2−アセチルアミノベンジルチオ)シクロペンタ
(d)イミダゾール0.83gを得る。
塩化メチレン20m1溶液に水冷下、塩化アセチルO,
,27gの塩化メチレン5ml溶液を滴下する。1時間
後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、ついで水
で洗浄し、乾燥後、溶媒を留去する。残金の結晶をクロ
ロホルム−酢酸エチル混液から再結晶することにより1
,4゜5.6−チトラヒドロー1−(2−ピリジル)−
2−(2−アセチルアミノベンジルチオ)シクロペンタ
(d)イミダゾール0.83gを得る。
収率74%
M、p、214〜217°C(分解)
(4) 本島を製造例1−(2)と同様に処理すること
により1.4.5.6−チトラヒドロー1−(2−ピリ
ジル)−2−” (2−アセチルアミノベンジルスルフ
ィニル)シクロペンタ〔d〕イミダゾールを得る。
により1.4.5.6−チトラヒドロー1−(2−ピリ
ジル)−2−” (2−アセチルアミノベンジルスルフ
ィニル)シクロペンタ〔d〕イミダゾールを得る。
M、p、188〜191°C(分解、酢酸エチル−n−
ヘキサンから再結晶) 製造例 72 (1) 1−(4−ピリジル)−2−メルカプトイ
ミダゾールと2−フタルイミドベンジルクロリドとを製
造例1−(1)と同様に処理することにより1−(4−
ピリジル)−2−(2−フタルイミドベンジルチオ)イ
ミダゾールを得る。
ヘキサンから再結晶) 製造例 72 (1) 1−(4−ピリジル)−2−メルカプトイ
ミダゾールと2−フタルイミドベンジルクロリドとを製
造例1−(1)と同様に処理することにより1−(4−
ピリジル)−2−(2−フタルイミドベンジルチオ)イ
ミダゾールを得る。
M、p、145〜147°C(エタノールから再結晶)
(2) 本島を製造例7l−(2)と同様に処理するこ
とにより1−(4−ピリジル)−2−(2−アミノベン
ジルチオ)イミダゾールを油状物として得る。
とにより1−(4−ピリジル)−2−(2−アミノベン
ジルチオ)イミダゾールを油状物として得る。
(3) 本島を製造例71− (3)と同様に処理する
ことにより1−(4−ピリジル) −2−(2−アセチ
ルアミノベンジルチオ)イミダゾールを得る。
ことにより1−(4−ピリジル) −2−(2−アセチ
ルアミノベンジルチオ)イミダゾールを得る。
M、p、153〜155°C(酢酸エチル−n−ヘキサ
ンから再結晶) (4) 本島を製造例1− (2)と同様に処理するこ
とにより1−(4−ピリジル) −2−(2−アセチル
アミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
ンから再結晶) (4) 本島を製造例1− (2)と同様に処理するこ
とにより1−(4−ピリジル) −2−(2−アセチル
アミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
M、P、14’7〜149°C(イソプロピルアルコー
ル−イソプロピルエーテルから再結晶)製造例73 (1) 1−(2−ピリジルメチル)−2−メルカ
プトイミダゾールと2−フタルイミドベンジルクロリド
とを製造例1−(1)と同様に処理することにより1−
(2−ピリジルメチル) −2−(2−フタルイミドベ
ンジルチオ)イミダゾールを得る。
ル−イソプロピルエーテルから再結晶)製造例73 (1) 1−(2−ピリジルメチル)−2−メルカ
プトイミダゾールと2−フタルイミドベンジルクロリド
とを製造例1−(1)と同様に処理することにより1−
(2−ピリジルメチル) −2−(2−フタルイミドベ
ンジルチオ)イミダゾールを得る。
M、p、80〜83’C(エタノールから再結晶)(2
) 本島を製造例7l−(2)と同様に処理することに
より1−(2−ピリジルメチル)−2−(2−アミノベ
ンジルチオ)イミダゾールを油状物として得る。
) 本島を製造例7l−(2)と同様に処理することに
より1−(2−ピリジルメチル)−2−(2−アミノベ
ンジルチオ)イミダゾールを油状物として得る。
(3) 本島を製造例1− (2)と同様に処理するこ
とにより、1−(2−ピリジルメチル)−2−(2−ア
ミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
とにより、1−(2−ピリジルメチル)−2−(2−ア
ミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る。
製造例 74
