JPH024799B2 - - Google Patents

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JPH024799B2
JPH024799B2 JP56075794A JP7579481A JPH024799B2 JP H024799 B2 JPH024799 B2 JP H024799B2 JP 56075794 A JP56075794 A JP 56075794A JP 7579481 A JP7579481 A JP 7579481A JP H024799 B2 JPH024799 B2 JP H024799B2
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chamber
wall
ejector
nozzle
chambers
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Teru Piitaa
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Piab AB
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Piab AB
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04FPUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
    • F04F5/00Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
    • F04F5/14Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid
    • F04F5/16Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids
    • F04F5/20Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids for evacuating
    • F04F5/22Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids for evacuating of multi-stage type

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Disintegrating Or Milling (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
  • Manipulator (AREA)
  • Fluid-Pressure Circuits (AREA)
  • Motorcycle And Bicycle Frame (AREA)
  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、エジエクタ、特に、幾つかのエジエ
クタノズルが継続的に位置しまた或る実施例で
は、相互に並んで位置する所謂多重エジエクタに
関する。
該エジエクタの扶助により、約4重量Kg/cm2
正圧を使用するとき、実際の大気圧力の約50%相
当する負圧に達することが不可能であつた。しか
しながら、対応する関係に関連して一層低い負圧
に到達することは、切実な要求であつた。
該切実な要求は、スエーデン国特許出願第
7905309−6号に記載される態様のエジエクタノ
ズルの配置によつてある程度まで到達されたが、
これに関連して実際の気圧の約7%に相当する負
圧が得られた。しかしながら、電球の製造、食品
の冷凍乾燥等に関連する様な多くの使用分野に対
し、この良好な値は、不満足なものである。
負圧を使用する製造工程に関連して、必ずしも
達成されない問題がある。負圧を導くには、一般
に、正圧を導くよりも大きい寸法の導管を必要と
する。通常の真空ポンプは、やゝ嵩張り、負圧が
所望されるチヤンバないし物体に直接結合で設置
し得ない。その結果は、大きな寸法の導管が、ポ
ンプとチヤンバないし物体との間に延長されねば
ならないことである。
本発明が関連する型式のエジエクタは、使用個
所に直接結合して設置可能な小さく軽いユニツト
である。これ等が正圧、即ち、圧縮空気で駆動さ
れることに基づき、これ等は、圧縮空気の細い供
給導管のみを必要とすると同時に、通常の真空ポ
ンプに関連して生じ得る様な電気的な故障による
問題の危険は存在しない。更に、この種のエジエ
クタは、真空ポンプに比較して、構造が簡単で作
動の信頼性が高いものであるとともに、所定の負
圧を短時間で得ることができる利点がある。
本発明は、この種の従来のエジエクタに比較し
てより低い負圧(例えば大気圧の1%以下に相当
する負圧)であつて、従来の真空ポンプを使用し
なければ得られなかつたような低い負圧を得るこ
とができるエジエクタを提供することを目的とす
るものである。
即ち、本発明によれば、直列に配列され隔壁に
よつて真空収集チヤンバから分離されている複数
のチヤンバを包囲するハウジングを有し、前記複
数のチヤンバは、圧力供給チヤンバを構成する第
1チヤンバと、第1の壁によつて第1チヤンバか
ら分離されている第2チヤンバと、少なくとも1
つの他のチヤンバとを有し、前記他のチヤンバ
が、第2の壁によつて前記第2チヤンバから分離
されるとともに、該第2の壁から隔てられた第3
の壁を有しているエジエクタにおいて、前記第1
チヤンバから前記他のチヤンバへ向かう流れの方
向へ直列に配列された少なくとも1組のエジエク
タノズルと、前記エジエクタノズルから隔てられ
ていて前記第1チヤンバから前記他のチヤンバへ
向かう流れに方向へ直列に配列されている少なく