(1) o−(1−ピロリル)ベンジルアルコフル2
.17g及びトリエチルアミン2.14gをテトラヒド
ロフラン10m1に溶解し、アルゴン気流下で一50°
Cに冷却する。これにn−ブチルリチウムのn−ヘキサ
ン溶液(15%)10゜4mlを加えて10分間反応後
、p−トルエンスルホニルクロリド3.11gのテトラ
ヒドロフラン10m1溶液を滴下する。−20°Cまで
昇温しトリエチルアミン4.28gを加えたのち、1−
(6−メドキシー2−ピリジル)−2−メルカプトイミ
ダゾール2.0gのテトラヒドロフラン溶液を加える。
.17g及びトリエチルアミン2.14gをテトラヒド
ロフラン10m1に溶解し、アルゴン気流下で一50°
Cに冷却する。これにn−ブチルリチウムのn−ヘキサ
ン溶液(15%)10゜4mlを加えて10分間反応後
、p−トルエンスルホニルクロリド3.11gのテトラ
ヒドロフラン10m1溶液を滴下する。−20°Cまで
昇温しトリエチルアミン4.28gを加えたのち、1−
(6−メドキシー2−ピリジル)−2−メルカプトイミ
ダゾール2.0gのテトラヒドロフラン溶液を加える。
1時間で室温にもどし、水を加えて酢酸エチル抽出し、
乾燥後、溶媒を留去する。
乾燥後、溶媒を留去する。
残香の油状物をシリカゲルカラムクロマト(溶媒;酢酸
エチル:n−ヘキサン−1:3)で精製することにより
、1−(6−メドキシー2−ピリジル)−2−(2−(
1−ピロリル)ベンジルチオコイミダゾール3.07g
を無色油状物として得る。
エチル:n−ヘキサン−1:3)で精製することにより
、1−(6−メドキシー2−ピリジル)−2−(2−(
1−ピロリル)ベンジルチオコイミダゾール3.07g
を無色油状物として得る。
収率 88%
Mass(+m/e):362(M ’″)(2) 本
島を製造例1−(2>と同様に処理することにより、1
−(6−メドキシー2−ピリジル)−2−(2−(1−
ピロリル)ベンジルスルフィニルコイミダゾールを得る
。
島を製造例1−(2>と同様に処理することにより、1
−(6−メドキシー2−ピリジル)−2−(2−(1−
ピロリル)ベンジルスルフィニルコイミダゾールを得る
。
M、p、112〜114°C(酢酸エチル−n−ヘキサ
ンから再結晶) 製造例75〜79 対応原料化合物を製造例74と同様に処理することによ
り、下記第10表記載化合物を得る。
ンから再結晶) 製造例75〜79 対応原料化合物を製造例74と同様に処理することによ
り、下記第10表記載化合物を得る。
第10表
(但し、nはOを表す。)
注): NMRはCDCIt中で測定。
製造例 80
(1) 1−(5−ニトロ−2−ピリジル)−2−
(2−(ジメチルアミノ)ベンジルチオ)イミダゾール
19.6gを濃塩酸−70%エタノール(1:5)の混
液400dに溶解する。該溶液に80°Cにて塩化第一
スズ・2水和物82.7gの水100d溶液を滴下し、
同温にて1時間撹拌後、水酸化ナトリウム水溶液でアル
カリ性とし、不溶物をろ去する。ろ液を酢酸エチルで抽
出し、水洗、乾燥後溶媒を留去する。残香をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶媒:クロロホルム−メタ
ノール(30:1))で精製し、エーテルで結晶化した
後結晶をろ取することにより、1−(5−アミノ−2−
ピリジル)−2−(2−(ジメチルアミノ)ベンジルチ
オコイミダゾール6゜27gを得る。
(2−(ジメチルアミノ)ベンジルチオ)イミダゾール
19.6gを濃塩酸−70%エタノール(1:5)の混
液400dに溶解する。該溶液に80°Cにて塩化第一
スズ・2水和物82.7gの水100d溶液を滴下し、
同温にて1時間撹拌後、水酸化ナトリウム水溶液でアル
カリ性とし、不溶物をろ去する。ろ液を酢酸エチルで抽
出し、水洗、乾燥後溶媒を留去する。残香をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶媒:クロロホルム−メタ
ノール(30:1))で精製し、エーテルで結晶化した
後結晶をろ取することにより、1−(5−アミノ−2−
ピリジル)−2−(2−(ジメチルアミノ)ベンジルチ
オコイミダゾール6゜27gを得る。
M、p、 134〜138°C
(2) 本島を製造例1−(2)と同様に処理すること
により、1−(5−アミノ−2−ピリジル)−2−[2
−(ジメチルアミノ)ベンジルスルフィニルコイミダゾ
ールを得る。
により、1−(5−アミノ−2−ピリジル)−2−[2
−(ジメチルアミノ)ベンジルスルフィニルコイミダゾ
ールを得る。
M、p、 t4o〜143°C(エタノール−エー
テルから再結晶) 製造例 81 (1) 1−(5−ニトロ−2−ピリジル)−2−
メルカプトイミダゾールと2−モルホリノベンジルクロ
リドとを製造例1−(1)と同様に処理することにより
、1−(5−ニトロ−2−ピリジル)−2−(2−モル
ホリノベンジルチオ)イミダゾールを得る。
テルから再結晶) 製造例 81 (1) 1−(5−ニトロ−2−ピリジル)−2−
メルカプトイミダゾールと2−モルホリノベンジルクロ
リドとを製造例1−(1)と同様に処理することにより
、1−(5−ニトロ−2−ピリジル)−2−(2−モル
ホリノベンジルチオ)イミダゾールを得る。
M、p、 199〜202°C(クロロホルム−n
−ヘキサンから再結晶) (2) 本島7.95gを酢酸120m1に溶解し、1
0%パラジウム−炭素2.5gを加えて常温常圧上接触
還元する。反応後、触媒をろ去し、溶媒を留去する。残
香に水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し
て析出する結晶をろ取し、クロロホルム−n−ヘキサン
混液から再結晶することにより1−(5−アミノ−2−
ピリジル)−2−(2−モルホリノベンジルチオ)イミ
ダゾール5.92gを得る。
−ヘキサンから再結晶) (2) 本島7.95gを酢酸120m1に溶解し、1
0%パラジウム−炭素2.5gを加えて常温常圧上接触
還元する。反応後、触媒をろ去し、溶媒を留去する。残
香に水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し
て析出する結晶をろ取し、クロロホルム−n−ヘキサン
混液から再結晶することにより1−(5−アミノ−2−
ピリジル)−2−(2−モルホリノベンジルチオ)イミ
ダゾール5.92gを得る。
収率 81%
M、p、 178〜181°C
(3) 本島を製造例1− (2)と同様に処理するこ
とにより、1−(5−アミノ−2−ピリジル)−2−(
2−モルホリノベンジルスルフィニル)イミダゾールを
得る。
とにより、1−(5−アミノ−2−ピリジル)−2−(
2−モルホリノベンジルスルフィニル)イミダゾールを
得る。
M、p、 190〜192°C(分解、クロロボル
ム−n−ヘキサンから再結晶) 製造例 82 (1) 1−(5−アミノ−2−ピリジル)−2−
(2−モルホリノベンジルチオ)イミダゾールを製造例
7l−(3)と同様に処理することにより、1−(5−
アセチルアミノ−2−ピリジル> −2−(2−モルホ
リノベンジルチオ)イミダゾールを得る。
ム−n−ヘキサンから再結晶) 製造例 82 (1) 1−(5−アミノ−2−ピリジル)−2−
(2−モルホリノベンジルチオ)イミダゾールを製造例
7l−(3)と同様に処理することにより、1−(5−
アセチルアミノ−2−ピリジル> −2−(2−モルホ
リノベンジルチオ)イミダゾールを得る。
収率 78%
M、p、164〜167°C(クロロホルム−〇−へキ
サンから再結晶) (2) 本島を製造例1−(2)と同様に処理すること
により、1−(5−アセチルアミノ−2−ビリジル)−
2−(2−モルホリノベンジルスルフィニル)イミダゾ
ールを得る。
サンから再結晶) (2) 本島を製造例1−(2)と同様に処理すること
により、1−(5−アセチルアミノ−2−ビリジル)−
2−(2−モルホリノベンジルスルフィニル)イミダゾ
ールを得る。
M、p、 207〜209”C(分解、クロロホル
ム−n−ヘキサンから再結晶) 製造例83〜86 対応原料化合物を製造例1− (1)、81− (2L
71− (3)及び1−(2)と同様に処理すること
により、下記第11表記載化合物を得る。
ム−n−ヘキサンから再結晶) 製造例83〜86 対応原料化合物を製造例1− (1)、81− (2L
71− (3)及び1−(2)と同様に処理すること
により、下記第11表記載化合物を得る。
第11表
(但し、nは0を表す、)
製造例 87
(1) 1−(2−ピリジルメチル)−2−(2−
アミノベンジルチオ)イミダゾールを製造例7l−(3
)と同様に処理することにより、1−(2−ピリジルメ
チル)−2−(2−アセチルアミノベンジルチオ)イミ
ダゾールを得る。
アミノベンジルチオ)イミダゾールを製造例7l−(3
)と同様に処理することにより、1−(2−ピリジルメ
チル)−2−(2−アセチルアミノベンジルチオ)イミ
ダゾールを得る。
(2) 本島を製造例L−(2)と同様に処理すること