とも1組の補助ノズルとを具備しており、前記エ
ジエクタノズルが、第1の壁と第2の壁とを貫通
して第1チヤンバから第3チヤンバへ延びる第1
のノズルと、前記第3の壁を貫通して前記他のチ
ヤンバから延びる第2のノズルとを有するととも
に、前記補助ノズルが、前記第1の壁を貫通して
第1チヤンバから第2チヤンバへ延びる第1のノ
ズルと、前記第2の壁を貫通して第2チヤンバか
ら前記他のチヤンバへ延びる第2のノズルとを有
しており、また、前記隔壁を貫通して前記真空収
集チヤンバから前記第2チヤンバへ延びる第1ポ
ート、及び前記隔壁を貫通して前記真空収集チヤ
ンバから前記他のチヤンバへ延びる第2ポート
と、前記他のチヤンバ内に配列されて前記第2ポ
ートと共働するチエツク弁と、が設けられている
ことを特徴とするエジエクタが提供される。
即ち、簡単に述べれば、上記エジエクタノズル
に加えて上記補助ノズルを設けた構成を採用する
ことによつて、例えば5ないし10ミリバール以下
の負圧を得ることができる。
本発明においては、第1チヤンバに供給された
加圧空気は前記エジエクタノズルの第1及び第2
のノズルを通つて流れる。このときに前記他のチ
ヤンバに負圧が発生し、それによつて前記チエツ
ク弁が開いてそれを通る気流が生じ、真空収集チ
ヤンバに負圧が生じる。前記他のチヤンバの負圧
が真空収集チヤンバの負圧にほぼ等しくなるとチ
エツク弁が閉じる。このときには、第1ポートを
通して真空収集チヤンバに連通している第2チヤ
ンバに、真空収集チヤンバと同様の負圧が生じて
いる。この状態になつたときには、第1チヤンバ
と前記他のチヤンバとの圧力差はかなり大きくな
つているため、その後加圧空気がエジエクタノズ
ルを通つて流れつづける間に前記補助ノズルの第
1及び第2のノズルを通る気流が生じて第2チヤ
ンバの負圧が低減し、それに応じて真空収集チヤ
ンバの負圧も低減していく。このようにして、真
空収集チヤンバに、上記したような低い負圧が得
られるのである。
本発明は、添付図面を参照して下記に詳細に説
明される。
図示の実施例では、多重エジエクタ1は、直列
に位置する5つのチヤンバ、即ち第1チヤンバ
3、第2チヤンバ4、第3チヤンバ5、第4チヤ
ンバ6及び第5チヤンバ7を有しほゞ平行6面体
の形状のハウジング2を備えている。1組のエジ
エクタノズルを構成する第1、第2、第3及び第
4のノズル12,13,14,15は、それぞれ
チヤンバ間の壁8,9,10,11及びハウジン
グの壁を貫通して延びている。該ノズル12−1
5は、共通軸線上に位置する。ハウジング2の底
部の下には、第1、第2、第3及び第4のポート
17,18,19及び20を介してチヤンバ4,
5,6,7に夫々連通する独立のチヤンバ、即ち
真空収集チヤンバ16がある。ポート18,1
9,20は、チエツク弁即ちフラツプ弁21,2
2,23の扶助で夫々閉鎖可能である。
第1チヤンバ3は圧力供給チヤンバになつてお
り、このチヤンバには、図示されない圧縮空気用
入口があり、直列の最後のノズル15は、圧縮空
気の出口として作用する。第1ノズル12は、第
1チヤンバ3から第2チヤンバ4を貫通して第3
チヤンバ5に開口する。この配置を除き、多重エ
ジエクタの残部は、通常の態様で構成される。
第1チヤンバ3と第2チヤンバ4との間の壁
8、及び第2チヤンバ4と第3チヤンバ5との間
の壁9には、補助ノズルを構成する第1のノズル
24と第2のノズル25とが設けられている。
多重エジエクタは、次の如く作用する。
圧縮空気は、チヤンバ3に供給され、ノズル1
2,13,14,15を通つて流れる。この時に
チヤンバ5,6,7内に負圧が発生し、それによ
つてフラツプ弁21,22,23が開口し、真空
収集チヤンバ16に負圧が生じる。チヤンバ7の
負圧がチヤンバ16の負圧にほぼ等しくなるとフ
ラツプ弁23が閉じ、その後チヤンバ16の負圧
が低減していくにつれてフラツプ弁22,21が
閉じていく。
チヤンバ5の負圧がチヤンバ16の負圧とほぼ
等しくなつたときのチヤンバ16の負圧の値は、
従来のエジエクタにおいて得られる負圧の値と同
様のものである。
図示実施例においては、チヤンバ16がポート
17を介してチヤンバ4に連通しているために、
チヤンバ5と16との負圧が等しくなつたときに
は、チヤンバ4にチヤンバ16と同様の負圧が生
じている。そして、この状態になつた後にノズル
24,25の作用によつてチヤンバ16の負圧が
さらに低減していくようになつている。即ち、こ
の状態にあつたときには、ノズル24,25の両
側、即ちチヤンバ3と5との圧力差はかなり大き
くなつており、従つてその後圧縮空気がノズル1
2,13,14,15を通つて流れ続ける間にノ
ズル24,25を通る空気流が生じてチヤンバ4
内の負圧が低減し、それに応じてチヤンバ16の
負圧も低減していくのである。そして、このよう
にノズル24,25を設けた構成にすることによ
つて、この種のエジエクタによつて従来得られな
かつたような負圧、例えば大気圧の1%から0.01
%程度の負圧をチヤンバ16内に得ることができ
るのである。
図示実施例においては、ノズル12−15に対
する圧縮空気もしくは加圧空気の供給源と同一の
供給源からノズル24,45へ空気を供給するよ
うになつている。しかしながら、ノズル24,2
5の両側の圧力差が十分なものであり、しかもチ
ヤンバ16内に生じさせる負圧が大気圧の1%程
度で良いような場合には、そのノズル24,25
に大気圧の空気を供給するようにすることも可能
である。また、図示実施例における各ノズルの配
線状態は、簡単であるにも拘わらず良好な作動を
行える点において好ましいものではあるが、その
ノズルの配列自体を種々変更できることは、当業
者にとつて明らかである。
【図面の簡単な説明】
図面は、本発明の一実施例の多重エジエクタの
図式的な断面図を示す。 3,4,5,6,7……第1ないし第5チヤン
バ、12,13,14,15……第1ないし第4