により、1−(2−ピリジルメチル)−2−(2−アセ
チルアミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る
。
により、1−(2−ピリジルメチル)−2−(2−アセ
チルアミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る
。
M、p、146〜148°C(酢酸エチル−n−ヘキサ
ンから再結晶) 製造例88 (1) 1−(5−アミノ−2−ピリジル)−2−
(2−(ジメチルアミノ)ベンジルチオコイミダゾール
0.98g、 トリエチルアミン1d及び塩化メチレ
ン30dの混合物に水冷下、アセチルクロリド0.26
dを滴下する。該混合物を同温にて2時間撹拌後、水及
び飽和炭酸水素す) IJウム水溶液で洗浄し、乾燥後
溶媒を留去する。残香をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー〔溶媒:クロロホルム−メタノール(30:1)
で精製し、イソプロピルエーテルで結晶化した後結晶を
ろ取することにより、1−〔5−アセチルアミノ−2−
ピリジル)−2−(2−(ジメチルアミノ)ベンジルチ
オコイミダゾール0.82gを得る。
ンから再結晶) 製造例88 (1) 1−(5−アミノ−2−ピリジル)−2−
(2−(ジメチルアミノ)ベンジルチオコイミダゾール
0.98g、 トリエチルアミン1d及び塩化メチレ
ン30dの混合物に水冷下、アセチルクロリド0.26
dを滴下する。該混合物を同温にて2時間撹拌後、水及
び飽和炭酸水素す) IJウム水溶液で洗浄し、乾燥後
溶媒を留去する。残香をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー〔溶媒:クロロホルム−メタノール(30:1)
で精製し、イソプロピルエーテルで結晶化した後結晶を
ろ取することにより、1−〔5−アセチルアミノ−2−
ピリジル)−2−(2−(ジメチルアミノ)ベンジルチ
オコイミダゾール0.82gを得る。
M、p、 137〜139°C
(2) 本島を製造例1−(2)と同様に処理すること
により、1−(5−アセチルアミノ−2−ピリジル’)
−2−(2−(ジメチルアミノ)ベンジルスルフィニル
〕イミダゾールヲ得る。
により、1−(5−アセチルアミノ−2−ピリジル’)
−2−(2−(ジメチルアミノ)ベンジルスルフィニル
〕イミダゾールヲ得る。
M、p、 168〜170°C(エタノール−エーテ
ルから再結晶) 製造例 89 (1) ギ酸2.5mlに無水酢酸1.4gを加え、6
0°Cで30分間加温する。この溶液を氷冷し、1−(
4,6−シメチルー2−ピリジル)−2−(2−アミノ
ベンジルチオ)イミダゾール1.07gのギ酸4ml溶
液を加え、室温で1時間撹拌する。反応後、溶媒を留去
し、残香に水を加え、炭酸カリウムでアルカリ性とする
。酢酸エチルで抽出し、抽出液を乾燥後溶媒を留去する
。
ルから再結晶) 製造例 89 (1) ギ酸2.5mlに無水酢酸1.4gを加え、6
0°Cで30分間加温する。この溶液を氷冷し、1−(
4,6−シメチルー2−ピリジル)−2−(2−アミノ
ベンジルチオ)イミダゾール1.07gのギ酸4ml溶
液を加え、室温で1時間撹拌する。反応後、溶媒を留去
し、残香に水を加え、炭酸カリウムでアルカリ性とする
。酢酸エチルで抽出し、抽出液を乾燥後溶媒を留去する
。
残香をシリカゲルカラムクロマト(溶媒;酢酸エチル:
n−ヘキサン=1′:1)で精製する。得られた粗結晶
を酢酸エチル−n−ヘキサン混液から再結晶することに
より1−(4,6−シメチルー2−ピリジル)−2−(
2−ホルミルアミノベンジルチオ)イミダゾール0.6
4gを得る。
n−ヘキサン=1′:1)で精製する。得られた粗結晶
を酢酸エチル−n−ヘキサン混液から再結晶することに
より1−(4,6−シメチルー2−ピリジル)−2−(
2−ホルミルアミノベンジルチオ)イミダゾール0.6
4gを得る。
収率55%
M、p、124〜126.5°C
(2) 本島を製造例1− (2)と同様に処理するこ
とにより、1−(4,6−シメチルー2−ピリジル)−
2−(2−ホルミルアミノベンジルスルフィニル)イミ
ダゾールを得る。
とにより、1−(4,6−シメチルー2−ピリジル)−
2−(2−ホルミルアミノベンジルスルフィニル)イミ
ダゾールを得る。
M、p、 160〜162°C(分解、塩化メチレ
ン−n−ヘキサンから再結晶) 製造例 90 (1) 1−(2−ピリ、ジル)−2−(2−アミ
ノベンジルチオ)イミダゾール1.1gのピリジン10
m1溶液に無水プロピオン酸0.7gを加え、室温で1
夜撹拌する。反応後、溶媒を留去して、得られた油状物
をシリカゲルカラムクロマト(溶媒;酢酸エチル:n−
ヘキサン=2 : 1)で精製後、イソプロピルアルコ
ール−イソプロピルエーテル混液から再結晶することに
より1−(2−ピリジル)−2−(2−プロピオニルア
ミノベンジルチオ)イミダゾール1.1gを得る。
ン−n−ヘキサンから再結晶) 製造例 90 (1) 1−(2−ピリ、ジル)−2−(2−アミ
ノベンジルチオ)イミダゾール1.1gのピリジン10
m1溶液に無水プロピオン酸0.7gを加え、室温で1
夜撹拌する。反応後、溶媒を留去して、得られた油状物
をシリカゲルカラムクロマト(溶媒;酢酸エチル:n−
ヘキサン=2 : 1)で精製後、イソプロピルアルコ
ール−イソプロピルエーテル混液から再結晶することに
より1−(2−ピリジル)−2−(2−プロピオニルア
ミノベンジルチオ)イミダゾール1.1gを得る。
収率 83%
M、p、98〜100°C
(2) 本島を製造例1−(2)と同様に処理すること
により、■−(2−ピリジル)−−2−(2−プロピオ
ニルアミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る
。
により、■−(2−ピリジル)−−2−(2−プロピオ
ニルアミノベンジルスルフィニル)イミダゾールを得る
。
M、p、155〜156°C(クロロホルム−イソプロ
ピルエーテルから再結晶) 製造例 91 (1) 1−(3−ヒドロキシ−2−ピリジル)−
2−(2−(ジメチルアミノ)ペンジルチオ〕イミダゾ
ール2.94g及びトリエチルアミン3.76m1の塩
化メチレン100m1溶液に水冷下で塩化アセチル0.
96m1を滴下する。2時間後、反応液を水洗、乾燥後
溶媒を留去する。
ピルエーテルから再結晶) 製造例 91 (1) 1−(3−ヒドロキシ−2−ピリジル)−
2−(2−(ジメチルアミノ)ペンジルチオ〕イミダゾ
ール2.94g及びトリエチルアミン3.76m1の塩
化メチレン100m1溶液に水冷下で塩化アセチル0.
96m1を滴下する。2時間後、反応液を水洗、乾燥後
溶媒を留去する。
残香をシリカゲルカラムクロマト(溶媒;クロロホルム
:アセトン=30:1)で精製後、酢酸エチル−n−ヘ
キサン混液から再結晶することにより1−(3−アセト
キシ−2−ピリジル)−2=〔2−(ジメチルアミノ)
ベンジルチオコイミダゾール2.08gを無色針状晶と
して得る。
:アセトン=30:1)で精製後、酢酸エチル−n−ヘ
キサン混液から再結晶することにより1−(3−アセト
キシ−2−ピリジル)−2=〔2−(ジメチルアミノ)
ベンジルチオコイミダゾール2.08gを無色針状晶と
して得る。
収率 63%
M、p、85〜87°C
(2) 本島を製造例1−(2)と同様に処理すること
により、1−(3−アセトキシ−2−ピリジル)−2−
(2−(ジメチルアミノ)ヘンシルスルフィニル)イミ
ダゾールを油状物として得る。
により、1−(3−アセトキシ−2−ピリジル)−2−
(2−(ジメチルアミノ)ヘンシルスルフィニル)イミ
ダゾールを油状物として得る。
製造例 92
(1) 1−(3−ヒドロキシ−2−ピリジル)−
2−(2−モルホリノベンジルチオ)イミダゾールを製
造例91と同様に処理して1− (3−アセトキシ−2
−ピリジル)−2−(2−モルホリノベンジルスルフィ
ニル)イミダゾールを得る。
2−(2−モルホリノベンジルチオ)イミダゾールを製
造例91と同様に処理して1− (3−アセトキシ−2
−ピリジル)−2−(2−モルホリノベンジルスルフィ
ニル)イミダゾールを得る。
M、p、104〜107°C(酢酸エチル−n−ヘキサ
ン混液から再結晶) 製造例 93 (1) 1−(3−ヒドロキシ−2−ピリジル)−
2−[2−(ジメチルアミノ)ベンジルチオ)イミダゾ
ール3.26gをジメチルホルムアミド100m1に溶
解し、これに60%水素化ナトリウム0.48gを添加
する。20分間室温で撹拌後臭化イソプロピル1.3m
lを滴下し、室温で17時間撹拌する。反応液を氷水に
注ぎ、酢酸エチル抽出し、抽出液を水洗、乾燥後、溶媒
を留去する。残香を酢酸エチル−n−ヘキサン混液から
再結晶することにより1−(3−イソプロポキシ−2−
ピリジル)−2−(2−(ジメチルアミノ)ベンジルチ
オコイミダゾール2.47gを得る。
ン混液から再結晶) 製造例 93 (1) 1−(3−ヒドロキシ−2−ピリジル)−