のノズル(エジエクタノズル)、16……真空収
集チヤンバ、17,18,19,20……第1な
いし第4ポート、24,25……第1及び第2の
ノズル(補助ノズル)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 直列に配列され隔壁によつて真空収集チヤン
    バから分離されている複数のチヤンバを包囲する
    ハウジングを有し、前記複数のチヤンバは、圧力
    供給チヤンバを構成する第1チヤンバと、第1の
    壁によつて第1チヤンバから分離されている第2
    チヤンバと、少なくとも1つの他のチヤンバとを
    有し、前記他のチヤンバが、第2の壁によつて前
    記第2チヤンバから分離されるとともに、該第2
    の壁から隔てられた第3の壁を有しているエジエ
    クタにおいて、 前記第1チヤンバから前記他のチヤンバへ向か
    う流れの方向へ直列に配列された少なくとも1組
    のエジエクタノズルと、前記エジエクタノズルか
    ら隔てられていて前記第1チヤンバから前記他の
    チヤンバへ向かう流れの方向へ直列に配列されて
    いる少なくとも1組の補助ノズルとを具備してお
    り、 前記エジエクタノズルが、第1の壁と第2の壁
    とを貫通して第1チヤンバから前記他のチヤンバ
    へ延びる第1のノズルと、前記第3の壁を貫通し
    て前記他のチヤンバから延びる第2のノズルとを
    有するとともに、前記補助ノズルが、前記第1の
    壁を貫通して第1チヤンバから第2チヤンバへ延
    びる第1のノズルと、前記第2の壁を貫通して第
    2チヤンバから前記他のチヤンバへ延びる第2の
    ノズルとを有しており、また、 前記隔壁を貫通して前記真空収集チヤンバから
    前記第2チヤンバへ延びる第1ポート、及び前記
    隔壁を貫通して前記真空収集チヤンバから前記他
    のチヤンバへ延びる第2ポートと、前記他のチヤ
    ンバ内に配列されて前記第2ポートと共働するチ
    エツク弁とが設けられていることを特徴とするエ
    ジエクタ。 2 特許請求の範囲第1項記載のエジエクタにお
    いて、 前記複数のチヤンバが、前記第3の壁によつて
    前記他のチヤンバから分離されている第4チヤン
    バと、第4の壁によつて前記第4チヤンバから分
    離されている第5チヤンバとを含み、 前記エジエクタノズルの前記第2のノズルが前
    記他のチヤンバから前記第4のチヤンバへ延びる
    とともに、前記エジエクタノズルが、前記第4の
    壁を貫通して前記第4チヤンバから前記第5チヤ
    ンバへ延びる第3のノズルと、前記ハウジングを
    貫通して前記第5チヤンバから延びる第4のノズ
    ルとを含んでおり、また、 前記真空収集チヤンバから前記第4チヤンバへ
    延びる第3ポートと、前記真空収集チヤンバから
    前記第5チヤンバへ延びる第4ポートとを含んで
    おり、また、 前記第4チヤンバ内に配置されて前記第3ポー
    トと共働するチエツク弁と、前記第5チヤンバ内
    に配置されて前記第4ポートと共働するチエツク
    弁とが設けられていることを特徴とするエジエク
    タ。 3 特許請求の範囲第1項記載のエジエクタにお
    いて、前記第1チヤンバ内に加圧空気を供給する
    装置が設けられていることを特徴とするエジエク
    タ。
JP56075794A 1980-05-21 1981-05-21 Multiple ejector Granted JPS5752000A (en)

Applications Claiming Priority (1)

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SE8003819A SE427955B (sv) 1980-05-21 1980-05-21 Multiejektor

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JPS5752000A JPS5752000A (en) 1982-03-27
JPH024799B2 true JPH024799B2 (ja) 1990-01-30

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ID=20341011

Family Applications (1)

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JP56075794A Granted JPS5752000A (en) 1980-05-21 1981-05-21 Multiple ejector

Country Status (11)

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US (1) US4395202A (ja)
EP (1) EP0041055B1 (ja)
JP (1) JPS5752000A (ja)
AT (1) ATE9112T1 (ja)
AU (1) AU549446B2 (ja)
DE (2) DE41055T1 (ja)
DK (1) DK151496C (ja)
ES (1) ES8204087A1 (ja)
FI (1) FI811552L (ja)
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WO2009016828A1 (ja) * 2007-07-30 2009-02-05 Masashi Nishimoto エアー増幅器、エアー循環回路

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