2−[2−(ジメチルアミノ)ベンジルチオ)イミダゾ
ール3.26gをジメチルホルムアミド100m1に溶
解し、これに60%水素化ナトリウム0.48gを添加
する。20分間室温で撹拌後臭化イソプロピル1.3m
lを滴下し、室温で17時間撹拌する。反応液を氷水に
注ぎ、酢酸エチル抽出し、抽出液を水洗、乾燥後、溶媒
を留去する。残香を酢酸エチル−n−ヘキサン混液から
再結晶することにより1−(3−イソプロポキシ−2−
ピリジル)−2−(2−(ジメチルアミノ)ベンジルチ
オコイミダゾール2.47gを得る。
収率 67%
M、p、85〜87°C
(2) 本島を製造例1− (2)と同様に処理するこ
とにより、1−(3−イソプロポキシ−2ピリジル)−
2−(2−(ジメチルアミノ)ベンジルスルフィニルコ
イミダゾールを油状物として得る。
とにより、1−(3−イソプロポキシ−2ピリジル)−
2−(2−(ジメチルアミノ)ベンジルスルフィニルコ
イミダゾールを油状物として得る。
製造例94
1−(3−ヒドロキシ−2−ピリジル)−2=(2−モ
ルホリノベンジルチオ)イミダゾールを製造例93と同
様に処理することにより1−(3イソプロポキシ−2−
ピリジル)−2−(2モルホリノベンジルスルフィニル
)イミダゾールを得る。
ルホリノベンジルチオ)イミダゾールを製造例93と同
様に処理することにより1−(3イソプロポキシ−2−
ピリジル)−2−(2モルホリノベンジルスルフィニル
)イミダゾールを得る。
M、p、120〜122°C(酢酸エチル−1−ヘキサ
ン混液から再結晶) (原料化合物の調製) 参考例 1 (1)2−アミノピリジン3.76g、2.2−ジェト
キシエチルイソチオシアネート7gをトルエン中還流す
る。溶媒を留去し、残香を酢酸エチル−n−ヘキサン混
液から再結晶してN−(22−ジェトキシエチル)−N
’−(2−ピリジル)チオウレア9gを得る。
ン混液から再結晶) (原料化合物の調製) 参考例 1 (1)2−アミノピリジン3.76g、2.2−ジェト
キシエチルイソチオシアネート7gをトルエン中還流す
る。溶媒を留去し、残香を酢酸エチル−n−ヘキサン混
液から再結晶してN−(22−ジェトキシエチル)−N
’−(2−ピリジル)チオウレア9gを得る。
M、p、 126〜128°C
(2)上記(1)の生成物8.94gと濃塩酸少量の酢
酸溶液を還流後溶媒を留去する。残香を水に溶解し、炭
酸水素ナトリウムを加え、析出晶をろ取して1−(2−
ピリジル)−2−メルカプトイミダゾール4.91gを
得る。
酸溶液を還流後溶媒を留去する。残香を水に溶解し、炭
酸水素ナトリウムを加え、析出晶をろ取して1−(2−
ピリジル)−2−メルカプトイミダゾール4.91gを
得る。
M、p、 159〜161°C(イソプロピルアル
コール−イソプロピルエーテル−n−ヘキサンから再結
晶) 参考例 2〜24 対応原料化合物を参考例1と同様に処理することにより
、下記第12表記載化合物を得る。
コール−イソプロピルエーテル−n−ヘキサンから再結
晶) 参考例 2〜24 対応原料化合物を参考例1と同様に処理することにより
、下記第12表記載化合物を得る。
第12表
(但し、参考例2においてはnはl、参考例3〜23に
おいてはnはO1参考例24においてはnは2を表し、
R1及びRzはともに水素原子、Raはエチル基、Zは
硫黄原子を表す。) 参考例 25 (1)水素化ホウ素ナトリウム34.05gのテトラヒ
ドロフラン懸濁液にO−ジメチルカルバモイル安息香酸
57.96gのテトラヒドロフラン溶液を滴下する。室
温で反応後、三フッ化ホウ素エーテラート170.3g
を滴下し、還流する。今後、蓚酸54gの水−メタノー
ル混液を加え、更に還流する。反応液を濃縮し、アルカ
リ性条件下酢酸エチル抽出する。抽出液から溶媒を留去
し、残香を減圧蒸溜して0−ジメチルアミノメチルベン
ジルアルコール19.04gを得る。
おいてはnはO1参考例24においてはnは2を表し、
R1及びRzはともに水素原子、Raはエチル基、Zは
硫黄原子を表す。) 参考例 25 (1)水素化ホウ素ナトリウム34.05gのテトラヒ
ドロフラン懸濁液にO−ジメチルカルバモイル安息香酸
57.96gのテトラヒドロフラン溶液を滴下する。室
温で反応後、三フッ化ホウ素エーテラート170.3g
を滴下し、還流する。今後、蓚酸54gの水−メタノー
ル混液を加え、更に還流する。反応液を濃縮し、アルカ
リ性条件下酢酸エチル抽出する。抽出液から溶媒を留去
し、残香を減圧蒸溜して0−ジメチルアミノメチルベン
ジルアルコール19.04gを得る。
B、p、106〜109°C(4mmHg)(2)本島
2.9gの塩化メチレン溶液に塩化チオニル2.89g
を滴下する。室温で反応後反応液をエーテルで希釈し、
析出晶をろ取して、0−ジメチルアミノメチルベンジル
クロリド塩酸塩3.78gを得る。
2.9gの塩化メチレン溶液に塩化チオニル2.89g
を滴下する。室温で反応後反応液をエーテルで希釈し、
析出晶をろ取して、0−ジメチルアミノメチルベンジル
クロリド塩酸塩3.78gを得る。
M、p、143〜147℃
参考例 26
水素化リチウムアルミニウム2.4gのエーテル懸濁液
に水冷下、o−(1−ピロリル)安息香酸エチル9gの
エーテル溶液を滴下し、反応させる。水冷下、水及び硫
酸ナトリウム水溶液を加えて不溶物をろ去後、溶媒を留
去し、残香を減圧蒸留してo−(1−ピロリル)ベンジ
ルアルコール6.3gを得る。
に水冷下、o−(1−ピロリル)安息香酸エチル9gの
エーテル溶液を滴下し、反応させる。水冷下、水及び硫
酸ナトリウム水溶液を加えて不溶物をろ去後、溶媒を留
去し、残香を減圧蒸留してo−(1−ピロリル)ベンジ
ルアルコール6.3gを得る。
B、p、 120−135°C(3−4mmHg)参考
例 27 (1) 2−アミノシクロヘキサノン塩酸塩682g
、2−ビリジルインチオシアネートニ量体6.21g及
びトルエン100m1の混合物を加熱撹拌する。内温を
50°Cに下げ、トリエチルアミン4.61gを滴下し
たのちさらに反応を続ける。反応液に水を加え、酢酸エ
チル抽出する。
例 27 (1) 2−アミノシクロヘキサノン塩酸塩682g
、2−ビリジルインチオシアネートニ量体6.21g及
びトルエン100m1の混合物を加熱撹拌する。内温を
50°Cに下げ、トリエチルアミン4.61gを滴下し
たのちさらに反応を続ける。反応液に水を加え、酢酸エ
チル抽出する。
抽出液を飽和食塩水で洗浄、乾燥後、溶媒を留去するこ
とによりN−(2−ピリジル) −N’ −(2−オキ
ソシクロヘキシル)チオウレア8,2gを得る。
とによりN−(2−ピリジル) −N’ −(2−オキ
ソシクロヘキシル)チオウレア8,2gを得る。
収率72%
M、p、149〜151°C
(2) 本島を製造例64−(1)と同様に処理するこ
とにより2−メルカプト−1=(2−ピリジル)−4,
5,6,7−チトラヒドロペンズイミダゾールを得る。
とにより2−メルカプト−1=(2−ピリジル)−4,
5,6,7−チトラヒドロペンズイミダゾールを得る。
収率94%
M、p、203〜204°C(酢酸エチル−n−ヘキサ
ンから再結晶) 参考例 2日 2−アミノシクロペンタノン塩酸塩を参考例27−(1
)と同様に処理することにより2−メルカプト−1,3
a、4,5,6.6a−ヘキサヒドロ−6a−ヒドロキ
シ−1−(2−ピリジル)シクロペンタ(d)イミダゾ
ールを得る。
ンから再結晶) 参考例 2日 2−アミノシクロペンタノン塩酸塩を参考例27−(1
)と同様に処理することにより2−メルカプト−1,3
a、4,5,6.6a−ヘキサヒドロ−6a−ヒドロキ
シ−1−(2−ピリジル)シクロペンタ(d)イミダゾ
ールを得る。
収率55%
M、T)、126〜127°C
参考例 29〜33
2−メルカプト−1,3a、4,5,6.6aへキサヒ
ドロ−6a−ヒドロキシ−1−(2−ピリジル)シクロ
ペンタ(d)イミダゾールと対応原料化合物とを製造例
1−(1)と同様に処理することにより、下記第13表
記載化合物を得る。
ドロ−6a−ヒドロキシ−1−(2−ピリジル)シクロ
ペンタ(d)イミダゾールと対応原料化合物とを製造例
1−(1)と同様に処理することにより、下記第13表
記載化合物を得る。
第13表
参考例 34
(1) Q−フルオロ安息香酸エチル24.2gとイ
ミダゾール9.8gを水素化ナトリウムの存在下加熱し
て0−イミダゾリル安息香酸エチル23gを得る。
ミダゾール9.8gを水素化ナトリウムの存在下加熱し
て0−イミダゾリル安息香酸エチル23gを得る。
B、p、165〜167°C(2mmHg)(2) 本
島5gを参考例26と同様に処理して0−イミダゾリル
ベンジルアルコール3.4gを得る。
島5gを参考例26と同様に処理して0−イミダゾリル
ベンジルアルコール3.4gを得る。
(3) 本島3.4gを参考例25−(2)と同様に処
理して0−イミダゾリルベンジルクロリド塩酸塩3.3
gを得る。
理して0−イミダゾリルベンジルクロリド塩酸塩3.3
gを得る。
M、p、160〜161°C(エタノール−エーテルか
ら再結晶)
ら再結晶)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (但し、環Aは置換または非置換ピリジル基、環Bは置
換または非置換フェニル基を表し、R^1及びR^2は
ともに水素原子であるかまたは互いに末端で結合して式
−(CH_2)_q−で示される基を形成し、nは0、
1または2、qは3または4を表す。 で示されるイミダゾール誘導体またはその薬理的に許容
しうる塩を有効成分として含有する抗潰瘍剤。 2、環Aがハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、フェニル低級アルコキシ基、ニトロ基、アミノ
基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルカノイルオキ
シ基、シアニド基、トリハロゲノ低級アルキル基、トリ
ハロゲノ低級アルコキシ基及び水酸基から選ばれる1つ
または2つの基で置換されていてもよい2−、または4
−ピリジル基;環Bがアミノ基、モノ−またはジ−低級
アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、シクロ
アルキルアミノ基、ホルミルアミノ基及び含窒素5〜6
員環複素単環式基から選ばれる基で置換されていてもよ
いフェニル基である請求項1記載の抗潰瘍剤。 3、環Aが低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニ
ル低級アルコキシ基、アミノ基及び低級アルカノイルア
ミノ基から選ばれる1つまたは2つの基で置換されてい
てもよい2−、または4−ピリジル基;環Bがアミノ基
、モノ−またはジ−低級アルキルアミノ基、低級アルカ
ノイルアミノ基、ホルミルアミノ基及び含窒素5〜6員
環複素単環式基から選ばれる基で置換されていてもよい
フェニル基であり、R^1及びR^2はともに水素原子
であるかまたは互いに末端で結合してトリメチレン基を
形成する請求項1記載の抗潰瘍剤。 4、環Aが低級アルキル基及び低級アルコキシ基から選
ばれる1つまたは2つの基で置換されていてもよい2−
、または4−ピリジル基;環Bがアミノ基、モノ−また
はジ−低級アルキルアミノ基、低級アルカノイルアミノ
基、モルホリノ基、ピペリジノ基及びピロリル基から選
ばれる基で置換されたフェニル基である請求項3記載の
抗潰瘍剤。 5、環Aが低級アルキル基で置換されていてもよい2−
ピリジル基;環Bがアミノ基、モノ−またはジ−低級ア
ルキルアミノ基及びピロリル基から選ばれる基で置換さ
れたフェニル基である請求項3記載の抗潰瘍剤。 6、nが0である請求項1〜5記載の抗潰瘍剤。 7、環Aがメチル基で置換された2−ピリジル基;環B
がアミノ基、モノ−またはジ−低級アルキルアミノ基か
ら選ばれる基で置換されたフェニル基であり、R^1及
びR^2はともに水素原子であり、nが0である請求項
1記載の抗潰瘍剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13462888 | 1988-05-31 | ||
| JP63-134628 | 1988-05-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0249727A true JPH0249727A (ja) | 1990-02-20 |
| JPH0660098B2 JPH0660098B2 (ja) | 1994-08-10 |
Family
ID=15132815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13336289A Expired - Lifetime JPH0660098B2 (ja) | 1988-05-31 | 1989-05-25 | 抗潰瘍剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0660098B2 (ja) |
-
1989
- 1989-05-25 JP JP13336289A patent/JPH0660098B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0660098B2 (ja) | 1994-08-10 |
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